一种清洗头及清洗机制造技术

技术编号:23958833 阅读:21 留言:0更新日期:2020-04-29 03:01
本实用新型专利技术提供一种清洗头及清洗机,该清洗头包括上清洗头和下清洗头,基板位于下清洗头上方且位于上清洗头和下清洗头之间,基板可沿着平行于上清洗头和下清洗头的方向移动,上清洗头和下清洗头均包括至少一个正压腔室和至少一个负压腔室,正压腔室和负压腔室的开口均朝向基板;上清洗头和下清洗头分别包括靠近基板移动方向前端的第一侧面和第二侧面,第一侧面和/或第二侧面为倾斜于基板平面的斜面,且斜面靠近基板的一端朝向清洗头外倾斜,斜面远离基板的一端朝向清洗头内倾斜。解决了现有清洗头中飘向或飘落在清洗头前端的异物容易掉落在已经清洗过的基板上,从而降低基板的清洗效果,导致显示面板的显示性能以及良率降低的问题。

A kind of shampoo and washing machine

【技术实现步骤摘要】
一种清洗头及清洗机
本技术涉及显示设备
,尤其涉及一种清洗头及清洗机。
技术介绍
液晶显示面板具有机身薄、省电、无辐射等众多优点,被广泛的应用于电视、电脑、手机等电子产品中。液晶显示面板通常由阵列基板(TFT基板)、与该阵列基板相对的彩膜基板(CF基板)以及夹设于该阵列基板和彩膜基板之间的液晶层组成,其中,阵列基板上设置有呈矩阵式排列的薄膜晶体管(ThinFilmTransistor,TFT),彩膜基板上通常设置有用于滤光的彩色色阻层、用于遮光及防止不同颜色光混色的黑色矩阵(BlackMatrix,BM)等。在显示面板的许多制程都是基于在基板上实现的,基板的清洁程度很大程度上会影响显示面板的性能,因此,在面板的制程中多会用到干式的清洗机。目前,现有的干式清洗机主要起到清洗效果的是清洗头,参见图1,现有的清洗头包括有上清洗头10和下清洗头20,待清洗的基板30位于上清洗头10和下清洗头20之间,并且能够沿着与清洗头平行的方向移动,这样沿着基板30的移动方向(图中a方向),清洗头包括有前端和后端两个端面,且前端端面和后端端面均与基板30平面垂直的竖直面,其中,上清洗头10和下清洗头20均包括有正压腔室40,在正压腔室40的两侧设置有负压腔室50,且正压腔室40和负压腔室50的开口均正对着基板30。当基板30移动到上清洗头10和下清洗头20之间时,正压腔室40向基板30吹气吹起基板30表面的灰尘等异物,负压腔室50则吸走被吹起的异物,从而实现对基板30的清洗。然而,在上述的清洗头中,基板上的灰尘等异物被吹起后并不会完全被吸走,可能有部分异物会飘向或飘落在清洗头的前后端面上,而由于前后端面与基板垂直,尤其是在前端端面上的异物就容易掉落至已经清洗过的基板上,从而降低基板的清洗效果,导致制成的显示面板显示性能的降低,降低了显示面板生产的良率,甚至导致显示面板的报废或降等等。
技术实现思路
本技术提供一种清洗头及清洗机,以解决现有清洗头中飘向或飘落在清洗头前端的异物容易掉落在已经清洗过的基板上,从而降低基板的清洗效果,导致显示面板的显示性能以及良率降低的问题。本技术的第一方面提供一种清洗头,用于基板的清洗,包括:上清洗头和下清洗头,所述上清洗头和所述下清洗头相对设置,所述基板位于所述上清洗头和所述下清洗头之间且可沿着平行于所述上清洗头和所述下清洗头的方向移动,所述上清洗头和所述下清洗头均包括至少一个正压腔室和至少一个负压腔室,所述正压腔室和所述负压腔室的开口均朝向所述基板;所述上清洗头包括靠近所述基板移动方向前端的第一侧面,所述下清洗头包括靠近所述基板移动方向的第二侧面,所述第一侧面和/或所述第二侧面为倾斜于所述基板平面的斜面,且所述斜面靠近所述基板的一端朝向所述清洗头外倾斜,所述斜面远离所述基板的一端朝向所述清洗头内倾斜。在本技术的具体实施方式中,所述上清洗头还包括与所述第一侧面相对的第三侧面,所述下清洗头还包括与所述第二侧面相对的第四侧面,所述第三侧面和/或所述第四侧面为倾斜于所述基板平面的斜面,且所述斜面靠近所述基板的一端朝向所述清洗头外倾斜,所述斜面远离所述基板的一端朝向所述清洗头内倾斜。在本技术的具体实施方式中,所述第一侧面、所述第二侧面、所述第三侧面和所述第四侧面中至少一个面在靠近所述基板的一端设置有第一挡板,所述第一挡板的一端与所述清洗头连接,所述第一挡板的另一端朝向远离所述清洗头的方向延伸。在本技术的具体实施方式中,所述第一侧面、所述第二侧面、所述第三侧面和所述第四侧面上均设置有所述第一挡板,且所述第一侧面、所述第二侧面、所述第三侧面和所述第四侧面中至少一个的所述第一挡板在远离所述清洗头的一端上还设置有第二挡板,所述第二挡板与所述第一挡板之间呈夹角设置。在本技术的具体实施方式中,所述第一侧面和所述第三侧面上的所述第一挡板上均设置有所述第二挡板。在本技术的具体实施方式中,所述第一挡板为平面形或者凹面形。在本技术的具体实施方式中,所述斜面包括倾斜平面和/或倾斜弧形面。在本技术的具体实施方式中,所述斜面与所述基板平面之间的倾斜夹角为70°-80°。本技术的第二方面提供一种清洗头,包括至少一个正压腔室和至少一个负压腔室,所述基板可沿着平行于所述清洗头的方向移动,所述正压腔室和所述负压腔室的开口均朝向所述基板;所述清洗头靠近所述基板移动方向前端的侧面为倾斜于所述基板平面的斜面,且所述斜面靠近所述基板的一端朝向所述清洗头外倾斜,所述斜面远离所述基板的一端朝向所述清洗头内倾斜。本技术的第三方面提供一种清洗机,包括上述任一所述的清洗头。本技术提供的一种清洗头及清洗机,该清洗头通过包括:上清洗头和下清洗头,上清洗头和下清洗头相对设置,基板位于上清洗头和下清洗头之间且可沿着平行于上清洗头和下清洗头的方向移动,上清洗头和下清洗头均包括至少一个正压腔室和至少一个负压腔室,正压腔室和负压腔室的开口均朝向基板,正压腔室用于以正压气流吹起基板表面的异物,负压腔室用于以负压吸走被吹起的异物,即在基板从清洗头的一端移动到清洗头的另一端时,正压腔室将基板上的异物吹起,负压腔室将异物吸走,从而达到清洗基板的目的。并通过使上清洗头包括靠近基板移动方向前端的第一侧面,下清洗头包括靠近基板移动方向前端的第二侧面,第一侧面和/或第二侧面为倾斜于基板平面的斜面,且斜面靠近基板的一端朝向清洗头外倾斜,斜面远离基板的一端朝向清洗头内倾斜。即位于上清洗头前端的第一侧面和/或位于下清洗头前端的第二侧面倾斜于基板平面设置,这样当被正压腔室吹起的异物不能完全被负压腔室吸走而飘向上清洗头和/或下清洗头的前端时,由于前端的第一侧面和/或第二侧面为具有一定倾斜度的斜面,异物就可附着在倾斜的第一侧面和/或第二侧面上,同时与前端端面为竖直面相比,飘落在斜面上的异物也不会轻易的落在基板上,从而减少了异物落在已经过清洗头清洗过的基板上的几率,提高了基板清洗的效果,降低了异物再次落在基板上而导致降低显示面板显示性能的风险,提升了显示面板生产的良率。解决了现有清洗头中飘向或飘落在清洗头前端的异物容易掉落在已经清洗过的基板上,从而降低基板的清洗效果,导致显示面板的显示性能以及良率降低的问题。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是现有的一种清洗头的侧视图;图2是本技术实施例一提供的一种清洗头的侧视图;图3是本技术实施例一提供的又一种清洗头的侧视图;图4是本技术实施例一提供的又一种清洗头的侧视图;图5是本技术实施例一提供的另一种清洗头的侧视图;图6是本技术实施例提供的一种清洗机的示意图。附图标记说本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种清洗头,用于基板的清洗,其特征在于,包括:上清洗头和下清洗头,所述上清洗头和所述下清洗头相对设置,所述基板位于所述上清洗头和所述下清洗头之间且可沿着平行于所述上清洗头和所述下清洗头的方向移动,所述上清洗头和所述下清洗头均包括至少一个正压腔室和至少一个负压腔室,所述正压腔室和所述负压腔室的开口均朝向所述基板;/n所述上清洗头包括靠近所述基板移动方向前端的第一侧面,所述下清洗头包括靠近所述基板移动方向的第二侧面,所述第一侧面和/或所述第二侧面为倾斜于所述基板平面的斜面,且所述斜面靠近所述基板的一端朝向所述清洗头外倾斜,所述斜面远离所述基板的一端朝向所述清洗头内倾斜。/n

【技术特征摘要】
1.一种清洗头,用于基板的清洗,其特征在于,包括:上清洗头和下清洗头,所述上清洗头和所述下清洗头相对设置,所述基板位于所述上清洗头和所述下清洗头之间且可沿着平行于所述上清洗头和所述下清洗头的方向移动,所述上清洗头和所述下清洗头均包括至少一个正压腔室和至少一个负压腔室,所述正压腔室和所述负压腔室的开口均朝向所述基板;
所述上清洗头包括靠近所述基板移动方向前端的第一侧面,所述下清洗头包括靠近所述基板移动方向的第二侧面,所述第一侧面和/或所述第二侧面为倾斜于所述基板平面的斜面,且所述斜面靠近所述基板的一端朝向所述清洗头外倾斜,所述斜面远离所述基板的一端朝向所述清洗头内倾斜。


2.根据权利要求1所述的清洗头,其特征在于,所述上清洗头还包括与所述第一侧面相对的第三侧面,所述下清洗头还包括与所述第二侧面相对的第四侧面,所述第三侧面和/或所述第四侧面为倾斜于所述基板平面的斜面,且所述斜面靠近所述基板的一端朝向所述清洗头外倾斜,所述斜面远离所述基板的一端朝向所述清洗头内倾斜。


3.根据权利要求2所述的清洗头,其特征在于,所述第一侧面、所述第二侧面、所述第三侧面和所述第四侧面中至少一个面在靠近所述基板的一端设置有第一挡板,所述第一挡板的一端与所述清洗头连接,所述第一挡板的另一端朝向远离所述清洗头的方向延伸。


4.根据权利要求3所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员:蒋轻侯唐乐张世强
申请(专利权)人:成都中电熊猫显示科技有限公司
类型:新型
国别省市:四川;51

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