插片机用水系统及硅片清洗系统技术方案

本实用新型专利技术涉及一种插片机用水系统及硅片清洗系统，包括：依次设置的硅片插片机、回用水池、过滤装置和储水器；所述过滤装置设有第一排污口，所述第一排污口连通至废水站；所述储水器与所述硅片插片机之间设有第一输水管，所述储水器与所述过滤装置之间设有反洗单元，以使所述储水器中的水对所述过滤装置进行清洗。技术效果：对用水系统进行了优化，实现了硅片插片工序的独立用水循环，最大限度地减少自来水用量和废水排放量，避免了工艺浪费的现象，使得水能够重复利用，节约了水资源，降低了用水成本，减轻了废水处理系统的处理压力。

Water system and silicon wafer cleaning system of inserting machine

【技术实现步骤摘要】
插片机用水系统及硅片清洗系统
本技术涉及硅片切割
，特别是涉及一种插片机用水系统及硅片清洗系统。
技术介绍
在金刚线切片生产工序中，硅片的清洗一般先使用硅片脱胶机对硅片进行简单地处理，去除硅片表面的砂浆和绞丝等杂质，然后使用硅片插片机对硅片进行插片处理和预清洗处理，最后使用硅片清洗机对硅片进行清洗和干燥处理。由于插片机用水量较大，废水产生量高，对用水成本及废水处理系统都造成了较大的压力。
技术实现思路
基于此，有必要针对插片机用水量较大、废水产生量高的问题，提供一种插片机用水系统及硅片清洗系统。一种插片机用水系统，包括：依次设置的硅片插片机、回用水池、过滤装置和储水器；所述过滤装置设有第一排污口，所述第一排污口连通至废水站；所述储水器与所述硅片插片机之间设有第一输水管，所述储水器与所述过滤装置之间设有反洗单元。上述技术方案至少具有以下技术效果：本技术方案所提供的插片机用水系统，对用水系统进行了优化，实现了硅片插片工序的独立用水循环，最大限度地减少自来水用量和废水排放量，避免了工艺浪费的现象，使得水能够重复利本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种插片机用水系统，其特征在于，包括：/n依次设置的硅片插片机、回用水池、过滤装置和储水器；/n所述过滤装置设有第一排污口，所述第一排污口连通至废水站；/n所述储水器与所述硅片插片机之间设有第一输水管，所述储水器与所述过滤装置之间设有反洗单元。/n

【技术特征摘要】
1.一种插片机用水系统，其特征在于，包括：
依次设置的硅片插片机、回用水池、过滤装置和储水器；
所述过滤装置设有第一排污口，所述第一排污口连通至废水站；
所述储水器与所述硅片插片机之间设有第一输水管，所述储水器与所述过滤装置之间设有反洗单元。


2.根据权利要求1所述的插片机用水系统，其特征在于，所述反洗单元包括与所述储水器相连的反洗泵，以及与所述反洗泵相连的反洗阀，所述反洗阀与所述过滤装置之间设有第二输水管。


3.根据权利要求1所述的插片机用水系统，其特征在于，所述硅片插片机与所述回用水池之间设有滤网。


4.根据权利要求1所述的插片机用水系统，其特征在于，所述回用水池和所述过滤装置之间设有第一水泵。


5.根据权利要求1所述的插片机用水系统，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈江俊，
申请(专利权)人：阜宁协鑫光伏科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32