【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有薄的耐久性减反射结构的无机氧化物制品相关申请的交叉引用本申请根据35U.S.C.§119(e)，要求2018年8月17日提交的美国临时申请第62/765,081号的优先权，本文以该申请为基础并将其全文通过引用结合于此。
技术介绍
本公开内容涉及具有薄的耐久性减反射结构的无机氧化物制品及其制造方法，更具体来说，涉及具有薄的多层减反射涂层的制品。覆盖制品通常用于保护电子产品内的器件，用于提供用户界面进行输入和/或显示，和/或许多其它功能。此类产品包括移动装置，例如智能手机、智能手表、mp3播放器和平板电脑。覆盖制品还包括建筑制品，运输制品(例如，用于车辆应用、火车、飞行器、船舶等的内部和外部显示器制品和非显示器制品)，电器制品或者可以受益于部分透明度、耐划痕性、耐磨损性或其组合的任意制品。这些应用通常要求耐划痕性以及最大透光性和最小反射性方面的牢靠光学性能特性。此外，对于一些覆盖应用，在反射和/或透射中所展现或察觉到的颜色没有随着观察角的变化发生可感知的变化是有益的。这是因为，在显示器应用中，如果随着观察角的改变，反射或透射的颜色...
【技术保护点】
1.一种制品，其包括：/n包含相对主表面的无机氧化物基材；和/n布置在无机氧化物基材的第一主表面上的光学膜结构，所述光学膜结构包含约50nm至小于500nm的物理厚度以及以下一种或多种：含硅氧化物、含硅氮化物和含硅氧氮化物，所述光学膜结构，/n其中，制品展现出：在约100nm压痕深度测得的8GPa或更大的硬度，或者在约100nm至约500nm的压痕深度范围测得的9GPa或更大的最大硬度，所述硬度和最大硬度通过布氏压痕计硬度测试测量，以及/n其中，制品展现出小于1％的单侧适光平均反射率。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180817 US 62/765,0811.一种制品，其包括：
包含相对主表面的无机氧化物基材；和
布置在无机氧化物基材的第一主表面上的光学膜结构，所述光学膜结构包含约50nm至小于500nm的物理厚度以及以下一种或多种：含硅氧化物、含硅氮化物和含硅氧氮化物，所述光学膜结构，
其中，制品展现出：在约100nm压痕深度测得的8GPa或更大的硬度，或者在约100nm至约500nm的压痕深度范围测得的9GPa或更大的最大硬度，所述硬度和最大硬度通过布氏压痕计硬度测试测量，以及
其中，制品展现出小于1％的单侧适光平均反射率。
2.如权利要求1所述的制品，其中，所述制品展现出：在约100nm压痕深度测得的10GPa或更大的硬度，或者在约100nm至约500nm的压痕深度范围测得的11GPa或更大的最大硬度，所述硬度和最大硬度通过布氏压痕计硬度测试测量，其中，光学膜结构的物理厚度是约200nm至约450nm，以及其中，制品展现出小于0.6％的单侧适光平均反射率。
3.如权利要求1或2所述的制品，其中，所述制品展现出反射中约-10至+5的a*值以及反射中-10至+2的b*值，a*和b*值分别是在光学膜结构上以近法向入射照射角测量的。
4.如权利要求1或2所述的制品，其中，所述制品展现出反射中约-4至+4的a*值以及反射中-6至-1的b*值，a*和b*值分别是在光学膜结构上以近法向入射照射角测量的。
5.如权利要求1-4中任一项所述的制品，其中，所述制品在约100nm至约500nm的压痕深度范围展现出约12GPa或更大的最大硬度，这是通过布氏压痕计硬度测试测得的。
6.如权利要求1-5中任一项所述的制品，其中，所述光学膜结构包括约-1000MPa(压缩)至约+50MPa(拉伸)的残留应力。
7.如权利要求1-6中任一项所述的制品，其中，所述光学膜结构包含含硅氧化物和含硅氮化物，以及其中，含硅氧化物是氧化硅以及含硅氮化物是氮化硅。
8.如权利要求1-7中任一项所述的制品，其中，所述无机氧化物基材包括选自下组的玻璃：钠钙玻璃、碱性铝硅酸盐玻璃、含碱性硼硅酸盐玻璃和碱性铝硼硅酸盐玻璃。
9.如权利要求8所述的制品，其中，所述玻璃经过化学强化且包括峰值CS是250MPa或更大的压缩应力(CS)层，所述CS层在化学强化玻璃中从第一主表面延伸到约10微米或更大的压缩深度(DOC)。
10.如权利要求1-9中任一项所述的制品，其还包括布置在光学膜结构上的以下任意一种或多种：易清洁涂层、钻石状涂层和耐划痕涂层。
11.如权利要求1-10中任一项所述的制品，其中，所述制品展现出0.2％或更小的镜面分量排除(SCE)值，这是根据氧化铝SCE测试测得的。
12.一种制品，其包括：
包含相对主表面的无机氧化物基材；和
布置在无机氧化物基材的第一主表面上的光学膜结构，所述光学膜结构包括约50nm至小于500nm的物理厚度和多个交替的高折射率层与低折射率层，具有位于第一主表面上的第一低折射率层，以及具有封盖低折射率层，
其中，每层包含以下一种或多种：含硅氧化物、含硅氮化物和含硅氧氮化物，
其中，低折射率层的折射率位于基材的折射率范围内，使得低折射率层的折射率小于约1.8，以及其中，高折射率层包括大于1.8的折射率，
其中，在硬度测试堆叠上，所述高折射率层在约100nm至约500nm的压痕深度上展现出通过布氏压痕计硬度测试测得的18GPa或更大的最大硬度，所述硬度测试堆叠包括布置在所述无机氧化物基材上的物理厚度是约2微米的所述高折射率层，以及
其中，制品展现出小于1％的单侧适光平均反射率。
13.如权利要求12所述的制品，其中，高折射率层所展现出的最大硬度是22GPa或更大，这是通过布氏压痕计硬度测试在约100nm至约500nm的压痕深度在硬度测试堆叠上测得的，所述硬度测试堆叠包括布置在所述无机基材上的物理厚度是约2微米的所述高折射率层，以及其中，光学膜结构的物理厚度是约200nm至约450nm，以及其中，制品展现出小于0.6％的单侧适光平均反射率。
14.如权利要求12或13所述的制品，其中，所述制品展现出反射中约-10至+5的a*值以及反射中-10至+2的b*值，a*和b*值分别是在光学膜结构上以近法向入射照射角测量的。
15.如权利要求12或13所述的制品，其中，所述制品展现出反射中约-4至+4的a*值以及反射中-6至-1的b*值，a*和b*值分别是在光学膜结构上以近法向入射照射角测量的。
16.如权利要求12-15中任一项所述的制品，其中，所述光学膜结构包括约-1000MPa(压缩)至约+50MPa(拉伸)的残留应力。
17.如权利要求12-16中任一项所述的制品，其中，所述无机氧化物基材包括选自下组的玻璃：钠钙玻璃、碱性铝硅酸盐玻璃、含碱性硼硅酸盐玻璃和碱性铝硼硅酸盐玻璃。
18.如权利要求17所述的制品，其中，所述玻璃经过化学强化且包括峰值CS是250MPa或更大的压缩应力(CS)层，所述CS层在化学强化玻璃中从第一主表面延伸到约10微米或更大的压缩深度(DOC)。
19.如权利要求12-18中任一项所述的制品，其还包括布置在光学膜结构上的以下任意一种或多种：易清洁涂层、钻石状涂层和耐划痕涂层。
20.如权利要求12-19中任一项所述的制品，其中，所述多个交替的高折射率层与低折射率层是至少四层(4层)，其中，每层包括含硅氧化物和含硅氮化物中的一种或多种，以及其中，含硅氧化物是氧化硅以及含硅氮化物是氮化硅。
21.如权利要求12-20中任一项所述的制品，其中，与封盖低折射率层相邻的高折射率层的物理厚度是约70...
【专利技术属性】
技术研发人员：S·D·哈特，K·W·科奇三世，L·林，J·J·普莱斯，
申请(专利权)人：康宁股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US
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