膜及其制备方法技术

本申请公开了膜及其制备方法。膜包括：基底层，其中所述基底层的至少一个表面上包括一个或多个第一阻挡层；以及，设置于至少一个阻挡层表面的第二阻挡层。由于该膜的基底层的至少一个表面上包括一个或多个第一阻挡层，并且该膜还包括设置于至少一个第一阻挡层表面的第二阻挡层，通过这种第一阻挡层叠加第二阻挡层的方式，即使第一阻挡层中出现孔隙、针孔、裂缝等，也可以通过第二阻挡层来进行密封，相对于现有技术，能够提高密封性能。

Membrane and its preparation

【技术实现步骤摘要】
膜及其制备方法
本申请涉及材料加工
，尤其涉及膜及其制备方法。
技术介绍
随着社会的不断发展，在食物、饮料瓶、药品、光学和电子工业等的密封过程中，通常需要用到塑料膜、金属箔等膜。现有的膜受限于制备材料、制备工艺等，通常会在表面形成微小的孔隙、针孔、裂缝等，从而影响膜的密封性能。因此需要提供一种密封性能更加优良的膜，以解决现有技术中的问题。
技术实现思路
本申请实施例提供膜及其制备方法，用于解决现有技术中的膜密封性能较差的问题。本申请实施例提供了一种膜的制备方法，包括：提供一基底层，其中所述基底层的至少一个表面上包括一个或多个第一阻挡层；在所述基底层的至少一个第一阻挡层的表面生成第二阻挡层。优选的，在所述基底层的至少一个第一阻挡层的表面生成第二阻挡层，具体包括：将金属材料通过磁控溅射的方式，在所述基底层的至少一个第一阻挡层的表面生成第二阻挡层。优选的，在所述基底层的至少一个第一阻挡层的表面生成第二阻挡层，具体包括：利用石墨烯材料或水溶性高分子材料在所述基底层的至少一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种膜的制备方法，其特征在于，包括：/n提供一基底层，其中所述基底层的至少一个表面上包括一个或多个第一阻挡层；/n在所述基底层的至少一个第一阻挡层的表面生成第二阻挡层。/n

【技术特征摘要】
1.一种膜的制备方法，其特征在于，包括：
提供一基底层，其中所述基底层的至少一个表面上包括一个或多个第一阻挡层；
在所述基底层的至少一个第一阻挡层的表面生成第二阻挡层。


2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述基底层的至少一个第一阻挡层的表面生成第二阻挡层，具体包括：
将金属材料通过磁控溅射的方式，在所述基底层的至少一个第一阻挡层的表面生成第二阻挡层。


3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述基底层的至少一个第一阻挡层的表面生成第二阻挡层，具体包括：
利用石墨烯材料在所述基底层的至少一个第一阻挡层的表面生成第二阻挡层。


4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述基底层的至少一个第一阻挡层的表面生成第二阻挡层，具体包括：
通过所述第一阻挡层表面的第一反应物与第二阻挡层表面的第二反应物的化学反应，将所述第二阻挡层固定于所述第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：林小锋，
申请(专利权)人：苏州普希环保科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32