低反射复合体层、其制作方法及其应用于阵列基板技术

技术编号:23624201 阅读:48 留言:0更新日期:2020-03-31 22:17
本发明专利技术提供一种低反射复合体层及其制作方法与阵列基板。低反射复合体层包括三维硅橡胶以及黑色金属氧化物颗粒形成的三维多孔结构。本发明专利技术通过利用低反射复合体层的复合体材料形貌加强对可见光源的吸收,从而降低其反射率,且该方法成本低。本发明专利技术提供的阵列基板中的缓冲层采用所述低反射复合体层,避免了产生强烈的反光现象,节省了成本,并提高了对比度和观赏视觉效果,提升了产品竞争力。

Low reflection composite layer, its fabrication method and its application in array substrate

【技术实现步骤摘要】
低反射复合体层、其制作方法及其应用于阵列基板
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种低反射复合体层、其制作方法及其应用于阵列基板。
技术介绍
在液晶显示面板中,随着高世代液晶显示器(TFT-LCD)的发展,面板向大型化、高画质、高分辨率演变,而随着尺寸越来越大,金属布线数量及长度均有大幅度增多。为了增加显示面板的视觉和外观效果,目前开发窄边框,甚至四边无边框技术,但此种方法与阵列基板侧朝外一样,面临着边缘漏光、对比度降低的不良。市面上已有公司开发出阵列基板侧朝外的方案设计并实际产出液晶电视产品,但其效果不佳,当阵列基板侧朝外时,其金属栅极(Gate)布线主要材质为Cu/Mo、Mo/Al、Cu/MoTi、Cu/Ti等强反射的金属,光在金属部分的反射率都很高。一般在金属电极的反射率在可见光400-700nm的平均反射率大于40%,强烈的反光严重影响人眼观赏的效果。目前有在开发低反射金属膜层作为阻挡层降低反射率或对金属层表面进行粗化处理进而降低其反射率,但效果不佳;也有尝试通过贴附一张1/4λ波长的偏光片作为低反射膜来减少金属反光,但却增加本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低反射复合体层,其特征在于,包括三维硅橡胶以及黑色金属氧化物颗粒形成的三维多孔结构。/n

【技术特征摘要】
1.一种低反射复合体层,其特征在于,包括三维硅橡胶以及黑色金属氧化物颗粒形成的三维多孔结构。


2.根据权利要求1所述的低反射复合体层,其特征在于,所述三维多孔结构的化学结构式为:





3.根据权利要求1所述的低反射复合体层,其特征在于,所述黑色金属氧化物颗粒包括MoOx、MoOx-Nd、MoOx-Ta、MoOx-Al中的任一种或两种以上的组合。


4.根据权利要求1所述的低反射复合体层,其特征在于,所述三维硅橡胶的化学分子式为SiO1.46C1.41。


5.一种低反射复合体层的制作方法,其特征在于,包括步骤:
制作三维硅橡胶并提供黑色金属氧化物颗粒;
将定量的所述三维硅橡胶与定量的黑色金属氧化物颗粒混合,再添加聚醚酰亚胺以及乙二醇,通过混合或真空抽滤的方式获得混合物;以及
将所述混合物加热处理后形成低反射复合体层。


6.根据权利要求5所述的低反射复合体层的制作方法,其...

【专利技术属性】
技术研发人员:吴豪旭
申请(专利权)人:深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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