【技术实现步骤摘要】
一种工件储存运输装置
本专利技术涉及硅片制造
,更具体地,涉及一种工件储存运输装置。
技术介绍
在半导体材料的加工过程中,硅片作为半导体器件和集成电路常用的基础材料,通常需要进行抛光处理,抛光效果的好坏将直接影响到硅片的质量和半导体器件的性能。目前,经抛光设备抛光后未清洗的硅片通常先储存在装满水的超声波水车中,水车中包括水槽,硅片被放置在水槽内,等到水槽装满硅片之后再运输至清洗设备中进行清洗。然而,由于抛光工艺时间较长,使得装满水槽所需时间较长,例如,装满可容纳25片硅片的水槽需要2小时左右。在这个过程中,抛光过程中产生的SiO2等颗粒或污染物会吸附在硅片表面,大大增加了硅片后续的清洗难度。另外,现有的超声波水车盛放硅片的水槽与运输机构不可分离,需要工作人员手动抓取水槽中的硅片放置到清洗设备中,这增加了来自工作人员的不可控因素,且存在硅片被污染的可能性。
技术实现思路
为了解决现有技术中存在的上述问题,本专利技术提供了一种工件储存运输装置。本专利技术要解决的技术问题通过以下技术方案实 ...
【技术保护点】
1.一种工件储存运输装置,其特征在于,包括储存机构、运输机构和超声波系统,其中,/n所述储存机构包括保护容器(1)和容纳在所述保护容器(1)中的清洗槽(2),所述清洗槽(2)的顶部包括用于放置待运输工件的开口(21);所述运输机构包括水平设置的载物板(4),所述保护容器(1)以可拆卸的方式固定在所述载物板(4)上;所述超声波系统设置在所述载物板(4)上,用于使所述清洗槽(2)中的清洗液进行超声振动。/n
【技术特征摘要】
1.一种工件储存运输装置,其特征在于,包括储存机构、运输机构和超声波系统,其中,
所述储存机构包括保护容器(1)和容纳在所述保护容器(1)中的清洗槽(2),所述清洗槽(2)的顶部包括用于放置待运输工件的开口(21);所述运输机构包括水平设置的载物板(4),所述保护容器(1)以可拆卸的方式固定在所述载物板(4)上;所述超声波系统设置在所述载物板(4)上,用于使所述清洗槽(2)中的清洗液进行超声振动。
2.根据权利要求1所述的工件储存运输装置,其特征在于,所述载物板(4)上设置有多个可升降固定销(5),所述可升降固定销(5)能够缩进或伸出所述载物板(4);所述保护容器(1)的底部外表面上开设有多个固定槽(6),并且所述可升降固定销(5)在伸出所述载物板(4)时能够插入对应的所述固定槽(6)中。
3.根据权利要求2所述的工件储存运输装置,其特征在于,所述固定槽(6)的内径略大于所述可升降固定销(5)的外径。
4.根据权利要求2所述的工件储存运输装置,其特征在于,所述运输机构上还设置有脚踏板,所述脚踏板连接至所述可升降固定销(5),以控制所述可升降固定销(5)进行升降。
5.根据权利要求2所述的工件储存运输装置,其特征在于,所述超声波系统包括彼此电连接的超声波振动板(7)和超声波发生机构(8),其中,所述超声波振动板(7)设置在所述保护容器(1)的内部,且所述清洗槽(...
【专利技术属性】
技术研发人员:李昀泽,
申请(专利权)人:西安奕斯伟硅片技术有限公司,
类型:发明
国别省市:陕西;61
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。