水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备制造技术

一种水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备，包括：沉积反应槽、移动机构及多个载具；沉积反应槽内在两个长槽壁分别安装多个喷流模块；移动机构安装于沉积反应槽外壁，包括马达、传动组件及两组链条组，链条组设有多个承接件，马达经由传动组件带动两个链条组同步移动；载具包括横杆及两承架，两承架固定于所述横杆且具有开口，载具以斜置形态由横杆两端架设于两个承接件内，斜置形态指载具位置与前进方向具有斜置角度，所述斜置角度为74～81度；借此本实用新型专利技术采用直立斜置形态的电路板移动方式，配合反应液喷流至电路板表面和孔内壁，有效率地将金属沉积在电路板表面和孔内壁且避免气泡残留其中，另可扩大应用在各种化学沉积作业。

Chemical deposition equipment for continuous production in horizontal oblique mode

【技术实现步骤摘要】
水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备
本技术为一种电路板的化学沉积方法的
，尤其指一种水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备。
技术介绍
在现有的化学镍金制程中，是利用单一吊篮将多片电路板为一组，将所述电路板依序上升、下降及移动至各化学溶液槽或各类槽室内进行相关作业，以满足大量生产的需求。具体流程为上料→清洁→水洗→微蚀→水洗→酸洗→水洗→预浸→活化→水洗→后浸→水洗→化学沉镍→水洗→化学沉金→水洗→酸洗→水洗→烘干→下料。由于上述方法所需的厂房空间大，过程中容易让制程中有害气体飘散，影响操作者的健康，槽体尺寸大且槽体内反应液的需求量也大。另外生产后的大量废液处理也是一个成本负担。
技术实现思路
本技术的主要目的是提供一种水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备，在化学沉积生产作业中，载具承载电路板采用垂直式连续生产模式在沉积反应槽内移动，载具呈斜置形态，即载具位置与移动方向具有斜置角度，配合沉积反应槽内的多个喷流模块持续喷出的反应液，借此能提升生产效率又能维持生产质量。本技术的次要目的是提供一种水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备，此方式能广泛应用于化学沉积镍、化学沉积金、化学沉积铜、化学沉积锡或化学沉积银等作业。为达上述的目的，本技术为一种水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备，包括：一沉积反应槽，两个相对位置的长槽壁内分别安装多个喷流模块，所述喷流模块能持续喷出反应液；一移动机构，安装于所述沉积反应槽外壁，包括马达、传动组件及两组链条组，两组所述链条组分别设置于所述长槽壁外侧，所述链条组设有多个承接件，所述马达经由所述传动组件带动两个所述链条组同步移动；多个载具，包括横杆及两承架，所述两承架呈对称状固定于所述横杆，所述两承架在另一侧具有开口，所述开口供电路板放入，所述载具以斜置形态由所述横杆两端架设于位置相对应的两个所述承接件内，所述斜置形态指所述载具位置与前进方向具有斜置角度，所述斜置角度为74～81度。可选的，多个所述喷流模块呈交错分布方式设置于两个所述长槽壁。可选的，多个所述喷流模块的喷流方向垂直于所述载具的移动方向。可选的，所述载具还包括多个连接杆及保持杆，所述连接杆横向结合于两所述承架之间，所述保持杆结合于所述两承架的最底部位置，所述保持杆两端各设有保持片，两个所述保持片之间的距离，为所述电路板最大尺寸的宽度。可选的，所述沉积反应槽安装反应液供给循环装置，所述反应液供给循环装置经管路与所述喷流模块相连接且控制运作时机。可选的，还包括一转向放置机构，所述转向放置机构包括吊臂单元、转向悬臂单元及升降单元，所述升降单元架设于所述沉积反应槽，所述升降单元带动所述转向悬壁单元升降，所述转向悬臂单元具有悬臂，所述悬臂一端具有转向机构且安装着所述吊臂单元，所述吊臂单元两端各设有吊钩，所述转向悬臂单元能带动所述吊臂单元旋转，以切换所述吊钩的位置。可选的，还包括一上板机构，所述上板机构位置于暂存机一侧，所述上板机构位于所述转向放置机构的所述吊臂单元下降路径中，所述上板机构将所述载具调整为所述斜置形态，再供所述吊臂单元吊起所述载具。可选的，所述上板机构包括第一位置调整件、第二位置调整件、第一推动组及第二推动组，所述第一位置调整件具有第一初始凹槽及第一定位凹槽，所述第二位置调整件具有第二初始凹槽及第二定位凹槽，所述第一初始凹槽至所述第一定位凹槽的距离不等于所述第二初始凹槽至所述第二定位凹槽的距离；所述第一推动组安装于所述第一位置调整件，能带动第一推杆由所述第一初始凹槽移动至所述第一定位凹槽，所述第二推动组安装于所述第二位置调整件，能带动第二推杆由所述第二初始凹槽移动至所述第二定位凹槽。可选的，所述承接件具有朝上斜置的凹槽，所述凹槽用以承接所述载具。可选的，所述凹槽的槽形呈由上而下渐渐缩小的喇叭型。可选的，所述凹槽中具有尺寸最小的颈部槽，所述凹槽以所述颈部槽为分界点尺寸分别向槽深处或槽入口渐渐增加。本技术水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备，是利用所述载具承载着电路板以斜置形态在化学沉积槽内移动，配合位于所述化学沉积槽内的多个喷流模块持续喷出的反应液，所产生的水流不仅能带离所述电路板表面、或是电路板上通孔或盲孔内可能残留的气泡，且有效地提升前述各处反应液的置换效率，因此提升了电路板表面、通孔或盲孔内的沉积厚度均匀性。如此能提升生产效率又能维持生产质量。以下配合图式及组件符号对本技术的实施方式做更详细的说明。附图说明图1A为本技术的沉积制程设备的架构示意图；图1B为本技术沉积制程设备中，电路板移动状态的侧视示意图；图2为本技术的沉积制程设备运作的流程图；图3为本技术斜置式连续生产的化学沉积方法的流程图；图4为本技术斜置式连续生产的化学沉积槽示意图；图5A为本技术链条组的局部放大图；图5B为本技术承接件的俯视图；图5C为本技术载具的横杆置放于单一承接件的不同状态图；图6为本技术载具的立体放大图；图7为本技术实际运作的示意图；图8为本技术的暂存机与上板机构的立体图；图9为本技术上板机构推动所述载具移动的示意图；图10为本技术转向置放机构与沉积反应槽的立体示意图。附图标记说明：暂存机10上板机构11转向放置机构12化学沉镍槽13水槽14水洗室141滴干室142化学沉金槽15回收水洗槽16下板机构17输出机构18第一移载机构191第二移载机构192回收移载机构193载具A电路板B斜置角度θ角度θ1角度θ2步骤201～209步骤301～303沉积反应槽40长槽壁41短槽壁42喷流模块43反应液供给循环装置44移动机构50马达51传动组件52链轮组521传动链条522链条组53承接件531凹槽5311颈部槽5312载具60横杆61承架62开口63连接杆64保持杆65保持片651暂存机10A输送机构101掀板机构102钩件1021输送链条1022上板机构11A第一位置调整件111第一初始凹槽1111第一定位凹槽1112第二位置调整件112第二初始凹槽1121第二定位凹槽1122第一推动组113第一推杆1131第二推动组114第二推杆1141转向放置机构12A吊臂单元121吊钩1211转向悬臂单元122转向机构1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备，其特征在于，包括：/n一沉积反应槽，两个相对位置的长槽壁内分别安装多个喷流模块，所述喷流模块能持续喷出反应液；/n一移动机构，安装于所述沉积反应槽外壁，包括马达、传动组件及两组链条组，两组所述链条组分别设置于所述长槽壁外侧，所述链条组设有多个承接件，所述马达经由所述传动组件带动两个所述链条组同步移动；/n多个载具，包括横杆及两承架，所述两承架呈对称状固定于所述横杆，所述两承架在另一侧具有开口，所述开口供电路板放入，所述载具以斜置形态由所述横杆两端架设于位置相对应的两个所述承接件内，所述斜置形态指所述载具位置与前进方向具有斜置角度，所述斜置角度为74～81度。/n

【技术特征摘要】
1.一种水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备，其特征在于，包括：
一沉积反应槽，两个相对位置的长槽壁内分别安装多个喷流模块，所述喷流模块能持续喷出反应液；
一移动机构，安装于所述沉积反应槽外壁，包括马达、传动组件及两组链条组，两组所述链条组分别设置于所述长槽壁外侧，所述链条组设有多个承接件，所述马达经由所述传动组件带动两个所述链条组同步移动；
多个载具，包括横杆及两承架，所述两承架呈对称状固定于所述横杆，所述两承架在另一侧具有开口，所述开口供电路板放入，所述载具以斜置形态由所述横杆两端架设于位置相对应的两个所述承接件内，所述斜置形态指所述载具位置与前进方向具有斜置角度，所述斜置角度为74～81度。


2.如权利要求1所述的水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备，其特征在于，多个所述喷流模块呈交错分布方式设置于两个所述长槽壁。


3.如权利要求1所述的水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备，其特征在于，多个所述喷流模块的喷流方向垂直于所述载具的移动方向。


4.如权利要求1所述的水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备，其特征在于，所述载具还包括多个连接杆及保持杆，所述连接杆横向结合于两所述承架之间，所述保持杆结合于所述两承架的最底部位置，所述保持杆两端各设有保持片，两个所述保持片之间的距离，为所述电路板最大尺寸的宽度。


5.如权利要求1所述的水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备，其特征在于，所述沉积反应槽安装反应液供给循环装置，所述反应液供给循环装置经管路与所述喷流模块相连接且控制运作时机。


6.如权利要求1所述的水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备，其特征在于，还包括一转向放置机构，所述转向放置机构包括吊臂单元、转向...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄信航，
申请(专利权)人：黄信航，
类型：新型
国别省市：中国台湾;71