结合激光器加热器的用于改进的激光器稳定性的热辅助磁记录设备制造技术

本申请提供了结合激光器加热器的用于改进的激光器稳定性的热辅助磁记录设备。装置包括配置成用于促进热辅助磁记录的滑块和附连到该滑块的基板。激光器单元被附连到基板并且包括能以非发射激光状态和发射激光状态操作的激光器。加热器被嵌入在激光器单元或基板中。加热器被配置成用于在非发射激光状态期间生成用于加热激光器的预热并且在发射激光状态期间生成用于加热激光器的操控热。

Thermal assisted magnetic recording equipment for improved laser stability combined with laser heater

【技术实现步骤摘要】
结合激光器加热器的用于改进的激光器稳定性的热辅助磁记录设备相关申请本申请要求2018年10月12日提交的临时专利申请序列号62/744,729的权益，该申请通过引用整体结合于此。
技术实现思路
实施例涉及一种装置，该装置包括配置成用于促进热辅助磁记录的滑块和附连到该滑块的基板。激光器单元被附连到基板并且包括能以非发射激光状态和发射激光状态操作的激光器。加热器被嵌入在激光器单元或基板中。加热器被配置成用于在非发射激光状态期间生成用于加热激光器的预热并且在发射激光状态期间生成用于加热激光器的操控(steering)热。实施例涉及一种装置，该装置包括配置成用于促进热辅助磁记录的滑块和附连到该滑块的基板。激光器单元被附连到基板并且包括能以非发射激光状态和发射激光状态操作的激光器。加热器被嵌入在激光器单元或基板中。控制电路耦合到激光器单元和加热器。控制电路被配置成用于使加热器在非发射激光状态期间生成用于加热激光器的预热并且使加热器在发射激光状态期间生成用于加热激光器的操控热。实施例涉及一种方法，该方法包括：相对于磁记录介质移动滑块，该滑块被配置成用于热辅助磁记录并且包括基板，激光器单元附连到该基板。该方法还包含：以非发射激光状态和发射激光状态操作激光器单元的激光器。该方法进一步包含：控制嵌入在激光器单元或基板的加热器，以在非发射激光状态期间生成用于加热激光器的预热并且在发射激光状态期间生成用于加热激光器的操控热。以上
技术实现思路
并非旨在描述本公开的每个公开的实施例或每个实施方式。以下的附图和详细描述更具体地例示了说明性实施例。附图说明贯穿说明书，参考附图，其中同样的参考数字指示同样的元件，并且其中：图1示出了根据各种实施例的热辅助磁记录(HAMR)滑块；图2示出了根据各种实施例的HAMR滑块；图3示出了根据各种实施例的针对HAMR滑块的代表性激光器的温度相对于时间的曲线图；图4示出了根据各种实施例的代表性HAMR激光器对于短时间范围的原生激光器温度变化；图5示出了根据各种实施例的代表性HAMR激光器对于短时间范围的原生激光器温度变化；图6图示出根据各种实施例的与HAMR滑块一起使用的激光器加热装置；图7图示出根据各种实施例的与HAMR滑块一起使用的激光器加热装置；图8图示出根据各种实施例的与HAMR滑块一起使用的激光器加热装置；图9和图10是展示图6中所示的激光器加热装置减小在激光器开启事件与激光器关闭事件之间激光器温度的短时间范围变化的能力的曲线图；图11A-11D示出了使用图6中所图示的激光器加热装置时，预热功率和持续时间对作为时间的函数的激光器温度的影响；图12A-12D示出了使用图6中所图示的激光器加热装置时，预热功率和持续时间和操控加热对作为时间的函数的激光器温度的影响；图13A-13D示出了使用图8中所图示的激光器加热装置时，预热功率和持续时间对作为时间的函数的激光器温度的影响；图14A-14D示出了使用图8中所图示的激光器加热装置时，预热功率和持续时间和操控加热对作为时间的函数的激光器温度的影响；图15是示出了根据各种实施例的加热热辅助磁记录滑块的激光器的过程的流程图；以及图16是根据各种实施例的可以利用激光器的加热来减少激光器输出功率不稳定性的代表性HAMR装置和相关组件的示意图。这些图不一定按比例绘制。附图中使用的同样的数字指代同样的组件。然而，将理解，在给定附图中使用数字来指代组件并非旨在限制另一附图中使用相同数字来标记的组件。具体实施方式本公开总体上涉及热辅助磁记录，也称为能量辅助磁记录(EAMR)、热辅助磁记录(TAMR)和热辅助记录(TAR)。此技术使用激光源和近场换能器(NFT)在记录期间加热磁盘上的小点。热降低了该点处的磁矫顽力，从而允许写入换能器改变该点处磁畴的定向。由于介质在冷却后的相对高的矫顽力，数据较不容易受到可能导致数据错误的超顺磁效应的影响。在图1和图2中图示出HAMR滑块100的实施例。如图所示，头部100(也称为滑块)包括位于滑块主体105的后缘(trailingedge)表面104附近的光源(例如，激光器)102。根据各种实施例，激光器102被示出为包括激光带102a。由激光器102生成的光波(例如，激光束)经由光波导110被传送到NFT112。NFT112与头部100的空气轴承表面(ABS)114的平面对齐，并且读/写头113的一个边缘在ABS114上。尽管图1和图2的代表性实施例示出了与头部100集成在一起的波导110，但是可以使用任何类型的光传送配置。激光器102可以被实现为任何类型的半导体激光器(例如，激光二极管，光泵浦半导体激光器，量子阱激光器)。读/写头113包括至少一个写入器和至少一个读取器。在一些实施例中，可以将多个写入器(例如，两个写入器)和多个读取器(例如，三个读取器)合并到读/写头113中。在设备操作期间，ABS114面向磁性介质118的表面并被保持在磁性介质118的表面116附近。ABS114也被称为面向介质的表面。在此代表性示例中的激光器102可以是一体的边缘发射设备，尽管可以理解可以使用任何电磁能量源。例如，可以使用表面发射激光器(SEL)而不是边缘发射激光器作为激光源102。激光器102还可以替代地安装到头部100的其他表面，诸如后缘表面104。根据各种实施例，加热器103热耦合到激光器102。例如，加热器103可定位于紧邻激光器102或被合并为激光器102的组件。在各种实施例中，加热器103包括一个或多个加热元件(在本文中通常称为加热器)。在图1中，示出了激光器102和加热器103经由基板108耦合到滑块主体105。基板108可用于将激光器102(例如，边缘发射激光器)定向并附连为使得激光器102的输出被引导向下(图中的负y方向)。滑块主体105的输入表面可包括用于接收来自激光器102的光的光栅、光耦合器或其他耦合特征。在一些实施例中，加热器103被合并在将激光器102耦合到滑块主体105的基板108中或被合并在该基板108上。例如，加热器103中的一个或多个可被附连到与激光器102的表面接触的基板108的表面，或沿与激光器102的表面接触的基板108的表面被合并。如图1所示，加热器103a可以是位于与激光器102邻接的基板108的加热器。加热器103a也可以位于激光器102上或位于激光器102内。设想了加热器/激光器配置的组合(例如，包括激光带102a和加热器103和加热器103a的激光器102)。加热器103、103a被配置成用于加热激光器102以改善激光器102的输出光功率的稳定性。根据各种实施例，加热器103、103a被配置成用于将激光器102的结温从与激光器输出功率不稳定性相关联的温度改变到与激光器输出功率稳定性相关联的温度。例如，加热器103、103a可以被配置为当激光器102不是正在发射激光(例如，在写入操作之前和/或写入操本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种装置，包括：/n滑块，配置成用于促进热辅助磁记录；/n基板，附连到所述滑块；/n激光器单元，附连到所述基板并且包括能以非发射激光状态和发射激光状态操作的激光器；以及/n加热器，嵌入在所述激光器单元或所述基板中，所述加热器被配置成用于在所述非发射激光状态期间生成用于加热所述激光器的预热并且用于在所述发射激光状态期间生成用于加热所述激光器的操控热。/n

【技术特征摘要】
20181012 US 62/744,729;20191003 US 16/591,8921.一种装置，包括：
滑块，配置成用于促进热辅助磁记录；
基板，附连到所述滑块；
激光器单元，附连到所述基板并且包括能以非发射激光状态和发射激光状态操作的激光器；以及
加热器，嵌入在所述激光器单元或所述基板中，所述加热器被配置成用于在所述非发射激光状态期间生成用于加热所述激光器的预热并且用于在所述发射激光状态期间生成用于加热所述激光器的操控热。


2.如权利要求1所述的装置，其中所述加热器被配置成用于生成所述预热和所述操控热，以避免当在写入操作期间处于所述发射激光状态时与所述激光器的功率不稳定性相关联的温度。


3.如权利要求1所述的装置，其中所述加热器与所述激光器分开范围从约2μm到约120μm的间隔。


4.如权利要求1所述的装置，其中所述加热器被嵌入在所述激光器单元中并且与所述激光器分开范围从约2μm到约25μm的间隔。


5.如权利要求1所述的装置，其中所述加热器被嵌入在所述激光器单元中并且与所述激光器分开范围从约30μm到约70μm的间隔。


6.如权利要求1所述的装置，其中所述加热器被嵌入在所述基板中并且与所述激光器分开范围从约40μm到约120μm的间隔。


7.如权利要求1所述的装置，其中：
第一加热器被嵌入在所述激光器单元中，并且第二加热器被嵌入在所述基板中；并且
所述第一加热器和所述第二加热器被配置成用于在所述非发射激光状态期间生成用于加热所述激光器的预热并在所述发射激光状态期间生成用于加热所述激光器的操控热。


8.如权利要求1所述的装置，其中所述加热器包括电阻线。


9.如权利要求1所述的装置，其中：
所述激光器包括激光带；并且
所述加热器和所述激光带被设置在所述激光器单元的同一表面上。


10.如权利要求1所述的装置，其中：
所述激光器包括激光带；并且
所述加热器和所述激光带被设置在所述激光器单元的相反表面上。


11.一种装置，包括：
滑块，被配置成用于促进热辅助磁记录；
基...

【专利技术属性】
技术研发人员：J·G·韦塞尔，小罗杰·L·希普韦尔，
申请(专利权)人：希捷科技有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US