光场强度检测系统技术方案

本实用新型专利技术涉及一种光场强度检测系统，光场强度检测系统包括待测光场产生装置、分离装置以及检测装置。首先，通过介质颗粒对待测光场进行散射，从而实现电场分量和磁场分量的同步表征；然后，通过波导薄膜对散射光中的电场信号和磁场信号进行不同激发角度的辐射，从而对散射光中的电场信号和磁场信号进行分离；最后，采集电场信号和磁场信号，并且生成相应的电场强度分布图和磁场强度分布图。通过实现待测光场中的电场信号和磁场信号的同步表征，拓展了光场信息表征的维度，促进了人们对光场本质的认识，也提供了新的光场信息获取手段，因此，在纳米尺度下的光与物质相互作用以及超分辨信息处理等研究领域有十分重要的应用价值。

Light field intensity detection system

【技术实现步骤摘要】
光场强度检测系统
本技术涉及光学领域，尤其涉及一种光场强度检测系统。
技术介绍
从1961年中国宣布第一台激光器研制成功至今，激光技术已在我国的众多领域广泛应用，并且迅速促进了“纳米技术”的诞生与发展。在当代，“纳米技术”和“信息时代”的结合，为信息的获取、存储进入纳米化提供了基础。为了满足纳米技术“更小”和“更快”的需求，对光提出了更高的要求，也迫使人们不断探索光的各种物理特性。然而光所蕴含的物理特性内涵犹如层层面纱，需要科学工作者不断去揭开。例如，光在信息的提取，从最初的波长的研究发展到对振幅、相位等研究，再到对光的偏振、角动量等研究，从而获取相应的信息。光在信息领域的应用维度逐步得到扩大。当然，将光作为一种信息工具，必须对光本身的物理特征有着充分的了解，才能够在信号获取方面提供理论上的依据。研究纳米范围的光场信息需要依赖于光与物质相互作用，物质在光场中所表现出的物理特性，能够准确反映光场本身的物理特性。人们正是通过这种方式逐渐加深了对光场的认识。光场是电磁场，光场与物质的相互作用，既包含了电场与物质的相互作用，又包含了磁场与物质的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光场强度检测系统，其特征在于，包括：/n待测光场产生装置，所述待测光场产生装置用于产生待测光场；/n分离装置，所述分离装置包括介质颗粒和波导薄膜，所述待测光场依次经过介质颗粒和波导薄膜，介质颗粒产生散射光实现待测光场的响应，波导薄膜对散射光中的电场信号和磁场信号进行分离，其中，所述介质颗粒同时具有电偶共振和磁偶共振，所述波导薄膜同时支持横电波模式和横磁波模式；以及/n检测装置，所述检测装置用于采集所述电场信号和所述磁场信号，并且生成相应的电场强度分布图和磁场强度分布图。/n

【技术特征摘要】
1.一种光场强度检测系统，其特征在于，包括：
待测光场产生装置，所述待测光场产生装置用于产生待测光场；
分离装置，所述分离装置包括介质颗粒和波导薄膜，所述待测光场依次经过介质颗粒和波导薄膜，介质颗粒产生散射光实现待测光场的响应，波导薄膜对散射光中的电场信号和磁场信号进行分离，其中，所述介质颗粒同时具有电偶共振和磁偶共振，所述波导薄膜同时支持横电波模式和横磁波模式；以及
检测装置，所述检测装置用于采集所述电场信号和所述磁场信号，并且生成相应的电场强度分布图和磁场强度分布图。


2.根据权利要求1所述的光场强度检测系统，其特征在于，所述待测光场产生装置包括激光器和物镜，所述激光器产生的激光经过物镜。


3.根据权利要求2所述的光场强度检测系统，其特征在于，所述待测光场产生装置还包括偏振片和反射镜，所述激光器产生的激光依次经过偏振片、反射镜以及物镜。


4.根据权利要求3所述的光场强度检测系统，其特征在于，所述偏振片包括半波片和涡旋半波片，激光器产生的激光依次经过半波片和涡旋半波片。


5.根据权利要求1所述的光场强度检测系统，其特征在于，所述介质颗粒为硅颗粒。


6.根据权利要求1所述的光场强度检测系统，其特征在于，所述波导薄膜为从上至下依次层叠的介质薄膜、金属薄膜以及玻璃基底基底。


7.根据权利要求1所述的光场强度检测系统，其特征在于，所述检测装置包括第一检测组件和第二检测组件，所述第一检测组件用于采集电场信号或者磁场信号，并且生成相应的电场强度分布图或者磁场强度分布图；所述第二检测组件用于采集所述磁场信号或者电场信号，并且生成相应的磁场强度分布图或者电场强度分布图。...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨爱萍，杜路平，孟繁斐，袁小聪，
申请(专利权)人：深圳大学，
类型：新型
国别省市：广东;44