量子点的制备方法技术

技术编号:23837719 阅读:44 留言:0更新日期:2020-04-18 03:19
本发明专利技术提供了一种量子点的制备方法,包括以下步骤:提供初始量子点核,将所述初始量子点核与有机胺混合,使有机胺结合到所述初始量子点核表面;在所述初始量子点核表面进行壳层生长反应,制备壳层;将壳层生长反应完成后的溶液体系与有机羧酸混合并加热;或将壳层生长反应完成后的体系与有机膦混合并加热;或将壳层生长反应完成后溶液体系与有机羧酸和有机膦的混合溶液混合并加热。

Preparation of quantum dots

【技术实现步骤摘要】
量子点的制备方法
本专利技术属于纳米晶材料制备
,尤其涉及一种量子点的制备方法。
技术介绍
纳米科学和纳米技术是一门新兴的科学技术并且存在潜在的应用价值和经济效益,因而在世界范围内备受科学家的关注。相对于体相材料,纳米晶体(NCs)能够呈现体相材料所不具备的电学、光学、磁学和电化学特性。半导体纳米晶体,又称量子点(QD),其尺寸范围从1到20nm,当粒径大小发生变化时,半导体纳米晶的带隙价带和导带也会改变(量子尺寸效应),如CdSe纳米晶体的吸收和发射几乎覆盖了整个可见光谱范围,因此,半导体纳米晶体表现出与尺寸有关的光致发光性质的现象。半导体纳米晶体已经在许多
被应用如生物标记、诊断、化学传感器、发光二极管、电子发光器件、光伏器件、激光器和电子晶体管等。然而针对不同
的应用需要自备不同类别的半导体量子点,制备高质量的半导体量子点是半导体量子点尺寸效应有效应用的前提。在过去的几十年中,为了得到高质量的半导体纳米晶,科研学者开了了很多种方法。现有的技术中主要有表面配体修饰、核壳结构的设计。而在核壳结构的设计中,内核为窄带隙本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种量子点的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:/n提供初始量子点核,将所述初始量子点核与有机胺混合,使有机胺结合到所述初始量子点核表面;/n在所述初始量子点核表面进行壳层生长反应,制备壳层;/n将壳层生长反应完成后的溶液体系与有机羧酸混合并加热;/n或将壳层生长反应完成后的体系与有机膦混合并加热;/n或将壳层生长反应完成后溶液体系与有机羧酸和有机膦的混合溶液混合并加热。/n

【技术特征摘要】
1.一种量子点的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
提供初始量子点核,将所述初始量子点核与有机胺混合,使有机胺结合到所述初始量子点核表面;
在所述初始量子点核表面进行壳层生长反应,制备壳层;
将壳层生长反应完成后的溶液体系与有机羧酸混合并加热;
或将壳层生长反应完成后的体系与有机膦混合并加热;
或将壳层生长反应完成后溶液体系与有机羧酸和有机膦的混合溶液混合并加热。


2.如权利要求1所述的核壳结构纳米晶的制备方法,其特征在于,将所述初始量子点核与有机胺混合,使有机胺结合到所述初始量子点核表面的步骤中,按照所述量子点核与所述有机胺的质量摩尔比为10mg:(3~10mmol)的比例,将所述初始量子点核与有机胺混合。


3.如权利要求2所述的核壳结构纳米晶的制备方法,其特征在于,将所述初始量子点核与有机胺混合,在温度为80-150℃的条件下混合处理20-60min,使有机胺结合到所述初始量子点核表面。


4.如权利要求1所述的核壳结构纳米晶的制备方法,其特征在于,将壳层生长反应完成后的溶液体系与有机羧酸混合并加热的步骤中,按所述有机羧酸与所述初始量子点核的摩尔质量比为(5~10mmol):10mg,将壳层生长反应完成后的溶液体系与有机胺混合;
或,将壳层生长反应完成后的体系与有机膦混合并加热的步骤中,按所述有机膦与所述初始量子点核的摩尔质量比为(2~5mmol):10mg,将壳层生长反应完成后的溶液体系与有机膦混合;
或,将壳层生长反应完成后溶液体系与有机羧酸和有机膦的混合溶液混合并加热的步骤中,按所述有机羧酸与所述初始量子点核的摩尔质量比为(5~10mmol):10mg、所述有机膦与所述初始量子点核的摩尔质量比为(2~5mmol):1...

【专利技术属性】
技术研发人员:程陆玲杨一行
申请(专利权)人:TCL集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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