显示基板、其制作方法及显示装置制造方法及图纸

本申请提供一种显示基板、其制作方法及显示装置，涉及显示技术领域，包括彩膜基板，彩膜基板包括衬底基板、遮光层、色阻层和微结构层；遮光层包括遮光部和开口，开口沿垂直于衬底基板的方向上贯穿遮光层；色阻层包括多个色阻，色阻位于开口内；微结构层位于衬底基板与遮光层之间，包括呈阵列排布的微结构，各微结构靠近遮光层的一侧形成第一凹凸结构；微结构层的折射率为n1，衬底基板的折射率为n2，n1和n2的差值小于等于预定值。本申请在衬底基板与遮光层之间设置与衬底基板的折射率相近的微结构层，避免衬底基板与遮光层之间的折射率差异较大造成光反射率较大的问题，有利于降低显示基板的总反射率，改善显示效果，提升用户观看体验。

Display base plate, manufacturing method and display device

【技术实现步骤摘要】
显示基板、其制作方法及显示装置
本申请涉及显示
，具体地说，涉及一种显示基板、其制作方法及显示装置。
技术介绍
近年来，液晶显示装置(LiquidCrystalDisplay，简称LCD)产品发展十分迅猛，越来越多高品质的液晶显示器逐渐上市，其应用领域也不断拓宽。液晶显示装置通常包括阵列基板、彩膜基板以及设置在彩膜基板靠近出光面一侧的导电层、偏光片等，由于各个膜层之间的折射率存在差异，因此，当有光照射时，各个膜层之间会存在光反射，造成光损耗。此外，彩膜基板包括衬底基板、遮光层和色阻层，由于遮光层和色阻层存在较强的反射，使得显示基板的总反射率增高，而当显示基板的总反射率较高时，将严重影响显示画面的观看效果，甚至会造成完全看不清显示画面的问题，影响用户观看体验。
技术实现思路
有鉴于此，本申请提供一种显示基板、其制作方法及显示装置，在衬底基板与遮光层之间设置与衬底基板的折射率相近的微结构层，避免衬底基板与遮光层之间的折射率差异较大造成光反射率较大的问题，有利于降低显示基板的总反射率，改善显示效果，提升用户观看体验。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板，其特征在于，包括：彩膜基板，所述彩膜基板包括：/n衬底基板；/n遮光层，所述遮光层包括多个遮光部和多个开口，所述开口沿垂直于所述衬底基板的方向上贯穿所述遮光层；/n色阻层，所述色阻层包括多个色阻，所述色阻位于所述开口内；/n微结构层，所述微结构层位于所述衬底基板与所述遮光层之间；所述微结构层包括多个呈阵列排布的微结构，各所述微结构靠近所述衬底基板的一侧形成一平面，各所述微结构靠近所述遮光层的一侧形成第一凹凸结构；所述微结构层的折射率为n1，所述衬底基板的折射率为n2，其中，n1和n2的差值小于等于预定值N。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，其特征在于，包括：彩膜基板，所述彩膜基板包括：
衬底基板；
遮光层，所述遮光层包括多个遮光部和多个开口，所述开口沿垂直于所述衬底基板的方向上贯穿所述遮光层；
色阻层，所述色阻层包括多个色阻，所述色阻位于所述开口内；
微结构层，所述微结构层位于所述衬底基板与所述遮光层之间；所述微结构层包括多个呈阵列排布的微结构，各所述微结构靠近所述衬底基板的一侧形成一平面，各所述微结构靠近所述遮光层的一侧形成第一凹凸结构；所述微结构层的折射率为n1，所述衬底基板的折射率为n2，其中，n1和n2的差值小于等于预定值N。


2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，
所述预定值N的取值范围为0≤N≤0.1。


3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述遮光层靠近所述微结构层的一侧形成第二凹凸结构，所述第二凹凸结构与所述第一凹凸结构相匹配。


4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，
所述微结构为圆锥体，所述圆锥体沿垂直于所述衬底基板所在平面的方向上的高度为90nm-780nm，相邻所述圆锥体底面中心点之间的距离为90nm-780nm。


5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括导电层、压敏胶层和偏光片，所述导电层位于所述衬底基板远离所述微结构层的一侧，所述压敏胶层位于所述导电层远离所述衬底基板的一侧，所述偏光片位于所述压敏胶层远离所述导电层的一侧；
所述导电层的折射率为n3，所述压敏胶层的折射率为n4，所述偏光片的折射率为n5，空气的折射率为n6；
微结构层的反射率衬底基板的反射率导电层的反射率压敏胶层的反射率偏光片的反射率


6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述遮光部和所述色阻的反射率均为所述遮光层和所述色阻层的总反射率为R’＝a*R+b*R，其中，I表示入射光光强，a表示所述开口在所述遮光层中所占的比例，b表示所述遮光部在所述遮光层中所占的比例。

【专利技术属性】
技术研发人员：张致远，桂坤，白婷婷，王建栋，
申请(专利权)人：上海天马微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31