修复剂及其应用制造技术

本发明专利技术涉及一种修复剂，所述修复剂包括第一溶剂以及分散于所述第一溶剂中的成膜剂，所述成膜剂的分子链中包括硅羟基，所述修复剂用于形成修复层，辐射制冷膜的热反射率为m

Repair agent and its application

【技术实现步骤摘要】
修复剂及其应用
本专利技术涉及辐射制冷
，尤其涉及一种修复剂及其应用。
技术介绍
辐射制冷是指通过红外辐射方式从大气窗口将热量直接释放到外太空的制冷方式。辐射制冷的特征就是制冷体的表面温度恒低于气温，然后通过传导将辐射制冷体温度降低到气温以下，从而达到辐射制冷的目的。目前已经市场化的辐射制冷产品主要为辐射制冷薄膜，可以根据使用需求将辐射制冷膜粘贴在待降温物体的外表面。辐射制冷膜较薄，在使用过程中容易破损，辐射制冷膜破损后一方面会影响辐射制冷膜的辐射制冷效率，另一方面，辐射制冷膜内的反射镀层与空气中的水氧接触后，容易被氧化或腐蚀，从而影响其反射功能的发挥，并缩短辐射制冷膜的使用寿命。现有的修复剂通常通过涂料中的固化剂、引发剂或催化剂以诱发高分子交联，其成膜过程较为复杂，且涂料成本较高，不便于实际使用。
技术实现思路
鉴于此，有必要针对上述技术问题提供一种修复剂及其应用，其成膜过程简单，成膜性能好，且该修复层对辐射制冷膜的制冷效率影响较小。根据本专利技术的一个方面，提供一种修复剂，所述修复剂包括第一溶剂以及分散于所述第一溶剂中的成膜剂，所述成膜剂的分子链中包括硅羟基，所述修复剂用于在辐射制冷膜的表面形成第一修复层，所述辐射制冷膜的热反射率为m1、热吸收率为n1，包括所述第一修复层的辐射制冷膜的热反射率为m2、热吸收率为n2，m2-m1的差值为x1，x1≥-5％、n2-n1的差值为y1，y1≤3％。在其中一个实施例中，所述成膜剂包括甲基苯基硅树脂、甲基硅树脂、二羟基聚二甲基硅氧烷中的至少一种；及/或，所述第一溶剂包括丙二醇甲醚醋酸酯、乙酸乙酯、丙二醇中的至少一种。在其中一个实施例中，所述修复剂中，所述成膜剂与所述第一溶剂的质量比为(800～1000):(100～400)，所述修复剂的粘度为100cst～2000cst。在其中一个实施例中，所述修复剂还包括消泡剂，所述消泡剂与所述成膜剂的质量比为(1～5):(800～1000)；及/或，所述修复剂还包括流平剂，所述流平剂与所述成膜剂的质量比为(1～5):(800～1000)。在其中一个实施例中，所述修复剂中还包括金属浆料，所述金属浆料包括第二溶剂以及分散于所述第二溶剂中的金属颗粒，所述修复剂用于在辐射制冷膜的表面形成第二修复层，所述第二修复层对300nm～2500nm波段的太阳辐射具有80％以上的反射率，包括所述第二修复层的辐射制冷膜的热反射率为m3、热吸收率为n3，m3-m1的差值为x1，x1≥-1％、n3-n1的差值为y1，y1≤1％。在其中一个实施例中，所述修复剂中，所述金属浆料与所述成膜剂的质量比为(100～300):(800～1000)。在其中一个实施例中，所述金属颗粒在所述金属浆料中所占的质量分数为10％～50％；及/或，所述金属颗粒的粒径为5μm～8μm。在其中一个实施例中，所述金属颗粒包括银颗粒和铝颗粒。在其中一个实施例中，所述银颗粒在所述金属颗粒中所占的质量分数为10％～30％。在其中一个实施例中，所述金属颗粒的形状呈雪花状，且所述铝颗粒在所述金属浆料的表面定向排列并形成铝膜。根据本专利技术的另一个方面，提供一种修复剂的用途，所述修复剂用于对辐射制冷膜进行修复。与现有技术相比，本专利技术的所述制备方法的有益效果在于：该成膜剂的分子链中包括有活泼的硅羟基，能够与待辐射制冷膜上的受损处通过形成化学键而成膜，所形成的修复层具有较好的附着力。且包括该修复层的辐射制冷膜其热反射率和热吸收率受影响较小，从而不会影响辐射制冷膜的制冷效果。具体实施方式下面将对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本专利技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。本文中的术语“第一”、“第二”等是用于区别不同的对象，而不是用于描述特定顺序。此外，本文中的术语“包括”和“具有”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。本文中所说的“太阳辐射”主要是指从约300nm至2.5μm波长的电磁辐射。本文中关于材料或结构所使用的“反射率”是从表面反射出的任何入射电磁辐射的分数。将完美反射体定义为具有1的反射率，并且将完美吸收体定义为具有零的反射率。本文中所说的高反射率，是指该材料或结构在规定范围内具有大于约80％的反射率。本文中关于材料或结构所使用的“发射率”是其在发射以电磁辐射形状的能量方面的有效性。将完美黑体发射体定义为具有1的发射率，并将完美非发射体定义为具有零的发射率。本文中所说的高发射率，是指该材料或结构在规定范围内具有大于约80％的发射率。本文中关于材料或结构所使用的“透过率”是指在规定波段内，透射穿过材料或结构的电磁波的比例。将不透明的材料或结构定义为具有零的透射率。本文中所说的高透过率，是指该材料或结构在规定范围内具有大于约80％的透过率。本专利技术提供一种修复剂，所述修复剂包括第一溶剂以及分散于所述第一溶剂中的成膜剂，所述成膜剂的分子链中包括硅羟基，所述修复剂用于形成第一修复层，辐射制冷膜的热反射率为m1、热吸收率为n1，包括所述第一修复层的辐射制冷膜的热反射率为m2、热吸收率为n2，m2-m1的差值为x1，x1≥-5％、n2-n1的差值为y1，y1≤3％。辐射制冷膜被划伤或受到破坏时，能够通过涂覆该修复剂对辐射制冷膜进行快速修复，且该修复剂与辐射制冷膜破损处的游离的自由基进行反应，并形成化学键，从而与辐射制冷膜之间具有良好的界面结合力与附着力，并提高了辐射制冷膜的使用寿命。化学键之间的作用力较为强烈，并能快速形成，因此该修复剂能够快速附着在辐射制冷膜的破损处并成膜，该过程较为简单，在成膜时更不需要通过固化剂、引发剂或催化剂来触发聚合反应。此外，包括该修复层的辐射制冷膜其热反射率和热吸收率受影响较小，从而不会影响辐射制冷膜的制冷效果。增加的热吸收率有限，并不影响辐射制冷膜的制冷效果。应予说明，现有的辐射制冷膜通常包括辐射制冷功能层以及位于辐射制冷功能层外表面的保护层，当辐射制冷膜在户外使用时，需要经受严苛的气候条件的考验，设置有保护层的辐射制冷膜耐候性好。通常的，保护层包括有机氟聚合物层、有机硅聚合物层、氟硅共聚物树脂层、聚乙烯-尼龙复合膜层、乙烯-乙烯醇共聚物层、聚丙烯-尼龙复合膜层中的一种或多种。所述保护层材料因具有优良的光学性能、耐候性能和阻隔性能，进而具有优异的透明度、耐热性、耐氧化性、耐药品性、和防腐性。并且，保护层的厚度在1μm到300μm之间。本专利技术提供的修本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种修复剂，其特征在于，所述修复剂包括第一溶剂以及分散于所述第一溶剂中的成膜剂，所述成膜剂的分子链中包括硅羟基，所述修复剂用于在辐射制冷膜的表面形成第一修复层，所述辐射制冷膜的热反射率为m

【技术特征摘要】
1.一种修复剂，其特征在于，所述修复剂包括第一溶剂以及分散于所述第一溶剂中的成膜剂，所述成膜剂的分子链中包括硅羟基，所述修复剂用于在辐射制冷膜的表面形成第一修复层，所述辐射制冷膜的热反射率为m1、热吸收率为n1，包括所述第一修复层的辐射制冷膜的热反射率为m2、热吸收率为n2，m2-m1的差值为x1，x1≥-5％、n2-n1的差值为y1，y1≤3％。


2.根据权利要求1所述的修复剂，其特征在于，所述成膜剂包括甲基苯基硅树脂、甲基硅树脂、二羟基聚二甲基硅氧烷中的至少一种；
及/或，所述第一溶剂包括丙二醇甲醚醋酸酯、乙酸乙酯、丙二醇中的至少一种。


3.根据权利要求1所述的修复剂，其特征在于，所述修复剂中，所述成膜剂与所述第一溶剂的质量比为(800～1000):(100～400)，所述修复剂的粘度为100cst～2000cst。


4.根据权利要求1所述的修复剂，其特征在于，所述修复剂还包括消泡剂，所述消泡剂与所述成膜剂的质量比为(1～5):(800～1000)；
及/或，所述修复剂还包括流平剂，所述流平剂与所述成膜剂的质量比为(1～5):(800～1000)。


5.根据权利要求1～4任一项所述的修复剂，其特征在于，所述修复剂中还包...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄锦岳，万容兵，王明辉，其他发明人请求不公开姓名，
申请(专利权)人：宁波瑞凌新能源科技有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33