化合物、潜在性紫外线吸收剂、组合物、固化物及固化物的制造方法技术

本发明专利技术涉及以下述通式(I‑1)表示的化合物。(式中，A表示具有紫外线吸收能力的原子团，B表示光离去基，k表示1～10的整数。)本发明专利技术涉及一种组合物，其含有下述通式(I‑2)所表示的化合物和来自光离去基的离去物。(式中，A表示具有紫外线吸收能力的原子团，k表示1～10的整数。)

Manufacturing methods of compounds, potential ultraviolet absorbers, compositions, solidified products and solidified products

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】化合物、潜在性紫外线吸收剂、组合物、固化物及固化物的制造方法
本专利技术涉及一种固化阻碍少、可对固化物容易地赋予紫外线吸收能力等的化合物。
技术介绍
为了提高固化性组合物的紫外线吸收能力或耐热性，已知有在固化性组合物中添加紫外线吸收剂或紫外线吸收剂而使其稳定化的方法(专利文献1～3)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2011-048382号公报专利文献2：US2016016919A1专利文献3：日本特开2015-108649号公报
技术实现思路
然而，专利文献1～3所记载的紫外线吸收剂存在有时会阻碍固化性组合物的固化的问题。针对此种问题，本专利技术人等发现：紫外线吸收剂具有吸收为了使固化性组合物固化而照射的光的作用，及由于具有此种作用，故而在将紫外线吸收剂添加于聚合体系内时，有时产生固化阻碍。作为上述问题的解决手段，已知在聚合体系内可将上述吸收光的作用不活化且在固化后能活化的潜在性添加剂。然而，对于能够在固化后活化的潜在性添加剂的活化，有时需要加热等，结果有时要求更容易的活化。本专利技术是鉴于上述问题而完成的，其主要目的在于提供一种固化阻碍少、可对固化物容易地赋予紫外线吸收能力等的化合物。本专利技术人等为了解决上述问题而进行了锐意硏究，结果发现，通过使用光离去基作为保护基，利用该光离去基来保护紫外线吸收剂所含的酚性羟基，调整表现出紫外线吸收能力的时期变得容易，能够解决上述问题，从而完成本专利技术。即，本专利技术提供以下述通式(I-1)表示的化合物。(式中，A表示具有紫外线吸收能力的原子团，B表示光离去基，k表示1～10的整数。)另外，本专利技术提供含有以上述通式(I-1)表示的化合物的潜在性紫外线吸收剂。另外，本专利技术提供含有以上述通式(I-1)表示的化合物的组合物。另外，本专利技术提供含有以上述通式(I-1)表示的化合物和聚合性化合物的组合物的固化物。另外，本专利技术提供一种固化物的制造方法，其具有下述工序：使含有以上述通式(I-1)表示的化合物和聚合性化合物的组合物固化而形成固化物的工序；和对上述固化物照射光，使以上述通式(I-1)表示的化合物中含有的光离去基离去的工序。另外，本专利技术提供一种组合物(以下有时称为“第2组合物”)，其含有下述通式(I-2)所表示的化合物(以下有时称为“化合物I-2”)和来自光离去基的离去物(以下有时称为“化合物B’”)。(式中，A为具有紫外线吸收能力的原子团，k表示1～10的整数。)具体实施方式本专利技术涉及化合物以及使用了其的紫外线吸收剂、组合物、其固化物、固化物的制造方法及第2组合物。以下，对它们进行详细说明。A.化合物首先，对本专利技术的化合物进行说明。本专利技术的化合物以下述通式(I-1)表示(以下，也将本专利技术的化合物称为化合物I-1)。(式中，A为具有紫外线吸收能力的原子团，B为光离去基，k表示1～10的整数。)本专利技术的化合物I-1是原子团A具有紫外线吸收能力的化合物。本专利技术的化合物I-1在光离去基B离去前紫外线吸收能力低，但在光离去基B离去后，基于原子团A而显示出优异的紫外线吸收能力。因此，在将光离去基B离去前的化合物I-1例如添加于聚合体系内时，化合物I-1因紫外线吸收能力低，所以为了聚合而照射的光的吸收能力低，不易阻碍聚合体系的固化。另一方面，本专利技术的化合物I-1通过照射光，光离去基离去而表现出优异的紫外线吸收能力。因此，通过对含有化合物I-1的固化物进行光照射，可容易地对该固化物赋予紫外线吸收能力。化合物I-1没有必要为了表现其紫外线吸收能力而进行加热处理，因此具有不易对固化物及基材等其周边构件造成由加热带来的损伤的优点。由于以上理由，上述化合物I-1例如固化阻碍少，可对固化物容易地赋予紫外线吸收能力等。另外，本专利技术的化合物I-1在光离去基B离去前，为了表现感光性而照射的光的吸收能力低。因此，在将化合物I-1添加于对碱性显影液的溶解性会因光照射发生变化的感光性组合物中时，可稳定地表现出感光性。另外，上述化合物I-1通过对感光性组合物实施可离去光离去基的光照射，能够容易地赋予紫外线吸收能力等。这样，上述化合物I-1对于感光性组合物而言，感光性的表现阻碍少，可对感光性组合物容易地赋予紫外线吸收能力等。进而，本专利技术的化合物I-1通过具有光离去基B，例如能够容易地调整组合物中的分散或溶解稳定性。化合物I-1通过以提高与组合物所含的其他成分的亲和性的方式选择光离去基B，能够赋予组合物中的优异的分散性。因此，上述化合物I-1可对组合物赋予优异的紫外线吸收能力，并且也可赋予使用前的保存时等的优异的分散稳定性。以下，对本专利技术的化合物I-1进行详细说明。1.光离去基B本专利技术的化合物I-1具有光离去基B。本专利技术中的光离去基可设为通过照射特定波长的光而能够从化合物I-1离去的基团。若对化合物I-1照射特定波长的光，则光离去基B从化合物I-1离去，生成下述通式(I-2)所表示的含有羟基与具有紫外线吸收能力的原子团A的化合物。(式中，A表示具有紫外线吸收能力的原子团，k表示1～10的整数。)光离去基B从化合物I-1离去的光的波长例如为紫外线或可见光线的波长区域。具体而言，可设为包含365nm的波长的区域，更具体而言，可设为包含250nm以上且450nm以下的波长的光的区域，优选可设为包含280nm以上且380nm以下的波长的光的区域。为了将光离去基B从上述化合物I-1离去而照射的光的累计光量例如可设为1000mJ/cm2以上且10000mJ/cm2以下，优选为1000mJ/cm2以上且5000mJ/cm2以下，更优选为2000mJ/cm2以上且4000mJ/cm2以下。作为为了使含有聚合性化合物等的组合物固化而照射的光的累计光量，通常可设为低于1000mJ/cm2。因此，通过使累计光量为上述范围，例如在光固化性组合物中的应用变得容易。此外，所谓光离去基B离去，只要可赋予所期望的紫外线吸收能力即可，例如光离去基的离去率可设为达到50％以上，尤其优选达到80％以上。这是由于在光固化性组合物中的应用变得容易。另一方面，上述化合物I-1中作为抑制光离去的累计光量，只要可获得所期望的固化阻碍抑制效果即可，可设为低于1000mJ/cm2。这是由于在光固化性组合物中的应用变得容易。另外，所谓抑制光离去，只要可获得所期望的固化阻碍抑制效果即可，例如光离去基B的离去率可设为达到低于50％，尤其优选达到20％以下。这是由于在光固化性组合物中的应用变得容易。关于上述累计光量，可制备化合物I-1的0.01质量％乙腈溶液，使用与实施例中记载的离去率的测定方法相同的方法进行测定。作为满足上述要件的光离去基B，具体而言，可列举下述通式(B-1)、(B-2)、(B-3本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种化合物，其以下述通式(I-1)表示，/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171005 JP 2017-1955151.一种化合物，其以下述通式(I-1)表示，



式中，A表示具有紫外线吸收能力的原子团，B表示光离去基，k表示1～10的整数。


2.根据权利要求1所述的化合物，其中，所述通式(I-1)中的B含有下述通式(B-1)、(B-2)、(B-3)、(B-4)、(B-5)、(B-6)、(B-7)、(B-8)、(B-9)及(B-10)所表示的基团中的至少1种，



式中，R11、R13、R16、R18、R19、R20、R23、R26及R28分别独立地表示卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳烷基或碳原子数为2～20的含杂环基，
R12、R14、R17、R21、R22、R24、R25、R27、R29及R30分别独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳烷基或碳原子数为2～20的含杂环基，
R15表示碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳烷基或碳原子数为2～20的含杂环基，
R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29及R30所表示的烷基及芳烷基中的亚甲基有时被碳-碳双键、-O-、-S-、-CO-、-O-CO-、-CO-O-、-O-CO-O-、-O-CO-O-、-S-CO-、-CO-S-、-S-CO-O-、-O-CO-S-、-CO-NH-、-NH-CO-、-NH-CO-O-、-NR’-、>P＝O、-S-S-、-SO2-或它们的组合取代，
所述烷基、芳基、芳烷基及含杂环基有时具有取代基，
R’表示氢原子或碳原子数为1～8的烷基，
多个R11彼此、多个R13彼此、多个R16彼此、多个R18彼此、多个R19彼此、多个R20彼此、多个R23彼此、多个R26彼此及多个R28彼此有时分别键合而形成苯环或萘环，
多个R11、R12、R13、R14、R16、R17、R18、R19、R20、R23、R25、R26、R27、R28、R29及R30有时分别相同，有时不同，
b1、b2、b3、b6、b7、b8及b9分别独立地表示0～4的整数，
b4及b5分别独立地表示0～5的整数，
**表示与所述A-O-的键合位置；



式中，R31及R40分别独立地表示卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳烷基或碳原子数为2～20的含杂环基，
R32、R33、R41、R42、R43及R44分别独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳烷基或碳原子数为2～20的含杂环基，
R31、R32、R33、R40、R41、R42、R43及R44所表示的烷基及芳烷基中的亚甲基有时被碳-碳双键、-O-、-S-、-CO-、-O-CO-、-CO-O-、-O-CO-O-、-O-CO-O-、-S-CO-、-CO-S-、-S-CO-O-、-O-CO-S-、-CO-NH-、-NH-CO-、-NH-CO-O-、-NR’-、>P＝O、-S-S-、-SO2-或它们的组合取代，
所述烷基、芳基、芳烷基及含杂环基有时具有取代基，
c1表示0～5的整数，
c2表示0～4的整数，
**表示与所述A-O-的键合位置。


3.根据权利要求2所述的化合物，其中，所述通式(I-1)表示的化合物是下述通式(A...

【专利技术属性】
技术研发人员：金原有希子，冈田光裕，中屋敷哲千，
申请(专利权)人：株式会社艾迪科，
类型：发明
国别省市：日本;JP