一种自清洁刻蚀阳极装置制造方法及图纸

一种电弧离子镀自清洁刻蚀阳极装置，包括真空室、弧源、转架、阳极屏蔽罩、挡板及偏压电源、切换开关电源；弧源正电子端接刻蚀阳极上，弧源负电子端接弧靶阴极接线柱上，以此构成弧光放电阴阳极回路；阳极屏蔽罩设置在刻蚀阳极背部及侧面；挡板设置在弧靶阴极前并正对于刻蚀阳极的一侧上，阳极屏蔽罩位于挡板与刻蚀阳极之间；转架设置在真空室内；偏压电源的正极接地，偏压电源负极接切换开关电源，切换开关电源两路接头分别接通转架及刻蚀阳极，转架上设置待镀产品工位。本实用新型专利技术结构简单，能有效提高对基材清洗和刻蚀以及离子注入效果，同时可实现刻蚀阳极的自清洁，可用于刀具、模具、机械零部件等表面制备硬质防护薄膜和涂层领域。

A self-cleaning etching anode device

【技术实现步骤摘要】
一种自清洁刻蚀阳极装置
本技术属于真空镀膜
，涉及一种自清洁刻蚀阳极装置。
技术介绍
物理气相沉积（PVD）是将原子或分子从气相中沉积到基体表面，包括蒸镀、溅射沉积、离子镀、脉冲激光沉积和扩散涂覆等工艺。切削刀具、模具、耐磨损零件等经物理气相沉积硬质涂层后，有效提高了其表面硬度、复合韧性、耐磨损性和化学稳定性能等，大幅度提高了工件的使用寿命。电弧离子镀技术是结合了蒸发与溅射技术而发展的一种PVD技术。在真空室内，金属靶材蒸发在气体放电中进行，通过碰撞和电子撞击形成气体和金属的离子，这些离子在电场中被加速飞向衬底并形成涂层。如果在薄膜或涂层的形成过程中通入活性气体（如N2、O2等），则会发生化学反应并得到各种化合物薄膜或涂层。电弧离子镀的主要优点在于靶材的离化率高，所制备的薄膜或涂层沉积速率快，并且薄膜或涂层结构致密。基于以上优点，工业界已广泛采用电弧离子镀技术用于硬质耐磨、抗高温氧化以及改性薄膜或涂层的制备。硬质涂层与基体材料良好的结合是其性能的重要保证。但是，由于硬质涂层与基体材料的结构（晶格常数）、硬度以及热膨胀性能存在较大差本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种自清洁刻蚀阳极装置，其特征在于：包括真空室、弧源、转架、阳极屏蔽罩、挡板及偏压电源、切换开关电源；所述弧源正电子端接刻蚀阳极上，所述弧源负电子端接弧靶阴极接线柱上，以此构成弧光放电阴阳极回路；所述阳极屏蔽罩设置在所述刻蚀阳极背部及侧面；所述挡板设置在弧靶阴极前并正对于所述刻蚀阳极的一侧上，所述阳极屏蔽罩位于所述挡板与所述刻蚀阳极之间；所述转架设置在所述真空室内；所述偏压电源的正极接地，所述偏压电源负极接所述切换开关电源，所述切换开关电源两路接头分别接通转架及刻蚀阳极，所述转架上设置待镀产品工位。/n

【技术特征摘要】
1.一种自清洁刻蚀阳极装置，其特征在于：包括真空室、弧源、转架、阳极屏蔽罩、挡板及偏压电源、切换开关电源；所述弧源正电子端接刻蚀阳极上，所述弧源负电子端接弧靶阴极接线柱上，以此构成弧光放电阴阳极回路；所述阳极屏蔽罩设置在所述刻蚀阳极背部及侧面；所述挡板设置在弧靶阴极前并正对于所述刻蚀阳极的一侧上，所述阳极屏蔽罩位于所述挡板与所述刻蚀阳极之间；所述转架设置在所述真空室内；所述偏压电源的正极接地，所述偏压电源负极接所述切换开关电源，所述切换开关电源两路接头分别接通转架及刻蚀阳极，所述转架上设置待镀产品工位。


2.根据权利要求1所述的自清洁刻蚀阳极装置，其特征在于：所述弧源正电子端为具有冷却水道的阳极，所述冷却水道包括相连通的冷却水进水管和冷却水出水管。


3.根据权利要求2所述的自清洁刻蚀阳极装置，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：郎文昌，刘伟，刘俊红，胡晓忠，
申请(专利权)人：苏州艾钛科纳米科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32