运动装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种运动装置，包括：托盘；旋转台，位于所述托盘下方，且其上表面设有环形上部凹腔，下表面设有下部凹腔，其中上部凹腔与下部凹腔在垂直于旋转台的上表面的投影方向上的投影相互错开；旋转电机，容纳在环形上部凹腔内，并包括旋转电机动子和旋转电机定子，旋转电机定子相对于旋转台固定，旋转电机动子相对于托盘固定；垂直移动装置，位于下部凹腔内并构造成能够驱动旋转台垂直移动；浮动重力补偿装置，位于下部凹腔内并构造成能够对旋转台进行重力补偿。与现有技术相比，本实用新型专利技术的运动装置垂向尺寸显著减小，且通过浮动重力补偿装置的应用，显著增加运动装置的垂向运动精度。

Sports device

【技术实现步骤摘要】
运动装置
本技术涉及集成电路装备制造领域，更具体的涉及一种运动装置，所述运动装置可提供高精度的垂向运动和旋转功能。
技术介绍
在半导体硅片膜厚的检测领域，要求工件台可以和硅片传输系统完成硅片的交接，同时需要承载着12英寸或者8英寸硅片完成360°旋转和垂向运动，完成硅片膜厚的检测。所以对于应用在膜厚检测的工件台装置中，旋转/垂直移动台是其核心部件。随着对产率要求的不断提高，膜厚检测精度的不断提升，工件台的运行速度、加速度和性能也随之提高。这就要求工件台具有更加的轻量化，更加的扁平化，更高的运动精度的设计。在美国专利US2004246012A1中，提出一种该领域的工件台方案。如图1所示，该技术的垂向移动台(支承平台112)固定在垂向装置上，卡盘单元固定在垂向移动台上。且垂向装置是通过直线电机驱动楔形块，同时依靠两个0.5mm厚的簧片提供往复力从而实现垂向运动。该技术结构较为简单，但高度尺寸较大，很难实现扁平化设计。在美国专利US6779278B1中，提出另外一种该领域的工件台方案。如图2所示，该技术的垂向移动台(Z平台)固定在垂向装置上，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种运动装置，包括：/n托盘；/n旋转台，所述旋转台位于所述托盘下方，所述旋转台的上表面设有环形上部凹腔，所述旋转台的下表面设有下部凹腔，其中所述上部凹腔与所述下部凹腔在垂直于所述旋转台的上表面的投影方向上的投影相互错开；/n旋转电机，所述旋转电机容纳在所述环形上部凹腔内，所述旋转电机包括旋转电机动子和旋转电机定子，所述旋转电机定子相对于所述旋转台固定，所述旋转电机动子相对于所述托盘固定；/n垂直移动装置，所述垂直移动装置位于所述下部凹腔内并构造成能够驱动所述旋转台垂直移动；以及/n浮动重力补偿装置，所述浮动重力补偿装置位于所述下部凹腔内并构造成能够对所述旋转台进行重力补偿。/n

【技术特征摘要】
20190430 CN 20191036323831.一种运动装置，包括：
托盘；
旋转台，所述旋转台位于所述托盘下方，所述旋转台的上表面设有环形上部凹腔，所述旋转台的下表面设有下部凹腔，其中所述上部凹腔与所述下部凹腔在垂直于所述旋转台的上表面的投影方向上的投影相互错开；
旋转电机，所述旋转电机容纳在所述环形上部凹腔内，所述旋转电机包括旋转电机动子和旋转电机定子，所述旋转电机定子相对于所述旋转台固定，所述旋转电机动子相对于所述托盘固定；
垂直移动装置，所述垂直移动装置位于所述下部凹腔内并构造成能够驱动所述旋转台垂直移动；以及
浮动重力补偿装置，所述浮动重力补偿装置位于所述下部凹腔内并构造成能够对所述旋转台进行重力补偿。


2.如权利要求1所述的运动装置，其特征在于，所述垂直移动装置和所述浮动重力补偿装置彼此集成并位于所述下部凹腔内。


3.如权利要求1所述的运动装置，其特征在于，所述下部凹腔包括多个下部凹腔，所述垂直移动装置和所述浮动重力补偿装置分别位于不同的下部凹腔内。


4.如权利要求1或3所述的运动装置，其特征在于，所述浮动重力补偿...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴火亮，
申请(专利权)人：上海隐冠半导体技术有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31