【技术实现步骤摘要】
一种曝光机框架上料机构
本技术涉及曝光设备领域，尤其涉及一种曝光机框架上料机构。
技术介绍
传统的全自动曝光机多半是以底片曝光机为主，需要将待加工的产品放入到框架内，进而实现框架内的产品上料，现有的框架上料机构大多都是采用从上部吸取转移的方式实现，由于采用多个吸盘进行吸取转移，也就导致了设备对产品的大小及厚度有一定的限制，如果吸取过大或者过厚的产品，及其容易出现吸取不稳掉落的情况，因此现有的设备能力也只能生产尺寸720MM以下及厚度不大于3.0MM的工件，对于一些大尺寸或者厚度较大的特殊产品无法进行曝光，哪怕是规定尺寸范围的产品曝光，同样存在掉落的风险。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种曝光机框架上料机构，采用输送装置配合放料装置，能够平稳的讲产品下落到下框内，如此可对较大尺寸的产品进行放料曝光，避免了掉落的风险。为了实现以上目的，本技术采用的技术方案为：一种曝光机框架上料机构，包括机架和下框模块，所述的下框模块的上方配合有放料装置，所述的放料装置配合有进料输送装置，所述的放料装置包括设置在机架上...
【技术保护点】
1.一种曝光机框架上料机构，其特征在于，包括机架（1）和下框模块（9），所述的下框模块（9）的上方配合有放料装置（8），所述的放料装置（8）配合有进料输送装置（2），所述的放料装置（8）包括设置在机架（1）上的放料安装架（19），所述的放料安装架（19）上设置有能够同步相向或背向移动的两块居中卡块（14），且居中卡块（14）活动走向与进料输送装置（2）的输送方向垂直，两块居中卡块（14）的内侧设置有与进料输送装置（2）输送方向一致的放料输送装置，所述的下框模块（9）包括下框主体（31），所述的下框主体（31）的下方设置有能够穿过下框主体（31）的下框接料装置。/n
【技术特征摘要】
1.一种曝光机框架上料机构，其特征在于，包括机架（1）和下框模块（9），所述的下框模块（9）的上方配合有放料装置（8），所述的放料装置（8）配合有进料输送装置（2），所述的放料装置（8）包括设置在机架（1）上的放料安装架（19），所述的放料安装架（19）上设置有能够同步相向或背向移动的两块居中卡块（14），且居中卡块（14）活动走向与进料输送装置（2）的输送方向垂直，两块居中卡块（14）的内侧设置有与进料输送装置（2）输送方向一致的放料输送装置，所述的下框模块（9）包括下框主体（31），所述的下框主体（31）的下方设置有能够穿过下框主体（31）的下框接料装置。
2.根据权利要求1所述的一种曝光机框架上料机构，其特征在于，所述的放料输送装置包括设置在放料安装架（19）上且穿透两个居中卡块（14）的放料给进转轴（16），所述的放料给进转轴（16）上套接有放料给进皮带轮（15），所述的放料给进皮带轮（15）安装在居中卡块（14）内侧的轴承座上，且放料给进皮带轮（15）与放料给进转轴（16）仅能进行轴向相对移动，所述的放料给进皮带轮（15）配合有放料给进皮带（17），所述的放料给进转轴（16）配合有放料给进电机（20）。
3.根据权利要求2所述的一种曝光机框架上料机构，其特征在于，所述的放料安装架（19）上设置有与放料给进皮带（17）垂直走向的居中活动滑轨（11），所述的居中活动滑轨（11）配合有两块居中活动滑块（12），所述的居中活动滑块（12）与放料安装架（19）上设置的居中皮...
【专利技术属性】
技术研发人员：郭家宝，邱田生，
申请(专利权)人：东莞市多普光电设备有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44
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