一种抛光转盘驱动装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种抛光转盘驱动装置，其包括驱动机构、转盘和机架，其中，驱动机构包括主轴和与主轴的下端相接的驱动电机，驱动电机能驱动主轴转动；转盘连接于主轴的上端并能与主轴同步转动，转盘的底面沿周向连接有至少四个间隔设置的滑块；机架上连接有支撑环板，支撑环板上设有呈圆环形的轨道，滑块连接于轨道上并能沿轨道滑动。本发明专利技术的抛光转盘驱动装置，通过滑块与轨道的配合，既能使得转盘顺畅的转动，又能确保转盘在转动过程中的稳定性，从而保证了随转盘同步转动的抛光头的稳定性，进而使得硅片的抛光厚度能均匀，良品率更高。

A driving device of polishing turntable

【技术实现步骤摘要】
一种抛光转盘驱动装置
本专利技术涉及硅片抛光
，特别涉及一种抛光转盘驱动装置。
技术介绍
在半导体工艺流程中，化学机械抛光是非常重要的一道工序，有时也称之为化学机械平坦化。化学机械抛光亦称为化学机械研磨，其原理是化学腐蚀作用和机械去除作用相结合的加工技术，化学机械抛光是目前机械加工中唯一可以实现表面全局平坦化的技术。一般，硅片要经过三步抛光才能完成抛光工艺，分别为粗抛、第一次精抛和第二次精抛。其中在抛光工作区切换时，抛光头通常是利用抛光转盘驱动旋转切换工位，但现有使用的抛光转盘驱动装置存在着旋转不够稳定，易造成抛光头发生平面偏转或偏移，导致硅片抛光厚度不均。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种能够稳定旋转的抛光转盘驱动装置。为达到上述目的，本专利技术提供了一种抛光转盘驱动装置，其包括：驱动机构，其包括主轴和与所述主轴的下端相接的驱动电机，所述驱动电机能驱动所述主轴转动；转盘，其连接于所述主轴的上端并能与所述主轴同步转动，所述转盘的底面沿周向连接有至少四个间隔设置的滑块；机架，其上连接有支撑环板，所述支撑环板上设有呈圆环形的轨道，所述滑块连接于所述轨道上并能沿所述轨道滑动。如上所述的抛光转盘驱动装置，其中，所述主轴的下端设有连接法兰，所述连接法兰通过安全联轴器与所述驱动电机的输出轴相接。如上所述的抛光转盘驱动装置，其中，所述机架上还连接有至少四个等间隔设置的定位机构，所述转盘的外周面设有多个与各所述定位机构相配合的定位槽，所述定位机构包括定位座、定位销和定位驱动气缸，所述定位座连接于所述机架上，所述定位驱动气缸的缸筒连接于所述定位座上，所述定位销的第一端与所述定位驱动气缸的活塞杆相接，所述定位销的第二端连接有锥头，所述定位驱动气缸的活塞杆能驱动所述定位销移动，所述定位销的移动能带动所述锥头插入所述定位槽内。如上所述的抛光转盘驱动装置，其中，所述机架上连接有至少两个间隔设置的刹车机构，所述刹车机构包括连接座和制动气缸，所述连接座和所述制动气缸的缸筒均连接于所述机架上，所述连接座上能转动的连接有制动杆，所述制动杆的一端连接有制动轮，所述制动气缸的活塞杆能驱动所述制动杆转动，所述制动杆的转动能带动所述制动轮抵接所述转盘的外周面。如上所述的抛光转盘驱动装置，其中，所述机架上连接有用于检测所述转盘旋转角度的槽型开关，所述转盘上连接有至少四个等间隔设置的舌片，所述舌片能插入所述槽型开关内。如上所述的抛光转盘驱动装置，其中，所述转盘上连接有温度传感器。如上所述的抛光转盘驱动装置，其中，所述主轴的外部套设有支撑组件，所述支撑组件包括由上至下依次连接的上端盖、套管和下端盖，所述套管的下部与所述机架相接，所述套管的上端与所述主轴之间设有第一轴承，所述套管的下端与所述主轴之间设有第二轴承，所述上端盖与所述主轴之间设有上油封，所述下端盖与所述主轴之间设有下油封。如上所述的抛光转盘驱动装置，其中，所述主轴的下部套设有轴环，且所述主轴的下部旋接有锁紧螺母，所述轴环的下端面抵接于所述锁紧螺母，所述第二轴承的内圈抵接于所述轴环的上端面。如上所述的抛光转盘驱动装置，其中，所述机架上连接有底板，所述底板套设于所述套管的外部，所述套管的下部外周面设有向外凸出的环形凸起，所述环形凸起的下端面抵接于所述底板。如上所述的抛光转盘驱动装置，其中，所述底板的上表面连接有防水底盖，所述防水底盖套设于所述套管的外部，且所述防水底盖的上端设有环槽，所述转盘的底面连接有防水顶盖，所述防水顶盖能套设于所述套管的外部，且所述防水顶盖的下端能插入所述环槽内。与现有技术相比，本专利技术的优点如下：本专利技术的抛光转盘驱动装置，通过滑块与轨道的配合，既能使得转盘顺畅的转动，又能确保转盘在转动过程中的稳定性，从而保证了随转盘同步转动的抛光头的稳定性，进而使得硅片的抛光厚度能均匀，良品率更高；本专利技术的抛光转盘驱动装置，通过安全联轴器连接主轴与驱动电机，且安全联轴器在实际扭矩大于预设扭矩时会分离，使得驱动主轴转动的操作更加安全可靠；本专利技术的抛光转盘驱动装置，通过设置定位机构，能够增加转盘在加工过程中的稳定性；本专利技术的抛光转盘驱动装置，通过设置刹车机构，使得转盘在遇到突发事故时，能够被制动，从而提高了抛光转盘驱动装置的使用安全性。附图说明以下附图仅旨在于对本专利技术做示意性说明和解释，并不限定本专利技术的范围。其中：图1是本专利技术的抛光转盘驱动装置的结构示意图；图2是图1中A部放大结构示意图；图3是转盘、刹车机构和定位机构的结构示意图；图4是图3中B部放大结构示意图。附图标号说明：100、驱动机构；110、驱动电机；120、主轴；121、连接法兰；122、连接销；123、轴环；124、锁紧螺母；130、安全联轴器；200、转盘；210、滑块；220、防水顶盖；230、舌片；300、机架；310、支撑环板；311、轨道；320、底板；330、防水底盖；400、刹车机构；410、连接座；411、制动杆；412、制动轮；420、制动气缸；500、定位机构；510、定位座；520、定位销；521、锥头；530、定位驱动气缸；540、连接板；600、支撑组件；610、上端盖；611、上油封；620、套管；630、下端盖；631、下油封；640、第一轴承；650、第二轴承；700、槽型开关。具体实施方式为了对本专利技术的技术方案、目的和效果有更清楚的理解，现结合附图说明本专利技术的具体实施方式。其中，形容词性或副词性修饰语“上”和“下”、“内”和“外”的使用仅是为了便于多组术语之间的相对参考，且并非描述对经修饰术语的任何特定的方向限制。另外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量，由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本专利技术的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。如图1所示，本专利技术提供了一种抛光转盘驱动装置，其包括驱动机构100、转盘200和机架300，其中：驱动机构100包括主轴120和与主轴120的下端相接的驱动电机110，具体的，驱动电机110连接于机架300上，驱动电机110的输出轴与主轴120的下端同轴连接，驱动电机110能驱动主轴120转动；转盘200连接于主轴120的上端并能与主轴120同步转动，具体的，主轴120的上端抵接于转盘200的中央，且主轴120的上端通过连接销122与转盘200相接，以使得转盘200与主轴120之间不能相对转动，转盘200只能随主轴120同步转动，转盘200的底面沿周向连接有至少四个间隔设置的滑块210，较佳的，相邻两滑块210之间的距离相等，即若转盘200的底面沿周向连接有四个滑块210，则相邻两滑块210之间相距9本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抛光转盘驱动装置，其特征在于，所述抛光转盘驱动装置包括：/n驱动机构，其包括主轴和与所述主轴的下端相接的驱动电机，所述驱动电机能驱动所述主轴转动；/n转盘，其连接于所述主轴的上端并能与所述主轴同步转动，所述转盘的底面沿周向连接有至少四个间隔设置的滑块；/n机架，其上连接有支撑环板，所述支撑环板上设有呈圆环形的轨道，所述滑块连接于所述轨道上并能沿所述轨道滑动。/n

【技术特征摘要】
1.一种抛光转盘驱动装置，其特征在于，所述抛光转盘驱动装置包括：
驱动机构，其包括主轴和与所述主轴的下端相接的驱动电机，所述驱动电机能驱动所述主轴转动；
转盘，其连接于所述主轴的上端并能与所述主轴同步转动，所述转盘的底面沿周向连接有至少四个间隔设置的滑块；
机架，其上连接有支撑环板，所述支撑环板上设有呈圆环形的轨道，所述滑块连接于所述轨道上并能沿所述轨道滑动。


2.根据权利要求1所述的抛光转盘驱动装置，其特征在于，
所述主轴的下端设有连接法兰，所述连接法兰通过安全联轴器与所述驱动电机的输出轴相接。


3.根据权利要求1所述的抛光转盘驱动装置，其特征在于，
所述机架上还连接有至少四个等间隔设置的定位机构，所述转盘的外周面设有多个与各所述定位机构相配合的定位槽，所述定位机构包括定位座、定位销和定位驱动气缸，所述定位座连接于所述机架上，所述定位驱动气缸的缸筒连接于所述定位座上，所述定位销的第一端与所述定位驱动气缸的活塞杆相接，所述定位销的第二端连接有锥头，所述定位驱动气缸的活塞杆能驱动所述定位销移动，所述定位销的移动能带动所述锥头插入所述定位槽内。


4.根据权利要求1所述的抛光转盘驱动装置，其特征在于，
所述机架上连接有至少两个间隔设置的刹车机构，所述刹车机构包括连接座和制动气缸，所述连接座和所述制动气缸的缸筒均连接于所述机架上，所述连接座上能转动的连接有制动杆，所述制动杆的一端连接有制动轮，所述制动气缸的活塞杆能驱动所述制动杆转动，所述制动杆的转动能带动所述制动轮抵接所述转盘的外周面。
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【专利技术属性】
技术研发人员：杨兆明，颜凯，中原司，
申请(专利权)人：浙江芯晖装备技术有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33