涂布头保护装置及配向膜涂布机制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种涂布头保护装置及一种配向膜涂布机。其中，该涂布头保护装置包括底座(1)，所述底座(1)上设置有导轨(11)；保护单元，设置在所述导轨(11)上，所述保护单元可沿所述导轨滑动至第一位置或第二位置；滑轨组件，设置在所述底座(1)上，且当所述保护单元滑动至所述第二位置时横跨所述保护单元，所述滑轨组件与所述导轨(11)垂直；清洁组件，设置在所述滑轨组件上，所述清洁组件可沿所述滑轨组件在所述保护单元表面滑动。该涂布头保护装置现了对涂布头的保护，减少了涂布头缺吐的频率，同时避免人工对结晶进行手动擦除，提高了机台的稼动率，而且采用清洁组件清除不会带入微粒，提高了显示面板的良率。

Protective device of coating head and directional film coater

【技术实现步骤摘要】
涂布头保护装置及配向膜涂布机
本技术属于液晶面板领域，具体涉及一种涂布头保护装置及配向膜涂布机。
技术介绍
涂布头保护单元普遍应用于给基板涂布配向膜的涂布机中，为配向(PI)膜涂布设备的喷嘴保护单元。涂布头保护单元通过浸泡的方式将喷嘴上的涂布头保护起来，防止喷嘴表面出现结晶。配向膜涂布机在封盖(capping)时，喷嘴浸泡在装有N-甲基吡咯烷酮(NMP)的涂布头保护杯(cup)中，当解封盖时，涂布头保护杯载台下降，喷嘴表面存在大滴的NMP和PI液的混合物，当涂布头保护杯载台回到原点时，位于涂布头保护杯一侧的胶条会将喷嘴表面的大部分混合物带走。黏附在胶条上的混合物暴露在空气下容易产生结晶，请参见图1和图2，当再次解封盖时结晶会粘附在喷嘴表面，造成喷嘴缺吐。目前，对胶条表面的结晶清洁的方式主要是用带有NMP的无尘布进行人工手动擦除，这种人工手动擦除方式需要对配向膜涂布机进行停机，影响了机台的稼动率，而且，人工手动擦除方式会带入微粒，影响显示面板的良率。
技术实现思路
为了解决现有技术中存在的上述问题，本技术提供了一种涂布头保护装置及配向膜涂布机。本技术要解决的技术问题通过以下技术方案实现：本技术实施例提供了一种涂布头保护装置，包括：底座，所述底座上设置有导轨；保护单元，设置在所述导轨上，所述保护单元可沿所述导轨滑动至第一位置或第二位置；滑轨组件，设置在所述底座上，且当所述保护单元滑动至所述第二位置时横跨所述保护单元，所述滑轨组件与所述导轨垂直；清洁组件，设置在所述滑轨组件上，所述清洁组件可沿所述滑轨组件在所述保护单元表面滑动。在本技术的一个实施例中，所述保护单元包括：载台，设置在所述导轨上，可沿所述导轨滑动至所述第一位置或所述第二位置；若干涂布头保护杯，规则分布在所述载台上；长条形刮片，设置在所述载台上，且位于若干所述涂布头保护杯的一侧，与所述导轨垂直设置。在本技术的一个实施例中，所述长条形刮片为胶条。在本技术的一个实施例中，所述滑轨组件包括：第一支撑件，设置在所述底座上，且位于所述长条形刮片的一端；第二支撑件，与所述第一支撑件平行，设置在所述底座上，且位于所述长条形刮片的另一端；第一滑轨，一端连接所述第一支撑件，另一端连接所述第二支撑件；第二滑轨，与所述第一滑轨平行，且一端连接所述第一支撑件，另一端连接所述第二支撑件。在本技术的一个实施例中，所述清洁组件包括：滑块，设置在所述第一滑轨和所述第二滑轨上，可沿所述第一滑轨和所述第二滑轨滑动；真空吸附组件，设置在所述滑块上，可随所述滑块的滑动在所述长条形刮片表面滑动。在本技术的一个实施例中，所述清洁组件还包括：清洁块，设置在所述滑块上，且设置在所述真空吸附组件的一侧，可随所述滑块的滑动在所述长条形刮片表面滑动。在本技术的一个实施例中，还包括：传动组件，与所述滑块连接。在本技术的一个实施例中，所述传动组件包括：传动元件，设置在所述第一支撑件和所述第二支撑件之间，且与所述滑块连接；驱动装置，与所述传动元件连接。在本技术的一个实施例中，所述传动元件为丝杠，所述驱动装置为伺服电机。本技术的另一个实施例提供的一种配向膜涂布机，包括如本技术实施例提供的一种涂布头保护装置中所述的涂布头保护装置。与现有技术相比，本技术的有益效果：本技术实施例通过在涂布头保护单元的上设置横跨的滑轨组件，在滑轨组件上设置清洁组件，清洁组件可沿滑轨组件在保护单元表面滑动，从而将保护单元表面的结晶清除掉，避免结晶粘附到涂布头上，实现了对涂布头的保护，减少了涂布头缺吐的频率，同时避免人工对结晶进行手动擦除，提高了机台的稼动率，而且采用清洁组件清除不会带入微粒，提高了显示面板的良率。以下将结合附图及实施例对本技术做进一步详细说明。附图说明图1为现有技术提供的一种涂布头保护装置的结构示意图；图2为现有技术提供的一种涂布头保护装置上产生结晶的示意图；图3为本技术实施例提供的一种涂布头保护装置的结构示意图；图4为本技术实施例提供的一种清洁组件的结构示意图。具体实施方式下面结合具体实施例对本技术做进一步详细的描述，但本技术的实施方式不限于此。实施例一请参见图3，图3为本技术实施例提供的一种涂布头保护装置的结构示意图，该包括：底座1、保护单元、滑轨组件和清洁组件。其中，底座1上设置有导轨11。保护单元设置在导轨11上，并且保护单元可沿导轨11滑动至第一位置或第二位置。具体地，第一位置对应于配向膜涂布机在capping时，保护单元对涂布头进行保护时所处于的位置，此时保护单元上不存在结晶等杂质；第二位置对应于当配向膜涂布机在解capping时，保护单元不再对喷嘴进行保护而滑动至原点时所处于的位置，在滑动过程中，保护单元经过涂布头，将涂布头表面的混合液带走，粘附在保护单元表面的混合液暴露在空气中，就会产生结晶。滑轨组件设置在底座1上，且当保护单元滑动至第二位置时横跨保护单元，滑轨组件与导轨11垂直设置。具体地，当保护单元处于第一位置时，保护单元上不存在结晶等杂质，此时不需要对保护单元进行清洁；当保护单元处于第二位置时，保护单元上存在结晶，同时，保护单元也处于静止状态，可以对结晶进行清除。因此，将滑轨组件设置在底座1上，并且横跨位于第二位置时的保护单元。另外，滑轨组件与导轨11垂直设置一方面不会阻碍保护单元的滑动，另一方面可以实现清洁装置对粘附有结晶的保护单元表面的全面覆盖，使清洁装置将保护单元表面的结晶完全去除，提高洁净度。清洁组件设置在滑轨组件上，并且清洁组件可沿滑轨组件在保护单元表面滑动。具体地，当清洁组件沿保护单元的表面滑动时，将保护单元表面粘附的杂质清除掉。本技术实施例通过在涂布头保护单元上设置横跨的滑轨组件，在滑轨组件上设置清洁组件，清洁组件可沿滑轨组件在保护单元表面滑动，从而将保护单元表面的结晶清除掉，避免结晶粘附到涂布头上，实现了对涂布头的保护，减少了涂布头缺吐的频率，同时避免人工对结晶进行手动擦除，提高了机台的稼动率，而且采用清洁组件清除不会带入微粒，提高了显示面板的良率。在一个具体实施例中，保护单元包括：载台21、若干涂布头保护杯22、长条形刮片23。其中，载台21设置在所述导轨11上，可沿导轨11滑动至第一位置或第二位置；若干涂布头保护杯22分布在载台21上；长条形刮片23设置在载台21上，位于涂布头保护杯22的一侧，并且长条形刮片23与导轨11垂直设置。具体地，配向膜涂布机在进行封盖时，载台21沿导轨11滑动至第一位置即封盖位置，若干装有NMP的涂布头保护杯22将若干涂布头浸泡起来，实现对涂布头的保护；配向本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种涂布头保护装置，其特征在于，包括：/n底座(1)，所述底座(1)上设置有导轨(11)；/n保护单元，设置在所述导轨(11)上，所述保护单元可沿所述导轨(11)滑动至第一位置或第二位置；/n滑轨组件，设置在所述底座(1)上，且当所述保护单元滑动至所述第二位置时横跨所述保护单元，所述滑轨组件与所述导轨(11)垂直；/n清洁组件，设置在所述滑轨组件上，所述清洁组件可沿所述滑轨组件在所述保护单元表面滑动。/n

【技术特征摘要】
1.一种涂布头保护装置，其特征在于，包括：
底座(1)，所述底座(1)上设置有导轨(11)；
保护单元，设置在所述导轨(11)上，所述保护单元可沿所述导轨(11)滑动至第一位置或第二位置；
滑轨组件，设置在所述底座(1)上，且当所述保护单元滑动至所述第二位置时横跨所述保护单元，所述滑轨组件与所述导轨(11)垂直；
清洁组件，设置在所述滑轨组件上，所述清洁组件可沿所述滑轨组件在所述保护单元表面滑动。


2.如权利要求1所述的涂布头保护装置，其特征在于，所述保护单元包括：
载台(21)，设置在所述导轨(11)上，可沿所述导轨(11)滑动至所述第一位置或所述第二位置；
若干涂布头保护杯(22)，规则分布在所述载台(21)上；
长条形刮片(23)，设置在所述载台(21)上，且位于若干所述涂布头保护杯(22)的一侧，与所述导轨(11)垂直设置。


3.如权利要求2所述的涂布头保护装置，其特征在于，所述长条形刮片(23)为胶条。


4.如权利要求2所述的涂布头保护装置，其特征在于，所述滑轨组件包括：
第一支撑件(31)，设置在所述底座(1)上，且位于所述长条形刮片(23)的一端；
第二支撑件(32)，与所述第一支撑件(31)平行，设置在所述底座(1)上，且位于所述长条形刮片(23)的另一端；
第一滑轨(33)，一端连接所述第一支撑件(31)，另一端连接所述第二支撑件(32)；<...

【专利技术属性】
技术研发人员：王磊库，申屠永华，
申请(专利权)人：咸阳彩虹光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：陕西;61