一种提高大口径反射镜镀膜面形精度的方法技术

本发明专利技术公开了一种提高大口径反射镜镀膜面形精度的方法，采用了镀膜过程基片面形和高低折射率膜层的综合控制方法：镀膜前针对基片在镀膜过程的形变，采用基片预先翻面退火的方法控制抵消镀膜过程中的基片面形受热引起的变化；采用调节充氧量结合离子辅助沉积的方法控制反射镜中膜层的残余应力，使各膜层的残余应力基本接近零应力。本发明专利技术公开了一种提高大口径反射镜镀膜面形精度的方法，该方法具有面形精度高，简单易行，使用范围广，适用不同膜层以及基底组合的反射镜面形控制。

【技术实现步骤摘要】
一种提高大口径反射镜镀膜面形精度的方法
本专利技术涉及技术薄膜光学领域，更具体的说是涉及一种提高大口径反射镜镀膜面形精度的方法。
技术介绍
大口径激光反射镜是各类大型激光装置的关键光学元件之一，其反射镜面形精度是影响激光传输光束质量的关键因素之一。电子束蒸发是目前制备大口径反射镜镀膜常用的方式，具有低成本，大口径膜层均匀性良好，同时抗激光损伤阈值高的优点。电子束蒸发方式通过将高折射率膜层和低折射率膜层交替按照设定厚度沉积在待镀膜基板上，形成反射镜。大口径反射镜膜层镀膜的关键难点之一在于其镜面形控制，现有的研究中，针对面形控制更多是研究工艺因素对于膜层残余应力的影响规律，常用的反射镜面形控制技术，往往采用通过改变镀膜过程的充氧量调节膜层(如氧化硅)的残余应力，使之与高折射率膜层的残余应力匹配抵消，达到提升面形精度。显然，已有的反射镜面形提升技术未考虑大口径反射镜镀膜过程中的基片形变，仅考虑了单一的膜层残余应力导致反射镜面形形变因素，面形控制精度提升效果有限；并且采用高低折射率膜层应力抵消方法，对于各膜层的厚度有一定限制，且面形调控范围有限本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种提高大口径反射镜镀膜面形精度的方法，其特征在于，包括如下步骤：/nS1，镀膜前，先将待镀膜基片放置在电子束蒸发镀膜机的镀膜工位上，并保持所述待镀膜基片的镀膜面朝上，同时所述镀膜工位位于真空室内，对所述真空室抽真空；/nS2，通过所述电子束蒸发镀膜机的加热模块加热所述待镀膜基片至镀膜温度后进行退火处理，待冷却至自然温度后取下；/nS3，所述电子束蒸发镀膜机内放置高折射材料和低折射材料；/nS4，将所述待镀膜基片清洗干净；/nS5，将所述待镀膜基片的镀膜面朝下放置在所述电子束蒸发镀膜机的镀膜工位上，并且通过所述电子束蒸发镀膜机的真空室再次对所述待镀膜基片抽真空；/nS6，通过所述电子束蒸发...

【技术特征摘要】
1.一种提高大口径反射镜镀膜面形精度的方法，其特征在于，包括如下步骤：
S1，镀膜前，先将待镀膜基片放置在电子束蒸发镀膜机的镀膜工位上，并保持所述待镀膜基片的镀膜面朝上，同时所述镀膜工位位于真空室内，对所述真空室抽真空；
S2，通过所述电子束蒸发镀膜机的加热模块加热所述待镀膜基片至镀膜温度后进行退火处理，待冷却至自然温度后取下；
S3，所述电子束蒸发镀膜机内放置高折射材料和低折射材料；
S4，将所述待镀膜基片清洗干净；
S5，将所述待镀膜基片的镀膜面朝下放置在所述电子束蒸发镀膜机的镀膜工位上，并且通过所述电子束蒸发镀膜机的真空室再次对所述待镀膜基片抽真空；
S6，通过所述电子束蒸发镀膜机的加热模块再次对所述待镀膜基片加热至所述镀膜温度，并进行保温处理；
S7，通过所述电子束蒸发镀膜机上的第一电子枪将所述低折射率材料沉积到所述待镀膜基片上，使所述待镀膜基片上形成低折射率膜层，同时通过电子束蒸发镀膜机上的喷氧机构对所述低折射率膜层喷射氧气，以及同时通过辅助离子源轰击所述低折射率膜层上；
S8，通过所述电子束蒸发镀膜机的第二电子枪将所述高折射率材料沉积到步骤5中的所述低折射率膜层上，使得所述低折射率膜层上形成高折射率膜层，同时通过电子束蒸发镀膜机上的喷氧机构对所述高折射率膜层喷射氧气，以及同时通过辅助离子源轰击所述高折射率膜层上；
S9，依次循环步骤S7和S8，使得所述低折射率膜层和所述高折射率膜层间隔形成在所述待镀膜基片上，直至镀膜结束而形成反射镜；
S10，将镀膜结束后形成的所述反射镜冷却至室温后取出，得到大口径反射镜样品。


2.根据权利要求1所述的一种提高大口径反射镜镀膜面形精度的方法，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘峰，王健，刘民才，吴倩，罗晋，唐明，王震，张飞，张清华，卫耀伟，李树刚，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心，
类型：发明
国别省市：四川;51