一种槽体清洗、保养和维护方法及清洗槽系统技术方案

本发明专利技术公开了一种槽体清洗、保养和维护方法，包括：排空清洗槽的内槽与外槽中的旧清洗液；向内槽中注入纯水，控制纯水在内槽和外槽间循环流动，直至内槽中无明显黑色杂质及大量洗剂气泡；排空清洗槽，向内槽注入新的纯水并控制外槽持续出水，以对外槽进行清洗；排空清洗槽，对清洗槽进行杀菌处理并对清洗槽进行细菌测试；排空清洗槽，向清洗槽注满新的纯水，因此有效地保证了清洗槽的清洗良率，避免了槽体清理后的良率波动，也避免了微生物生长对玻璃基底造成不良缺陷。另外，本发明专利技术还公开了一种用于实施上述方法的清洗槽系统。

A tank cleaning, maintenance and maintenance method and cleaning tank system

【技术实现步骤摘要】
一种槽体清洗、保养和维护方法及清洗槽系统
本专利技术涉及半导体制造
，更具体地说，涉及一种用于掩膜版玻璃基底清洗的槽体清洗、维护和保养方法。此外，本专利技术还涉及一种用于上述方法的清洗槽系统。
技术介绍
在半导体芯片或集成电路制造中，掩膜版的制造是衔接版图制造与晶圆制造的关键流程。在掩膜版的制作工艺中，玻璃基底自身缺陷及其表面的细小沾污占据了成品率损失的70％-80％。因此，为了去除玻璃基底上的沾污，通常通过“超声波+洗剂”的方式对玻璃基底进行清洗，并辅以SPM溶液清洗以及纯水漂洗等方法。其中，“超声波+洗剂”的方式清洗去除了玻璃基底上90％以上的沾污。而去除的沾污残留在洗剂与水的混合液中，会对玻璃基底造成二次污染，从而极大地降低产品的良率。现有技术中，通过将清洗槽中水排空、再次注入纯水的方式进行清洗槽内纯水的更新和清洗槽内的排污。但是此种方法的排污效果较差，未处理的沾污产生二次污染，在清理后经常出现清洗良率下降的情况，甚至清洗良率会降至0％，清洗良率波动极大。综上所述，如何提供一种保证清洗良率的槽体清洗、保养和维护方法，是目前本领域技术人员亟待解决的问题。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术的目的是提供一种槽体清洗、保养和维护方法，有效地保证了清洗槽的清洗良率，避免了槽体清理后的良率波动，同时避免了微生物生长对玻璃基底造成不良缺陷。此外，本专利技术还提供了一种用于实施上述方法的清洗槽系统。为了实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种槽体清洗、保养和维护方法，包括：排空清洗槽的内槽与外槽中的旧清洗液；向所述内槽中注入纯水，控制所述纯水在所述内槽和所述外槽间循环流动，直至所述内槽中无明显黑色杂质及大量气泡；排空所述清洗槽，向所述内槽注入新的纯水并控制所述外槽持续出水，以对所述外槽进行清洗；排空所述清洗槽，对所述清洗槽进行杀菌处理并对所述清洗槽进行细菌测试；排空所述清洗槽，向所述清洗槽注满新的纯水。优选的，所述向所述内槽中注入纯水，控制所述纯水在所述内槽和所述外槽间循环流动，包括：向所述内槽中注入纯水；控制所述内槽中的所述纯水依次通过所述外槽、流量控制阀、纯水过滤芯和外槽循环进水管路返回所述内槽，往复循环的时间为t1，t1为单次槽体循环冲洗时间；排空所述清洗槽。优选的，所述向所述内槽注入新的纯水并控制所述外槽持续出水包括：控制所述新的纯水依次通过所述内槽、所述外槽、所述流量控制阀、所述纯水过滤芯后，由外槽循环排水管路排出。优选的，所述向所述内槽注入新的纯水并控制所述外槽持续出水包括：控制持续冲洗时间为t2，t2为单次外槽冲洗时间。优选的，对所述清洗槽进行杀菌处理并对所述清洗槽进行细菌测试包括：向所述清洗槽内注入纯水并加入杀菌液，控制所述纯水在所述内槽与所述外槽间循环流动，持续泡槽t3，t3为杀菌液浸泡槽体的时间；对所述清水槽内的纯水进行细菌测试。优选的，所述消毒液包括双氧水，且所述清洗槽内所述双氧水的比例在5％-15％之间。优选的，所述细菌测试包括：对培养皿进行消毒除菌；在所述清洗槽内量取一定体积的纯水，并用滤膜进行过滤；将所述滤膜置于所述培养皿上，放入恒温生化培养箱内培养一定时间；检测所述培养皿上的细菌数量。一种清洗槽系统，包括内槽、外槽、与所述内槽连通的进水管路、与所述内槽连通的排水管路、与所述外槽连通的外槽循环排水管路以及连通所述内槽与所述外槽的外槽循环进水管路，在所述外槽循环进水管路上设有流量控制阀和纯水过滤芯；所述外槽循环排水管路和所述外槽循环进水管路连通，所述流量控制阀和所述纯水过滤芯设置于二者的连接处与所述外槽之间。优选的，所述外槽循环排水管路和所述外槽循环进水管路的连接处设有三通阀。本专利技术提供的槽体清洗、保养和维护方法首先对内槽进行循环清洗，可以有效去除内槽中的杂质、气泡以及残留旧清洗液，而后对内槽和外槽进行冲洗，可以有效清除循环清洗后残存在外槽及循环管路内的气泡和残留的旧清洗液，最后对清洗槽进行杀菌处理，可有效去除清洗槽内的微生物，避免了微生物生长与污染。因此，有效地保证了清洗槽的清洗良率，避免了槽体清理后的良率波动，也避免了微生物生长对玻璃基底造成不良缺陷。此外，本专利技术还提供了一种用于实施上述方法的清洗槽系统，相比于现有技术，通过增加与外槽连通的外槽循环排水管路，实现了槽体循环清洗与外槽持续冲洗之间的转换，且外槽循环排水管路与外槽循环进水管路的连接处位于流量控制阀和纯水过滤芯后，可通过外槽持续冲洗方式实现对纯水过滤芯内杂质和残留旧清洗液的清洗，避免了二次污染的产生。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。图1为本专利技术所提供的槽体清洗、保养和维护方法的具体实施例的流程示意图；图2为本专利技术所提供的清洗槽系统的具体实施例的剖视示意图。图1-图2中：1为内槽、2为外槽、3为流量控制阀、4为纯水过滤芯、5为三通阀、6为外槽循环排水管路、7为进水管路、8为排水管路、9为外槽循环进水管路。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术的核心是提供一种槽体清洗、保养和维护方法，有效地保证了清洗槽的清洗良率，避免了槽体清理后的良率波动，同时避免了微生物生长对玻璃基底造成不良缺陷。本专利技术还提供了一种用于实施上述方法的清洗槽系统。请参考图1-图2，图1为本专利技术所提供的槽体清洗、保养和维护方法的具体实施例的流程示意图；图2为本专利技术所提供的清洗槽系统的具体实施例的剖视示意图。本专利技术提供的槽体清洗、保养和维护方法，包括：步骤S1，排空清洗槽的内槽1与外槽2中的旧清洗液；步骤S2，向内槽1中注入纯水，控制纯水在内槽1和外槽2间循环流动，直至内槽1中无明显黑色杂质及大量气泡；步骤S3，排空清洗槽，向内槽1注入新的纯水并控制外槽2持续出水，以对外槽2进行清洗；步骤S4，排空清洗槽，对清洗槽进行杀菌处理并对清洗槽进行细菌测试；步骤S5，排空清洗槽，向清洗槽注满新的纯水。需要对步骤S1进行说明的是，在内槽1中无清洗篮时，即对玻璃基底的清洗流程结束后，对清洗槽进行排空，以放出清洗槽内的旧清洗液。优选的，可以通过控制与内槽1连接的排水管路8开通，将旧清洗液排空。需要对步骤S2进本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种槽体清洗、保养和维护方法，其特征在于，包括：/n排空清洗槽的内槽(1)与外槽(2)中的旧清洗液；/n向所述内槽(1)中注入纯水，控制所述纯水在所述内槽(1)和所述外槽(2)间循环流动，直至所述内槽(1)中无明显黑色杂质及大量气泡；/n排空所述清洗槽，向所述内槽(1)注入新的纯水并控制所述外槽(2)持续出水，以对所述外槽(2)进行清洗；/n排空所述清洗槽，对所述清洗槽进行杀菌处理并对所述清洗槽进行细菌测试；/n排空所述清洗槽，向所述清洗槽注满新的纯水。/n

【技术特征摘要】
1.一种槽体清洗、保养和维护方法，其特征在于，包括：
排空清洗槽的内槽(1)与外槽(2)中的旧清洗液；
向所述内槽(1)中注入纯水，控制所述纯水在所述内槽(1)和所述外槽(2)间循环流动，直至所述内槽(1)中无明显黑色杂质及大量气泡；
排空所述清洗槽，向所述内槽(1)注入新的纯水并控制所述外槽(2)持续出水，以对所述外槽(2)进行清洗；
排空所述清洗槽，对所述清洗槽进行杀菌处理并对所述清洗槽进行细菌测试；
排空所述清洗槽，向所述清洗槽注满新的纯水。


2.根据权利要求1所述的槽体清洗、保养和维护方法，其特征在于，所述向所述内槽(1)中注入纯水，控制所述纯水在所述内槽(1)和所述外槽(2)间循环流动，包括：
向所述内槽(1)中注入纯水；
控制所述内槽(1)中的所述纯水依次通过所述外槽(2)、流量控制阀(3)、纯水过滤芯(4)和外槽循环进水管路(9)返回所述内槽(1)，往复循环的时间为t1，t1为单次槽体循环冲洗时间；
排空所述清洗槽。


3.根据权利要求2所述的槽体清洗、保养和维护方法，其特征在于，所述向所述内槽(1)注入新的纯水并控制所述外槽(2)持续出水包括：
控制所述新的纯水依次通过所述内槽(1)、所述外槽(2)、所述流量控制阀(3)、所述纯水过滤芯(4)后，由外槽循环排水管路(6)排出。


4.根据权利要求3所述的槽体清洗、保养和维护方法，其特征在于，所述向所述内槽(1)注入新的纯水并控制所述外槽(2)持续出水包括：
控制持续冲洗时间为t2，t2为单次外槽冲洗时间。
<...

【专利技术属性】
技术研发人员：李翼，李伟，杨旭，
申请(专利权)人：湖南普照信息材料有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南;43