掩模板密封整形装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种掩模板密封整形装置，包括整形框架和设置在整形框架一侧的整形玻璃，整形框架上开设有真空通道，掩模板密封整形装置还包括密封圈，密封圈设置在整形框架的另一侧上，用于与需整形的掩模板密封形成封闭空间，真空通道与密封空间连通。上述掩模板密封整形装置能够大幅度减小掩模板的自重变形，提高掩模板曝光精度。并且，上述掩模板密封整形装置结构简单，无需引入可动元件，能够提高光刻机整机的可靠性。

Mask sealing and shaping device

【技术实现步骤摘要】
掩模板密封整形装置
本专利技术涉及光刻
，尤其涉及一种掩模板密封整形装置。
技术介绍
随着TFT(ThinFilmTransistor，薄膜晶体管)显示屏尺寸的增大，光刻机内用于曝光的掩模板的尺寸及重量也在不断地增大，然而，掩模板尺寸及重量的增大会导致掩模板被吸附在掩模台上时因自重发生变形。并且，掩模板尺寸及重量越大，变形越大，影响掩模板的曝光精度。如图1所示，尺寸为1200mm×850mm×10mm的掩模板在自重情况下所产生的变形最大能达到40μm～50μm，如此大的面板形状变化会对掩模板的曝光精度产生严重的影响。目前，为克服掩模板自重变形对掩模板曝光精度的影响，采用掩模吸附方式配合多个拼接物镜扫描的方式提高掩模板曝光精度。首先，通过两边吸附使掩模板重力变形沿扫描方向对称，然后，调整拼接物镜的可动镜片的高度以适应掩模板在非扫描方向的自重变形，使空间像在非扫描方向基本保持在一个平面内。该种方式能够在一定程度上降低掩模板自重变形对曝光精度的影响，但是，即便掩模板的重力变形沿扫描方向对称，掩模板在扫描方向上仍然有很大起伏。并且，为了获本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩模板密封整形装置，包括整形框架(10)和设置在所述整形框架(10)一侧的整形玻璃(20)，所述整形框架(10)上开设有真空通道(11)，其特征在于，所述掩模板密封整形装置还包括密封圈(30)，所述密封圈(30)设置在所述整形框架(10)的另一侧上，用于与需整形的掩模板(40)密封形成封闭空间，所述真空通道(11)与所述封闭空间连通。/n

【技术特征摘要】
1.一种掩模板密封整形装置，包括整形框架(10)和设置在所述整形框架(10)一侧的整形玻璃(20)，所述整形框架(10)上开设有真空通道(11)，其特征在于，所述掩模板密封整形装置还包括密封圈(30)，所述密封圈(30)设置在所述整形框架(10)的另一侧上，用于与需整形的掩模板(40)密封形成封闭空间，所述真空通道(11)与所述封闭空间连通。


2.根据权利要求1所述的掩模板密封整形装置，其特征在于，所述密封圈(30)包括相互连接的安装部(31)和密封圈本体(32)，所述安装部(31)与所述整形框架(10)连接，所述密封圈本体(32)上开设有凹槽(321)，所述凹槽(321)的开口朝向所述整形玻璃(20)。


3.根据权利要求2所述的掩模板密封整形装置，其特征在于，所述凹槽(321)为U型槽。


4.根据权利要求3所述的掩模板密封整形装置，其特征在于，所述安装部(31)与所述整形框架(10)粘接连接。


5.根据权利要求2所述的掩模板密封整形装置，其特征在于，还包括紧固件(50)，所述安装部(31)通过所述紧固件(50)与所述整形框架(10)连接。


6.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：马方波，吴福龙，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31