一种MPCVD合成设备模拟测试装置及其模拟测试方法制造方法及图纸

技术编号:23512227 阅读:38 留言:0更新日期:2020-03-17 23:45
本发明专利技术提供一种MPCVD合成设备模拟测试装置及其模拟测试方法,包括:供电模块、控制系统和显示模块;供电模块用于为控制系统和显示模块进行供电和配电;控制系统包括控制中心和输入/输出模块,用于接收测试对象输入的测试信号和测试指令后,对其进行测量、解析、判断和显示,并按照要求输出反馈信号和反馈指令;显示模块用于显示模拟测试装置所检测到测试信号的测试值和判定结果,以及所接收到的测试指令的解析结果。本发明专利技术能模拟MPCVD合成设备内除操作系统和数据控制单元外的所有功能模块,在设备调试和检修过程中,能验证由自动化控制程序实现的工艺流程的准确性和稳定性,并测量数据控制单元输出信号的准确性。

A simulation test device for MPCVD synthesis equipment and its simulation test method

【技术实现步骤摘要】
一种MPCVD合成设备模拟测试装置及其模拟测试方法
本专利技术涉及一种微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)合成设备自动化控制方法和操作流程的模拟测试装置,具体涉及一种MPCVD合成设备模拟测试装置及其模拟测试方法,属于化学气相沉积设备领域和测试控制

技术介绍
MPCVD(MicrowavePlasmaChemicalVaporDeposition的英文缩写,中文意思为微波等离子体化学气相沉积,以下简称“MPCVD”)法不仅可以用于合成金刚石,还适用于很多其他材料的制备,但MPCVD合成设备在调试和检修过程中,会遇到易燃易爆气体泄露、大功率微波泄露和高压触电等危险情况,同时在上机调试设备操作流程时如出现错误以及控制程序出现故障都可能对设备造成损伤,甚至危及测试人员人身安全,因此需要在设备调试阶段和故障检测前先通过模拟测试器进行对各操作流程和控制程序进行模拟和测试,及时发现操作流程和控制程序存在的问题,大幅降低实际测试和检修时发生事故的几率。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种MPCVD合成设备模拟测本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种MPCVD合成设备模拟测试装置,其特征在于,包括:供电模块、控制系统和显示模块;/n所述供电模块用于为控制系统和显示模块进行供电和配电,使内部器件可正常工作;/n所述控制系统包括控制中心和输入/输出模块,用于接收测试对象输入的测试信号和测试指令后,对其进行测量、解析、判断和显示,并按照要求输出反馈信号和反馈指令;/n所述显示模块用于显示控制系统所检测到测试信号的测试值和判定结果,以及所接收到的测试指令的解析结果,便于测试人员对上位机和控制程序的测试结果进行分析和判断。/n

【技术特征摘要】
1.一种MPCVD合成设备模拟测试装置,其特征在于,包括:供电模块、控制系统和显示模块;
所述供电模块用于为控制系统和显示模块进行供电和配电,使内部器件可正常工作;
所述控制系统包括控制中心和输入/输出模块,用于接收测试对象输入的测试信号和测试指令后,对其进行测量、解析、判断和显示,并按照要求输出反馈信号和反馈指令;
所述显示模块用于显示控制系统所检测到测试信号的测试值和判定结果,以及所接收到的测试指令的解析结果,便于测试人员对上位机和控制程序的测试结果进行分析和判断。


2.根据权利要求1所述的MPCVD合成设备模拟测试装置,其特征在于,所述测试对象包括MPCVD合成设备内的微波发生及传输系统、气体流量控制系统、气路控制系统、气压测量系统、冷却水测量系统、温度测量系统、升降系统、安全防护系统中的各主要元器件和电气功能元件。


3.根据权利要求1所述的MPCVD合成设备模拟测试装置,其特征在于,所述供电模块包括电源分配器及AC-DC电源。

【专利技术属性】
技术研发人员:黄翀唐跃强
申请(专利权)人:长沙新材料产业研究院有限公司
类型:发明
国别省市:湖南;43

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