遮光层介电常数测量方法及介电常数检测面板技术

本发明专利技术涉及一种遮光层介电常数测量方法及介电常数检测面板，遮光层介电常数测量方法包括：在玻璃基板上形成第一金属层；在第一金属层上形成遮光层，其中，遮光层在玻璃基板上的投影与第一金属层在玻璃基板上的投影部分重叠；在遮光层上形成第二金属层；获取第一金属层与第二金属层之间的电容值；根据电容值获取遮光层的介电常数。遮光层在玻璃基板上的投影与第一金属层在玻璃基板上的投影部分重叠，使得第一金属层的部分表面曝露，便于检测装置同时与第一金属层和第二金属层接触，从而便于获取第一金属层和第二金属层之间的电容值，进而便于获取第一金属层和第二金属层之间的遮光层的介电常数。

The measurement method of dielectric constant and the detection panel of dielectric constant

【技术实现步骤摘要】
遮光层介电常数测量方法及介电常数检测面板
本专利技术涉及显示屏
，特别是涉及一种遮光层介电常数测量方法及介电常数检测面板。
技术介绍
随着TFT-LCD(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay)显示屏技术的提升，传统的TFT-LCD显示屏主要由偏振片、阵列基板、液晶、彩膜基板等构成，彩膜基板是实现显示屏彩色显示的主要部件，而彩膜基板中由铬金属或者掺黑色颜料的丙烯树脂构成的遮光层，是构成彩膜基板的重要组成部分，主要作用是为了提高对比度，防止显示屏非驱动领域的背光源光线漏出，可以有效防止相邻的像素混色，还可以防止外加光线照射到阵列基板的非晶硅层而增加漏电流。对于传统的TFT-LCD显示屏而言，遮光层的介电常数越高，越容易产生感应电荷形成电场，造成开关机瞬间闪白或边缘发白等不良，因此需要通过获取遮光层的介电常数来判断是否可以用于制作彩膜基板，但是，传统的显示行业并没有专门检测遮光层介电常数的设备，而且，由于彩膜基板的各层厚度较小，不便于现有的电容检测装置检测，使得通过获取遮光层的电容以获取介电常数本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种遮光层介电常数测量方法，其特征在于，包括：/n在玻璃基板上形成第一金属层；/n在所述第一金属层上形成遮光层，其中，所述遮光层在所述玻璃基板上的投影与所述第一金属层在玻璃基板上的投影部分重叠；/n在所述遮光层上形成第二金属层；/n获取所述第一金属层与所述第二金属层之间的电容值；/n根据所述电容值获取所述遮光层的介电常数。/n

【技术特征摘要】
1.一种遮光层介电常数测量方法，其特征在于，包括：
在玻璃基板上形成第一金属层；
在所述第一金属层上形成遮光层，其中，所述遮光层在所述玻璃基板上的投影与所述第一金属层在玻璃基板上的投影部分重叠；
在所述遮光层上形成第二金属层；
获取所述第一金属层与所述第二金属层之间的电容值；
根据所述电容值获取所述遮光层的介电常数。


2.根据权利要求1所述的遮光层介电常数测量方法，其特征在于，所述在所述第一金属层上形成遮光层之前还包括：
在所述第一金属层上粘贴有胶带层，其中，所述胶带层在所述玻璃基板上的投影与所述第一金属层在玻璃基板上的投影部分重叠；
所述在所述第一金属层上形成遮光层包括：
在所述第一金属层和所述胶带层上形成所述遮光层。


3.根据权利要求2所述的遮光层介电常数测量方法，其特征在于，所述获取所述第一金属层与所述第二金属层之间的电容值之前还包括：
去除所述胶带层以及位于其上的所述遮光层的部分。


4.根据权利要求1所述的遮光层介电常数测量方法，其特征在于，所述根据所述电容值获取所述遮光层的介电常数之后还包括：
检测所述介电常数与预设介电常数是否匹配；
当所述介电常数与所述预设介电常数匹配时，向监控系统发送第一信号。


5.根据权利要求4所述的遮光层介电常数测量方法，其特征在于，所述检测所述介电常数与预设介电常数是否匹配包括：...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑风云，徐阳，陈建伦，刘力明，雷国奖，
申请(专利权)人：信利惠州智能显示有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44