一种工件储存运输装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种工件储存运输装置，包括储存机构、运输机构和超声波系统，其中，储存机构包括保护容器和容纳在保护容器中的清洗槽，清洗槽的顶部包括用于放置待运输工件的开口；运输机构包括水平设置的载物板，保护容器以可拆卸的方式固定在载物板上；超声波系统设置在载物板上，用于使清洗槽中的清洗液进行超声振动。该工件储存运输装置适用于抛光后未清洗工件的储存及运输过程，可大幅度减少未清洗工件表面颗粒等杂质，降低后续清洗设备的清洗压力，提高最终产品的质量，且本发明专利技术的清洗槽可以方便地从运输机构上分离并直接运输到后续清洁设备中，可实现清洗设备抓取工件的自动化。

A device for storing and transporting workpieces

【技术实现步骤摘要】
一种工件储存运输装置
本专利技术涉及硅片制造
，更具体地，涉及一种工件储存运输装置。
技术介绍
在半导体材料的加工过程中，硅片作为半导体器件和集成电路常用的基础材料，通常需要进行抛光处理，抛光效果的好坏将直接影响到硅片的质量和半导体器件的性能。目前，经抛光设备抛光后未清洗的硅片通常先储存在装满水的超声波水车中，水车中包括水槽，硅片被放置在水槽内，等到水槽装满硅片之后再运输至清洗设备中进行清洗。然而，由于抛光工艺时间较长，使得装满水槽所需时间较长，例如，装满可容纳25片硅片的水槽需要2小时左右。在这个过程中，抛光过程中产生的SiO2等颗粒或污染物会吸附在硅片表面，大大增加了硅片后续的清洗难度。另外，现有的超声波水车盛放硅片的水槽与运输机构不可分离，需要工作人员手动抓取水槽中的硅片放置到清洗设备中，这增加了来自工作人员的不可控因素，且存在硅片被污染的可能性。
技术实现思路
为了解决现有技术中存在的上述问题，本专利技术提供了一种工件储存运输装置。本专利技术要解决的技术问题通过以下技术方案实现：本专利技术提供了一种工件储存运输装置，包括储存机构、运输机构和超声波系统，其中，所述储存机构包括保护容器和容纳在所述保护容器中的清洗槽，所述清洗槽的顶部包括用于放置待运输工件的开口；所述运输机构包括水平设置的载物板，所述保护容器以可拆卸的方式固定在所述载物板上；所述超声波系统设置在所述载物板上，用于使所述清洗槽中的清洗液进行超声振动。在本专利技术的一个实施例中，所述载物板上设置有多个可升降固定销，所述可升降固定销能够缩进或伸出所述载物板；所述保护容器的底部外表面上开设有多个固定槽，并且所述可升降固定销在伸出所述载物板时能够插入对应的所述固定槽中。在本专利技术的一个实施例中，所述固定槽的内径略大于所述可升降固定销的外径。在本专利技术的一个实施例中，所述运输机构上还设置有脚踏板，所述脚踏板连接至所述可升降固定销，以控制所述可升降固定销进行升降。在本专利技术的一个实施例中，所述超声波系统包括彼此电连接的超声波振动板和超声波发生机构，其中，所述超声波振动板设置在所述保护容器的内部，且所述清洗槽设置在所述超声波振动板上。在本专利技术的一个实施例中，所述超声波发生机构固定在所述载物板的下表面。在本专利技术的一个实施例中，所述多个可升降固定销中的一个的内部设置有所述超声波发生机构的信号接收顶针，所述超声波振动板通过线缆连接至所述信号接收顶针。在本专利技术的一个实施例中，所述运输机构上还设置有溢流系统，所述溢流系统连接至所述清洗槽，以控制所述清洗槽内的清洗液以自下而上流动的方式清洗所述工件。在本专利技术的一个实施例中，所述溢流系统包括循环管路、循环泵和过滤器，其中，所述循环管路的第一端连接至所述清洗槽的上部，第二端连接至所述清洗槽的底部；所述循环泵和所述过滤器设置在所述循环管路上，所述循环泵用于控制所述清洗液从所述清洗槽的上部通过所述循环管路流回所述清洗槽的底部。在本专利技术的一个实施例中，位于所述清洗槽顶部的所述开口沿周向方向设置有溢流收集槽，所述循环管路的第一端连接至所述溢流收集槽的底部。与现有技术相比，本专利技术的有益效果在于：1、本专利技术的工件储存运输装置适用于抛光后未清洗工件(例如抛光后未清洗的硅片)的储存及运输过程，可在运输过程中对工件进行预清洗，大幅度减少工件表面颗粒等杂质量，防止抛光过程中产生的杂质颗粒或污染物会吸附在工件表面，从而降低后续清洗设备的清洗压力，提高最终产品的质量。2、本专利技术的工件储存运输装置，存储待运输工件的清洗槽以可拆卸的方式固定在运输机构上，可以方便地从运输机构上分离并直接运送到后续清洁设备中，可实现清洗设备抓取工件的自动化。以下将结合附图及实施例对本专利技术做进一步详细说明。附图说明图1是本专利技术实施例提供的一种工件储存运输装置的结构透视图；图2是本专利技术实施例提供的一种储存机构的结构透视图；图3是示出了处于缩进状态的可升降固定销的一种运输机构的结构示意图；图4是示出了处于伸出状态的可升降固定销的一种运输机构的结构示意图；图5是本专利技术实施例提供的一种溢流系统的结构示意图。附图标记说明如下：1-保护容器；2-清洗槽；21-开口；3-硅片；4-载物板；5-可升降固定销；6-固定槽；7-超声波振动板；8-超声波发生机构；9-信号接收顶针；10-线缆；11-循环管路；12-循环泵；13-过滤器；14-溢流收集槽；15-喷嘴；16-车轮；17-扶手。具体实施方式为了使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例的附图，对本专利技术实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。有关本专利技术的前述及其他
技术实现思路
、特点及功效，在以下配合附图的具体实施方式详细说明中即可清楚地呈现。通过具体实施方式的说明，可对本专利技术为达成预定目的所采取的技术手段及功效进行更加深入且具体地了解，然而所附附图仅是提供参考与说明之用，并非用来对本专利技术的技术方案加以限制。应当说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的物品或者设备中还存在另外的相同要素。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也相应地改变。实施例一请参见图1和图2，图1是本专利技术实施例提供的一种工件储存运输装置的结构透视图；图2是本专利技术实施例提供的一种储存机构的结构透视图。本实施例的工件储存运输装置包括储存机构、运输机构和超声波系统，适用于抛光后未清洗工件的储存及运输过程，可在运输过程中对工件进行预清洗，大幅度减少工件表面颗粒等杂质量，防止抛光过程中产生的杂质颗粒或污染物会吸附在工件表面，降低后续清洗设备清洗的压力，提高最终产品的质量。需要说明的是，上述工件可以是抛光后未清洗的硅片，也可以是抛光后未清洗的金属等其他工件，这里不做限制。所述储存机构包括保护容器1和容纳在保护容器1中的清洗槽2，清洗槽2的顶部包括用于放置待运输工件(在本实施例中为硅片)的开口21。在本实施例中，清洗槽2中可以同时放置多个硅片，多个硅片在清洗槽2中竖向平行放置，且相邻硅片之间存在间隙。清洗槽2的内部盛有清洗液，清洗液用于对硅片的表面进行预清洗，以在硅片被运输到后续清洗设备之前预先清除其表面的杂质颗粒，降低后续清洗压力。在本实施例中，所述清洗液可选为超纯水。然而，对本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种工件储存运输装置，其特征在于，包括储存机构、运输机构和超声波系统，其中，/n所述储存机构包括保护容器(1)和容纳在所述保护容器(1)中的清洗槽(2)，所述清洗槽(2)的顶部包括用于放置待运输工件的开口(21)；所述运输机构包括水平设置的载物板(4)，所述保护容器(1)以可拆卸的方式固定在所述载物板(4)上；所述超声波系统设置在所述载物板(4)上，用于使所述清洗槽(2)中的清洗液进行超声振动。/n

【技术特征摘要】
1.一种工件储存运输装置，其特征在于，包括储存机构、运输机构和超声波系统，其中，
所述储存机构包括保护容器(1)和容纳在所述保护容器(1)中的清洗槽(2)，所述清洗槽(2)的顶部包括用于放置待运输工件的开口(21)；所述运输机构包括水平设置的载物板(4)，所述保护容器(1)以可拆卸的方式固定在所述载物板(4)上；所述超声波系统设置在所述载物板(4)上，用于使所述清洗槽(2)中的清洗液进行超声振动。


2.根据权利要求1所述的工件储存运输装置，其特征在于，所述载物板(4)上设置有多个可升降固定销(5)，所述可升降固定销(5)能够缩进或伸出所述载物板(4)；所述保护容器(1)的底部外表面上开设有多个固定槽(6)，并且所述可升降固定销(5)在伸出所述载物板(4)时能够插入对应的所述固定槽(6)中。


3.根据权利要求2所述的工件储存运输装置，其特征在于，所述固定槽(6)的内径略大于所述可升降固定销(5)的外径。


4.根据权利要求2所述的工件储存运输装置，其特征在于，所述运输机构上还设置有脚踏板，所述脚踏板连接至所述可升降固定销(5)，以控制所述可升降固定销(5)进行升降。


5.根据权利要求2所述的工件储存运输装置，其特征在于，所述超声波系统包括彼此电连接的超声波振动板(7)和超声波发生机构(8)，其中，所述超声波振动板(7)设置在所述保护容器(1)的内部，且所述清洗槽(...

【专利技术属性】
技术研发人员：李昀泽，
申请(专利权)人：西安奕斯伟硅片技术有限公司，
类型：发明
国别省市：陕西;61