应用于AFM-SEM混合显微镜系统的PRC及其制造方法技术方案

本发明专利技术公开了应用于AFM‑SEM混合显微镜系统的PRC及其制造方法。本发明专利技术一种应用于AFM‑SEM混合显微镜系统的PRC，包括：pcb基板、设置在所述pcb基板上的衬底、设置在所述衬底上的固定值电阻器、设置在所述衬底上的压电电阻器、焊盘和固定结构；所述压电电阻器包括悬臂梁和设置在所述悬臂梁前端的探针；所述固定值电阻器和所述压电电阻器互相平行；所述pcb基板远离所述衬底的一侧、两个侧边和靠近所述衬底的一侧设有第一导电涂层。本发明专利技术的有益效果：通过导电涂层尽可能消除落在PRC上的电荷，降低SEM电子束对PRC造成的干扰，使得基于PRC的AFM可以兼容SEM。

PRC applied to afm-sem hybrid microscope system and its manufacturing method

【技术实现步骤摘要】
应用于AFM-SEM混合显微镜系统的PRC及其制造方法
本专利技术涉及AFM-SEM混合显微镜领域，具体涉及一种应用于AFM-SEM混合显微镜系统的PRC。
技术介绍
混合显微镜提供了互补的成像功能，多模式测量比单个显微镜具有更高的数据采集效率，例如SEM只能提供样品的2D图像，得不到深度信息，但AFM可以提供样品的深度信息。基于不同的成像物理原理，AFM和SEM代表了两种互补的成像技术。传统的样品测量方法是在AFM和SEM中分别对样品成像，然后再将图像关联起来从而获得更多关于样品的信息。但是来回转移样品并在AFM和SEM之间切换可能会损坏样品，并且想在两个显微镜上观察样品的同一区域会非常困难。通过在SEM中集成AFM组成AFM-SEM混合显微镜系统可以使得观察样品非常方便。尽管AFM-SEM混合显微镜系统具有诸多优势，但是如何使得AFM兼容SEM而又不影响二者的性能和功能依然存在一些技术挑战。这些挑战来自AFM尺寸限制，真空环境的不良散热，电子束影响AFM力反馈信号等等。基于MEMS工艺的PRC(PiezoresistiveC本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种应用于AFM-SEM混合显微镜系统的PRC，其特征在于，包括：pcb基板、设置在所述pcb基板上的衬底、设置在所述衬底上的固定值电阻器、设置在所述衬底上的压电电阻器、焊盘和固定结构；所述压电电阻器包括悬臂梁和设置在所述悬臂梁前端的探针；所述固定值电阻器和所述压电电阻器互相平行；所述pcb基板远离所述衬底的一侧、两个侧边和靠近所述衬底的一侧设有第一导电涂层；所述衬底的侧边和正面设有第二导电涂层；其中，所述第二导电涂层不与所述固定值电阻器和所述压电电阻器接触，所述第一导电涂层与所述第二导电涂层导通。/n所述焊盘分别连接所述固定值电阻器和所述压电电阻器；所述固定结构用于将所述固定值电阻器和所...

【技术特征摘要】
1.一种应用于AFM-SEM混合显微镜系统的PRC，其特征在于，包括：pcb基板、设置在所述pcb基板上的衬底、设置在所述衬底上的固定值电阻器、设置在所述衬底上的压电电阻器、焊盘和固定结构；所述压电电阻器包括悬臂梁和设置在所述悬臂梁前端的探针；所述固定值电阻器和所述压电电阻器互相平行；所述pcb基板远离所述衬底的一侧、两个侧边和靠近所述衬底的一侧设有第一导电涂层；所述衬底的侧边和正面设有第二导电涂层；其中，所述第二导电涂层不与所述固定值电阻器和所述压电电阻器接触，所述第一导电涂层与所述第二导电涂层导通。
所述焊盘分别连接所述固定值电阻器和所述压电电阻器；所述固定结构用于将所述固定值电阻器和所述压电电阻器固定在所述衬底上。


2.如权利要求1所述的应用于AFM-SEM混合显微镜系统的PRC，其特征在于，所述焊盘的数量为四个。


3.如权利要求1所述的应用于AFM-SEM混合显微镜系统的PRC，其特征在于，所述固定结构是固定树脂。


4.如权利要求1所述的应用于AFM-SEM混合显微镜系统的PRC，其特征在于，所述第一导电涂层是导电石墨、导电银、导电金或者导电胶带。


5.如权利要求1所述的应用于AFM-SEM混合显微镜系统的PRC，其特征在于，所述第二导电涂层是导电石墨、导电银、导电金或者...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈科纶，王纯配，陈俊，孙钰，汝长海，
申请(专利权)人：江苏集萃微纳自动化系统与装备技术研究所有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32