【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及玻璃抛光领域，尤其涉及一种玻璃基板的抛光方法。
技术介绍
1、光掩膜基板是图形转换及光刻技术中的重要的原材料，它是在平整、洁净的玻璃基板上通过镀铬膜，再在铬膜上旋涂一层光刻胶而获得的。光掩膜基板通过曝光、显影、蚀刻、去胶等光刻工艺获得光掩膜版。无论是光掩膜基板的制备还是后续的制版过程，都对精密性有很强的要求。如果玻璃基板不平整，在曝光时各胶面曝光点接受到的曝光能量强弱会有轻微的差异，曝光光源会有一定角度的倾斜，而造成后续蚀刻得到的图形边缘有轻微倾斜，而使得图形失真，信息传递出现差异。玻璃基底的平整度是光掩膜基板重要的基础，后段镀铬及涂胶工艺是在此基础之上进行的，如果基底平整度不好，不仅对在基底上的铬膜及胶膜的均匀性有影响，而且获得预期的光刻图形不理想，精度也不能满足预期。
2、随着玻璃基板尺寸的增大及光刻技术的发展，对玻璃的表面缺陷及平整度的要求越来越高。为获得高光洁、缺陷少的玻璃，一般流程是磨棱磨边后的玻璃，经过化学机械抛光来去除表面的划痕、疵点等异常。化学机械抛光基本原理是将待加工的玻璃在一定的下压力及抛光...
【技术保护点】
1.一种玻璃基板的抛光方法，其特征在于，玻璃基板抛光方法的步骤包括：
2.根据权利要求1所述的玻璃基板的抛光方法，其特征在于，所述步骤进行粗抛、进行精抛和进行终抛中的一个或多个步骤采用化学机械单面抛光方式。
3.根据权利要求2所述的玻璃基板的抛光方法，其特征在于，所述化化学机械单面抛光方式包括：将玻璃放置于吸附垫上吸附，相对位置另一端为抛光垫，所述吸附垫定中心匀速旋转，抛光垫来回直线运转对吸附垫上的玻璃进行抛光。
4.根据权利要求2所述的玻璃基板的抛光方法，其特征在于，所述化学机械单面抛光方式包括：在化学机械单面抛光过程中采用抛光粉
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【技术特征摘要】
1.一种玻璃基板的抛光方法，其特征在于，玻璃基板抛光方法的步骤包括：
2.根据权利要求1所述的玻璃基板的抛光方法，其特征在于，所述步骤进行粗抛、进行精抛和进行终抛中的一个或多个步骤采用化学机械单面抛光方式。
3.根据权利要求2所述的玻璃基板的抛光方法，其特征在于，所述化化学机械单面抛光方式包括：将玻璃放置于吸附垫上吸附，相对位置另一端为抛光垫，所述吸附垫定中心匀速旋转，抛光垫来回直线运转对吸附垫上的玻璃进行抛光。
4.根据权利要求2所述的玻璃基板的抛光方法，其特征在于，所述化学机械单面抛光方式包括：在化学机械单面抛光过程中采用抛光粉。
5.根据权利要求3所述的玻璃基板的抛光方法，其特征在于，采用化学机械单面抛光方式的粗抛过程中，采用的抛光垫为开槽式的抛光垫，开槽占比10-20％，硬度为70hc-100hc；采用化学机械单面抛光方式的精抛过程中，采用的抛光垫为一体化抛光垫，硬度为40-70hc；采用化学机械单面抛光方式的终抛过程...
【专利技术属性】
技术研发人员：周志刚，李伟，徐根，颜春李，丁晓罡，
申请(专利权)人：湖南普照信息材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
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