一种用于钛箔微孔图形的蚀刻液及蚀刻方法技术

本发明专利技术涉及一种用于钛箔微孔图形的蚀刻液及蚀刻方法，蚀刻液按体积分数，由以下组分组成：氢氟酸3％～8％，盐酸7％～8％，过氧化氢2％～6％，余量为水。本发明专利技术采用氢氟酸、盐酸和过氧化氢作为蚀刻液的组成成分，在生产条件下对钛蚀刻的同时也可以对钛合金中的铁、钼、锆进行氧化反应，释放能量，减少能耗，不需要额外加热，可以直接蚀刻出不同形状和结构的

Etching solution and etching method for microporous pattern of titanium foil

【技术实现步骤摘要】
一种用于钛箔微孔图形的蚀刻液及蚀刻方法
本专利技术属于钛材料领域，特别涉及一种用于钛箔微孔图形的蚀刻液及蚀刻方法。
技术介绍
钛作为一种优良的金属材料，应用在社会的各个方面，如机械、航天、微电子等行业，特别是从20世纪50年代开始，日本、美国等国家开始了研究钛合金材料，钛及钛合金从此进入21世纪后，在钛合金中又加入Mo、Zr等合金元素。纯钛以及各种钛合金具有各自不同的性质，决定了各自不同的用处。相对于各种钛合金，纯钛的强度低，不适合作为由较高强度要求的承接固定件。而纯钛在微米级以下尺寸范围内的运用正好能满足要求，所以其用途也是越来越广泛。用于机械、航天、微电子等行业，需要制作出微米级尺寸的图形，根据这些图形在钛箔上蚀刻出该图形，满足一定的误差，并达到一定的工艺技术要求。现用的蚀刻技术主要分为干法蚀刻和湿法蚀刻两种，干法蚀刻包括等离子体蚀刻、电子束加工、激光束加工和气态反应性离子蚀刻等等，湿法蚀刻包括光化学蚀刻和电化学蚀刻。干法蚀刻的最大优点是加工速度快，但设备成本高，缺乏选择性，无法加工出复杂的三维结构(如球体、锥体)，其中三束本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于钛箔微孔图形的蚀刻液，其特征在于：按体积分数，由以下组分组成：氢氟酸3％～8％，盐酸7％～8％，过氧化氢2％～6％，余量为水。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于钛箔微孔图形的蚀刻液，其特征在于：按体积分数，由以下组分组成：氢氟酸3％～8％，盐酸7％～8％，过氧化氢2％～6％，余量为水。


2.一种用于钛箔微孔图形的蚀刻方法，包括：
(1)在钛板上涂敷光刻胶，烘干后取出；然后在双面曝光机上按的微孔图形板曝光，显影；
(2)将得到的显影板进行化学蚀刻，其中所采用的蚀刻液按体积分数，由以下组分组成：氢氟酸3％～8％，盐酸7％～8％，过氧化氢2％～6％，余量为水；将蚀刻后的产品在氢氧化钠水溶液中浸泡，直至未被蚀刻的光刻胶全部脱落为止，烘干，取出后包装即可。


3.根据权利要求2所述的蚀刻方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：任忠平，尹国钦，陈绍文，
申请(专利权)人：宁波福至新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33