曝光设备和制造制品的方法技术

本发明专利技术提供一种曝光设备，其在扫描原稿和基板的同时曝光基板，所述曝光设备包括：台，所述台包括第一表面，并且能够在保持所述原稿的同时移动，在所述第一表面中形成有待被供应净化气体的第一凹入部分和第二凹入部分；以及构件，所述构件包括面向所述第一表面的第二表面，其中，所述第一凹入部分设置于所述台的所述第一表面中，以便限定其中布置所述原稿的第一空间，并且至少一个第二凹入部分在所述台的所述第一表面中设置于所述第一凹入部分外部，以便限定具有比所述第一空间更小的容积的第二空间。本发明专利技术还涉及一种制造制品的方法。

Exposure equipment and methods of manufacturing products

【技术实现步骤摘要】
曝光设备和制造制品的方法
本专利技术涉及一种曝光设备和一种制造制品的方法。
技术介绍
作为在液晶面板或半导体装置的制造工艺(光刻工艺)中使用的一种类型的设备，存在一种曝光设备，其将由照明光学系统照射的原稿的图案投影到基板上并曝光基板。已知在曝光设备中使用的原稿(掩模或掩模板)例如由于与在原稿周围存在的气氛中酸、碱或有机杂质反应而模糊。还已知的是，原稿的模糊由于大气中的水分而加速。当原稿以此方式模糊时，会发生例如曝光不足等问题，这可能使得难以将原稿的图案精确地转印到基板上。因此，在曝光设备中，期望用其杂质和湿度被调整(减少)的净化气体充满其中布置有原稿的空间。日本专利申请特开No.2015-228519提出一种布置，其中保持原稿的原稿台的可移动区域被板覆盖，并且将具有减少的杂质和湿度的净化气体供应给由板形成的内部空间。在曝光设备中，从运行成本等来看期望减少净化气体的使用量。然而，日本专利申请特开No.2015-228519中描述的专利技术具有以下布置：原稿台的整个可移动区域被板覆盖，因此由板形成的内部空间相比于原稿的容积非常大。因此，为了本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光设备，所述曝光设备在扫描原稿和基板的同时曝光基板，所述曝光设备包括：/n台，所述台包括第一表面，并且能够在保持所述原稿的同时移动，在所述第一表面中形成有待被供应净化气体的第一凹入部分和第二凹入部分；以及/n构件，所述构件包括面向所述第一表面的第二表面，/n其中，所述第一凹入部分设置于所述台的所述第一表面中，以便限定其中布置所述原稿的第一空间，并且/n至少一个第二凹入部分在所述台的所述第一表面中设置于所述第一凹入部分外部，以便限定具有比所述第一空间更小的容积的第二空间。/n

【技术特征摘要】
20180910 JP 2018-169120;20190522 JP 2019-0962501.一种曝光设备，所述曝光设备在扫描原稿和基板的同时曝光基板，所述曝光设备包括：
台，所述台包括第一表面，并且能够在保持所述原稿的同时移动，在所述第一表面中形成有待被供应净化气体的第一凹入部分和第二凹入部分；以及
构件，所述构件包括面向所述第一表面的第二表面，
其中，所述第一凹入部分设置于所述台的所述第一表面中，以便限定其中布置所述原稿的第一空间，并且
至少一个第二凹入部分在所述台的所述第一表面中设置于所述第一凹入部分外部，以便限定具有比所述第一空间更小的容积的第二空间。


2.根据权利要求1所述的曝光设备，其中，所述第二凹入部分相对于所述第一凹入部分设置于在扫描曝光期间所述台的扫描方向上。


3.根据权利要求2所述的曝光设备，其中，所述第二凹入部分在所述扫描方向上的长度小于所述第二凹入部分在垂直于所述扫描方向的方向上的长度。


4.根据权利要求2所述的曝光设备，其中，在垂直于所述扫描方向的方向上，所述第二凹入部分的长度不小于所述第一凹入部分的长度。


5.根据权利要求2所述的曝光设备，其中，所述第一表面与所述第二表面之间的距离小于所述第二凹入部分在所述扫描方向上的长度。


6.根据权利要求1所述的曝光设备，其中，所述第二凹入部分设置成在第二表面中围绕所述第一凹入部分的外部。


7.根据权利要求1所述的曝光设备，其中，在所述台的所述第一表面上，所述第二凹入部分的外部的区域包括所述第一表面与所述第二表面之间的距离最小的部分。


8.根据权利要求1所述的曝光设备，其中，所述第一凹入部分和所述第二凹入部分中的每一个具有不小于所述原稿的厚度的深度。


9.根据权利要求1所述的曝光设备，其中，所述第二凹入部分的深度不大于所...

【专利技术属性】
技术研发人员：本间将人，河原泉，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP