一种掩膜版检测装置及方法、掩膜版库设备制造方法及图纸

本发明专利技术实施例公开了一种掩膜版检测装置及方法、掩膜版库设备。其中，掩膜版检测装置包括：光源模块、掩膜版检测模块和信号处理模块；光源模块包括第一多路选通开关和多个第一光源；第一多路选通开关用于控制第一光源发出第一检测光线；掩膜版检测模块包括第二多路选通开关和多个第一传感器；第一传感器用于接收第一检测光线并转换为第一检测电信号；第二多路选通开关用于控制第一传感器接收第一检测光线；信号处理模块用于获取第一传感器的第一检测电信号并判断第一传感器所处的掩膜版槽是否存在掩膜版。本发明专利技术实施例提供的技术方案，可解决现有掩膜版库设备设置的掩膜版检测装置的数量较多，占用空间较大，装配精度要求较高的问题。

A mask detection device and method, mask library equipment

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜版检测装置及方法、掩膜版库设备
本专利技术实施例涉及半导体制造
，尤其涉及一种掩膜版检测装置及方法、掩膜版库设备。
技术介绍
光刻设备是一种将掩模版上的图案曝光成像到衬底基板上的设备，光刻设备需要设置掩膜版库设备：外部版库设备和内部版库设备，用于分别放置掩膜版。其中，外部版库设备是光刻设备接收掩膜版的接口，内部版库设备是光刻设备内部用于存贮掩模版的设备。外部版库设备是光刻设备的掩膜版接口，用户将带有掩模版的版盒支撑板放置在外部版库设备上，外部版库设备检测到掩模版后，控制掩膜版库设备垂向运动至交接位，从而机械手可以顺利的取走掩模版。在光刻设备中，对掩膜版库设备可能存在以下要求：由于国际半导体设备材料产业协会(SEMI)对掩膜版库的要求，六槽掩模版库需要垂向运动到交接位后取版；出于掩模版和版叉的安全及传输效率考虑，掩模版在交接之前，掩模传输系统需要知道当前掩膜版库设备具体哪个槽位里面有掩模版。因此，在外部版库设备、内部版库设备设计时，需要有掩膜版检测装置，用于检测掩膜版库设备的对应槽内是否存在掩模版。>当前使用的掩膜版检本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜版检测装置，其特征在于，包括：光源模块、掩膜版检测模块和信号处理模块；/n所述光源模块包括第一多路选通开关和多个第一光源；所述多个第一光源分别与所述第一多路选通开关电连接；至少一个掩膜版槽的第一端设置有一所述第一光源；所述第一多路选通开关用于根据第一选通命令选择控制至少一个第一光源发出第一检测光线；/n所述掩膜版检测模块包括第二多路选通开关和多个第一传感器；设置有所述第一光源的所述掩膜版槽的第二端设置有一第一传感器；所述掩膜版槽的第一端与第二端相对；所述第一传感器用于接收所述第一检测光线并转换为第一检测电信号；所述第二多路选通开关用于根据第二选通命令选择控制所述至少一个第一传感器接...

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版检测装置，其特征在于，包括：光源模块、掩膜版检测模块和信号处理模块；
所述光源模块包括第一多路选通开关和多个第一光源；所述多个第一光源分别与所述第一多路选通开关电连接；至少一个掩膜版槽的第一端设置有一所述第一光源；所述第一多路选通开关用于根据第一选通命令选择控制至少一个第一光源发出第一检测光线；
所述掩膜版检测模块包括第二多路选通开关和多个第一传感器；设置有所述第一光源的所述掩膜版槽的第二端设置有一第一传感器；所述掩膜版槽的第一端与第二端相对；所述第一传感器用于接收所述第一检测光线并转换为第一检测电信号；所述第二多路选通开关用于根据第二选通命令选择控制所述至少一个第一传感器接收所述第一检测光线；
所述信号处理模块分别与所述第一多路选通开关和所述第二多路选通开关电连接；所述信号处理模块用于发送所述第一选通命令至所述第一多路选通开关，发送所述第二选通命令至所述第二多路选通开关；所述信号处理模块还用于通过所述第二多路选通开关获取所述至少一个第一传感器的所述第一检测电信号并判断所述第一传感器所处的掩膜版槽是否存在掩膜版。


2.根据权利要求1所述的掩膜版检测装置，其特征在于，所述信号处理模块包括：控制器和模数转换单元；
所述控制器用于输出所述第一选通命令至所述第一多路选通开关，并输出所述第二选通命令至所述第二多路选通开关；所述模数转换单元将所述掩膜版检测模块输出的第一检测电信号进行模数转换后输送至所述控制器；
所述控制器用于在模数转换后的所述第一检测电信号的数值大于检测阈值时，确定所述第一传感器所处掩膜版槽未放置掩膜版，否则确定所述第一传感器所处掩膜版槽放置有掩膜版。


3.根据权利要求2所述的掩膜版检测装置，其特征在于，所述信号处理模块还用于：接收检测阈值校准命令，并对所述检测阈值进行校正。


4.根据权利要求3所述的掩膜版检测装置，其特征在于，
所述信号处理模块用于：
在接收检测阈值校准命令时，获取多组所述掩膜板槽存在掩膜版时的第一检测电信号的平均值，并标记为第一平均值；获取多组所述掩膜版槽不存在掩膜版时的第一检测电信号的平均值，并标记为第二平均值；
将所述第二平均值和第一平均值的平均值作为校正后的检测阈值。


5.根据权利要求3所述的掩膜版检测装置，其特征在于，所述信号处理模块还包括：比较器；
所述比较器的第一输入端与所述掩膜版检测模块电连接，所述比较器的第二输入端与所述控制器的检测阈值输出端电连接，所述比较器的输出端与所述控制器电连接；用于对所述检测阈值进行校准；
所述信号处理模块控制所述掩膜版检测模块将所述掩膜板槽存在掩膜版时的第一检测电信号输入至所述比较器的第一输入端；
所述信号处理模块输出逐次增加第一增量的检测阈值至所述比较器的第二输入端；
当所述比较器输出端输出的比较信号出现电平跳变时，将电平跳变时刻对应的检测阈值与第二增量的加和作为校正后的所述检测阈值；其中，所述第二增量为所述掩膜板槽不存在掩膜版时的第一检测电信号与所述掩膜版槽存在掩膜版时的第一检测电信号的差值的二分之一。


6.根据权利要求2所述的掩膜版检测装置，其特征在于，所述光源模块还包括：光源驱动电路，分别与所述第一多路选通开关和所述多个第一光源电连接，用于在所述第一多路选通开关的控制下驱动至少一个第一光源发光；
所述信号处理模块还包括数模转换单元，所述数模转换单元分别与所述控制器和所述光源驱动电路电连接，用于将所述控制器输出的亮度调节信号进行数模转换并输出至所述光源驱动电路；所述光源驱动电路还用于根据所述亮度调节信号调节所述第一光源的亮度。


7.根据权利要求1所述的掩膜版检测装置，其特征在于：
所述第一光源通过接插件与所述掩膜版槽的第一端的第一板卡连接；所述第一传感器通过接插件与所述掩膜版槽的第二端的第二板卡连接。


8.根据权利要求1-7任一项所述的掩膜版检测装置，其特征在于，所述光源模块还包括：多个第二光源；
所述多个第二光源分别与所述第一多路选通开关电连接；设置有所述第一光源的所述掩膜版槽的第一端设置有一所述第二光源；所述第一多路选择开关还用于根据所述信号处理模块发送的第三选通命令选择控制至少一个第二光源发出第二检测光线；
所述掩膜版检测模块还包括多个第二传感器；设置有所述第二光源的所述掩膜版槽的第二端设置有一第二传感器；所述第二传感器用于接收所述第二检测光线并转换为第二检测电信号；所述第二多路选通开关用于根据所述信号处理模块发送的第四选通命令选择控制所述至少一个第二传感器接收所述第二检测光线；
所述信号处理模块还用于通过所述第二多路选通开关获取...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐文力，祝玥华，吴钱忠，朱骏宇，陈淮阳，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31