【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置
本专利技术属于显示
,具体涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置。
技术介绍
目前OLED(有机电致发光)显示器件的有机电致发光层的制作方法有:1、采用真空蒸镀技术,即在掩膜版存在下采用真空加热的方法使发光材料蒸发,在像素区成膜。该技术优点是成膜均一性好、不需要溶剂,但存在材料利用率低、仅适用于小分子发光材料、设备投资大、不适用大尺寸产品等缺点。2、采用溶液制程的OLED喷墨打印技术,将发光材料溶液精确滴入像素坑中,溶剂挥发成膜。相对于真空蒸镀技术,喷墨打印适用于大分子发光材料和小分子发光材料,且材料利用率高,设备成本低,高产能,更易于大规模、大尺寸产品的生产。然而,喷墨打印技术难点在于如何在像素区域内形成厚度均一的发光层。发光层厚度不均匀会导致发光不均匀,严重影响显示效果。工艺上想实现厚度均一的发光层,则首先要保证像素区域的基底是平坦的。当前工艺一般采用亚克力材料作为平坦层,其平坦能力已达不到打印OLED所要求的平坦度。一种流平性较好的有机硅氧烷树脂用于 ...
【技术保护点】
1.一种阵列基板,包括:基板和设置在所述基板上方的平坦层、阳极、发光功能层、阴极和像素界定层,所述像素界定层用于界定像素开口区,所述发光功能层设置在所述像素开口区内,所述平坦层、所述阳极、所述发光功能层和所述阴极依次远离所述基板设置,所述像素界定层位于所述平坦层和所述阴极之间,其特征在于,还包括中间绝缘层,所述中间绝缘层设置于所述平坦层和所述像素界定层之间,所述中间绝缘层的化学极性介于所述平坦层和所述像素界定层的化学极性之间。/n
【技术特征摘要】
1.一种阵列基板,包括:基板和设置在所述基板上方的平坦层、阳极、发光功能层、阴极和像素界定层,所述像素界定层用于界定像素开口区,所述发光功能层设置在所述像素开口区内,所述平坦层、所述阳极、所述发光功能层和所述阴极依次远离所述基板设置,所述像素界定层位于所述平坦层和所述阴极之间,其特征在于,还包括中间绝缘层,所述中间绝缘层设置于所述平坦层和所述像素界定层之间,所述中间绝缘层的化学极性介于所述平坦层和所述像素界定层的化学极性之间。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述中间绝缘层的化学极性小于所述平坦层的化学极性且大于所述像素界定层的化学极性。
3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述平坦层采用有机硅树脂材料,所述像素界定层采用有机的、含氟的、且与形成所述发光功能层的溶液呈疏液性质的材料,所述中间绝缘层采用亚克力树脂或者聚酰亚胺树脂材料。
4.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述平坦层采用有机硅氧烷树脂材料,所述像素界定层采用含氟亚克力树脂材料。
5.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述中间绝缘层的厚度范围为1-4μm。
6.根据权利要求1-5任意一项所述的阵列基板,其特征在于,所述中间绝缘层位于所述阳极的靠近所述平坦层的一侧。
7.根据权利要求6所述的阵列基板,其特征在于,所述像素界定层界定的所述像素开口区在所述基板上的正投影位于所述中间绝缘层在所述基板上的正投影内。
8.根据权利要求1-5任意一项所述的阵列基板,其特征在于,所述中间绝缘层位于所述阳极的靠近所述像素界定层的...
【专利技术属性】
技术研发人员:李伟,夏晶晶,周斌,张扬,李广耀,宋威,王轩昂,王庆贺,倪柳松,刘军,闫梁臣,王明,方金钢,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京;11
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