一种磁场可控的缓释磁性物质稠化液流抛光垫及抛光方法技术

一种磁场可控的缓释磁性物质稠化液流抛光垫，抛光垫为多层叠加的多孔式耐磨抛光垫，抛光垫中预留孔隙，其内部嵌有磨料胶囊，胶囊内含有磁性磨料、增稠相和酸碱剂。以及提供一种应用磁场可控的缓释磁性物质稠化液流抛光垫的抛光方法，外加磁场后，抛光垫内的磨料胶囊受到磁场作用，其中的磁性磨料冲击胶囊外壳，磁场强度足够时胶囊被冲击碎裂，抛光物质沿孔隙释放出来，逐渐分散溶解在水溶液中，形成缓释磁性物质稠化液流抛光液；磁场撤消后，磨料胶囊停止释放抛光物质，抛光液浓度不再变化。抛光中磁场作用于磁性磨料，在增稠相稠化液流的基础上，进一步增强了抛光液的稠化液流特性，提高了抛光效率。本发明专利技术抛光垫的使用寿命长，抛光效率高。

A kind of polishing pad and polishing method with magnetic field controlled slow release magnetic material thickening liquid flow

【技术实现步骤摘要】
一种磁场可控的缓释磁性物质稠化液流抛光垫及抛光方法
本专利技术属于超精密加工
，具体涉及到一种磁场可控的缓释磁性物质稠化液流抛光垫及抛光方法。
技术介绍
超精密加工技术在现代科学技术的重要组成部分，在众多领域中广泛应用。例如蓝宝石、单晶硅及各功能性陶瓷等硬脆难加工材料的加工方面；各种复杂曲面的高精度、低损伤、美观等方面。利用超精密加工技术，可以获得低表面粗糙度、低/无表面损伤或亚表面损伤的工件表面。抛光垫又称抛光皮，抛光布，抛光片，抛光过程中决定表面质量的重要辅料。在抛光垫上，抛光液有效均匀地输送到抛光垫的不同区域；将抛光后产生的反应物(化学抛光产物)、碎屑(机械抛光产物)等顺利排出，达到去除效果；维持抛光垫表面的抛光液薄膜,以便化学反应充分进行；保持抛光过程的平稳、表面不变形,以便获得较好的晶片表面形貌。已授权专利技术专利(CN101139504A)，磁流变抛光液及其制备方法。该抛光液(体积百分比)由磁性颗粒(30％-40％)、纯净水45％-55％、添加剂5％-10％、表面活性剂3％-5％和抛光粉5％-8％组成。在外加磁本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种磁场可控的缓释磁性物质稠化液流抛光垫，其特征在于，抛光垫为多层叠加的多孔式耐磨抛光垫，抛光垫中预留孔隙，其内部嵌有磨料胶囊，胶囊内含有磁性磨料、增稠相和酸碱剂。/n

【技术特征摘要】
1.一种磁场可控的缓释磁性物质稠化液流抛光垫，其特征在于，抛光垫为多层叠加的多孔式耐磨抛光垫，抛光垫中预留孔隙，其内部嵌有磨料胶囊，胶囊内含有磁性磨料、增稠相和酸碱剂。


2.如权利要求1所述的一种磁场可控的缓释磁性物质稠化液流抛光垫，其特征在于，所述抛光垫为多层式设计，层数为3×i层，i为正整数且i≥1，厚度为8～24mm。边缘通过背胶粘合，在磁场的作用下，磨料透过孔隙进入水溶液中，形成缓释磁性物质稠化液流抛光液。


3.如权利要求1或2所述的一种磁场可控的缓释磁性物质稠化液流抛光垫，其特征在于，所述多孔式耐磨多孔式，内含微孔，直径在0.5-2mm，其中有些孔隙嵌入磨料胶囊。


4.如权利要求3所述的一种磁场可控的缓释磁性物质稠化液流抛光垫，其特征在于，孔隙为同心圆或者环形阵列分布；
同心孔隙圆环的宽度在2mm-20mm；从抛光垫的旋转中心向外数，所述同心孔隙圆环的数量为N条，N≥2；每N条圆环置于N-1条旋转中心内侧；每条同心圆的间距相等,间距在10-50mm；抛光垫的孔隙为通孔，且每层抛光垫中的孔隙相通；
环形孔隙的宽度在2mm-10mm，这些环形孔隙角度均匀的分布在抛光垫旋转中心四周，圆环的数量为N条，N≥3；每N条圆环置于N-1条绕抛光垫中心顺时针旋转处；环形孔隙的直径为20mm-80mm；每N条圆环与抛光垫旋转中心的距离为20mm-300mm。抛光垫的孔隙为交替分层结构，第n层抛光垫的通孔为N-n+1个，其中，N>3i。


5.如权利要求1或2所述的一种磁场可控的缓释磁性物质稠化液流抛光垫，其特征在于，抛光垫的材料为聚氨酯、无纺布、阻尼布、聚四氟乙烯和高分子树脂中的一种。


6.如权利要求1或2所述的一种磁场可控的缓释磁性物质稠化液流抛光垫，其特征在于，所述磨料胶囊的胶囊外壳材料是明胶、硅油、植物纤维、硅胶、聚乙烯中的一种或几种；磨料组成成分为：磁性磨料21wt.％-49wt.％、增稠相17wt.％-54wt...

【专利技术属性】
技术研发人员：李敏，唐成，董婷，刘明辉，宋方增，
申请(专利权)人：湖南科技大学，
类型：发明
国别省市：湖南;43