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氨气的水气去除装置制造方法及图纸

技术编号:23592866 阅读:67 留言:0更新日期:2020-03-28 00:53
本发明专利技术为一种氨气的水气去除装置,包括一液氨储存槽、一加热单元、至少一冷却单元及一输出管线。液氨储存槽包括一液体容置区及一气体容置区,其中加热单元连接液体容置区,并用以加热液体容置区内的液氨及水,使得液氨及水蒸发成为氨气及水气,并传送至气体容置区。冷却单元位于气体容置区,并用以冷却气体容置区的氨气的水气,其中水气会凝结在冷却单元的表面,并回流到液体容置区,而氨气则会通过输出管线输送至液氨储存槽的外部。通过本发明专利技术所述的水气去除装置,将可有效去除氨气中的水气,并提高输出的氨气的纯度。

Water gas removal device of ammonia

【技术实现步骤摘要】
氨气的水气去除装置
本专利技术是有关于一种氨气的水气去除装置,可有效去除氨气中的水气,以提高输出氨气的纯度。
技术介绍
氨气是半导体制程中重要的材料,以发光二极体(LED)为例,纯氨是制造LED的氮化镓晶体的重要材料,一般LED厂使用的纯氨虽为6N5(99.99995%)以上的等级。氨气通常会在高压低温的条件下,以液态的方式存放在储存槽中。在使用时仅需要开启连接储存槽的管线,便可输出纯氨。然而在实际应用时,液氨中通常会存在部分的水,当开启连接储存槽的管线时,液氨中的水亦会蒸发为水气,并与氨气一同由连接储存槽的管线输出。当输出的氨气具有水气时,势必会降低氨气的纯度,并有可能会后续的制程造成不利的影响,进而降低制程的良率。
技术实现思路
本专利技术提出一种氨气的水气去除装置,主要用以去除氨气中的水气,以提高氨气的纯度。本专利技术提出一种氨气的水气去除装置,主要在一液氨储存槽中设置至少一冷却单元及至少一加热单元。加热单元直接或间接接触液氨储存槽内的液氨及水,并用以提高液氨及水的温度,使得液氨及水蒸发成为氨气本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种氨气的水气去除装置,其特征在于,包括:/n一液氨储存槽,包括一液体容置区及一气体容置区,其中该液体容置区流体连接该气体容置区,且该液体容置区用以存放一液氨及一水;/n一加热单元,连接该液氨储存槽,并用以加热该液氨储存槽内的该液氨,使得该液氨及该水受热形成一氨气及一水气,其中该氨气及该水气传送至该气体容置区;/n至少一冷却单元,位于该气体容置区内,并用以冷却该气体容置区的该氨气及该水气,并包括:/n一管体,用以输送一冷却流体;/n至少一导热板,连接该管体,其中该管体及该导热板与该气体容置区内的该氨气及该水气接触,并降低该氨气及该水气的温度,使得该水气凝结在该管体及该导热板的表面;及/n一...

【技术特征摘要】
1.一种氨气的水气去除装置,其特征在于,包括:
一液氨储存槽,包括一液体容置区及一气体容置区,其中该液体容置区流体连接该气体容置区,且该液体容置区用以存放一液氨及一水;
一加热单元,连接该液氨储存槽,并用以加热该液氨储存槽内的该液氨,使得该液氨及该水受热形成一氨气及一水气,其中该氨气及该水气传送至该气体容置区;
至少一冷却单元,位于该气体容置区内,并用以冷却该气体容置区的该氨气及该水气,并包括:
一管体,用以输送一冷却流体;
至少一导热板,连接该管体,其中该管体及该导热板与该气体容置区内的该氨气及该水气接触,并降低该氨气及该水气的温度,使得该水气凝结在该管体及该导热板的表面;及
一输出管线,连接该气体容置区,并用以输送该气体容置区内的该氨气。


2.根据权利要求1所述的氨气的水气去除装置,其特征在于,其中该冷却单元的数量为复数个。


3.根据权利要求2所述的氨气的水气去除装置,其特征在于,其中该复数个冷却单元在该气体容置区内排列成复数层的冷却构造,设置在相同高度的两个相邻的该冷却单元之间具有一间隙,而设置在不同高度的该冷却单元则位于该间隙上方。<...

【专利技术属性】
技术研发人员:潘昌吉
申请(专利权)人:苏容婵
类型:发明
国别省市:中国台湾;71

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