光刻胶涂布系统及涂布方法技术方案

本发明专利技术涉及一种光刻胶涂布系统，包括：供胶机构；过滤机构，与供胶机构连接；脱泡机构，包括脱泡容器、抽真空装置及抽真空管路，脱泡容器与过滤机构连接，脱泡容器内设有容腔，脱泡容器与抽真空装置通过抽真空管路连接，抽真空管路伸入容腔内，以配合抽真空装置抽真空去除光刻胶的气泡；以及刮涂机构，与脱泡容器连接。一种光刻胶涂布方法，包括以下步骤：光刻胶储存于供胶机构中；将光刻胶由供胶机构压入过滤机构，以滤除光刻胶中的杂质；光刻胶流入脱泡容器，并通过抽真空装置将光刻胶的气泡去除；光刻胶被输送至刮涂机构均匀涂布。上述的光刻胶涂布系统，光刻胶涂布膜层更均匀；上述的光刻胶涂布方法，避免杂质及气泡影响光刻胶涂布质量。

Photoresist coating system and coating method

【技术实现步骤摘要】
光刻胶涂布系统及涂布方法
本专利技术涉及半导体制造
，特别是涉及一种光刻胶涂布系统及涂布方法。
技术介绍
在半导体制造过程中，需要多次使用光刻工艺，光刻工艺的本质是把电路结构以图形的形式复制到以后要进行刻蚀和离子注入的晶圆上，主要包括如下步骤：首先利用光刻胶涂布系统在晶圆上形成一层光刻胶薄层，再将平行光经过掩膜版照射在光刻胶薄层上使其曝光而变质，最后利用显影液进行显影完成图形转移。但在光刻胶涂布时，由于光刻胶含有杂质或含有气泡，易造成光刻胶涂布膜层不均匀，使光刻胶膜层厚度出现偏差或膜层报废，影响后续相关工艺的进行。
技术实现思路
基于此，有必要针对光刻胶涂布膜层不均匀的问题，提供一种光刻胶涂布系统及涂布方法。一种光刻胶涂布系统，包括：供胶机构；过滤机构，与所述供胶机构连接；脱泡机构，包括脱泡容器、抽真空装置及抽真空管路，所述脱泡容器与所述过滤机构连接，所述脱泡容器内设有容腔，所述脱泡容器与所述抽真空装置通过所述抽真空管路连接，所述抽真空管路伸入所述容腔内，以便于配合所述抽真空装置抽真空去除所述容腔内光刻胶的气泡；以及刮涂机构，与所述脱泡容器连接。上述的光刻胶涂布系统，通过过滤机构过滤光刻胶中的杂质，脱泡机构消除光刻胶中的气泡，使光刻胶涂布质量更好，光刻胶涂布膜层更均匀。在其中一实施例中，所述供胶机构包括供气装置、贮存罐及第一管路，所述贮存罐与所述过滤机构通过所述第一管路连接，所述供气装置与所述贮存罐连接，以使得所述供气装置向所述贮存罐内供给气体时，所述贮存罐内的光刻胶能够被依次压入所述第一管路及过滤机构内。在其中一实施例中，至少包括以下一项：电子秤或称重传感器，设于所述贮存罐下方，以用于实时监测光刻胶的重量；所述第一管路上设有第一阀门，以用于控制所述第一管路的开启和关闭；所述第一管路上设有检测装置，以用于检测光刻胶的流量。在其中一实施例中，所述过滤机构包括本体及滤芯，所述滤芯设于所述本体内，所述本体与所述脱泡机构连接。在其中一实施例中，所述脱泡机构还包括出胶管路，所述出胶管路上设有机械泵，以将所述脱泡容器中的光刻胶抽取至所述刮涂机构。在其中一实施例中，还包括回收机构，所述回收机构包括回收槽、汇流板及回收罐，所述回收槽设于所述刮涂机构下方，所述回收槽与所述汇流板连接，所述汇流板与所述回收罐连接，以使所述刮涂机构上的废液依次流经所述回收槽、汇流板至所述回收罐内。在其中一实施例中，所述回收槽及汇流板均沿轴向呈渐缩状。在其中一实施例中，还包括清洗管路，所述清洗管路包括两条支路且分别与所述刮涂机构、所述汇流板连接，以用于清洗废液残渣。在其中一实施例中，所述过滤机构还包括第二管路，所述第二管路的一端与所述过滤机构连接且另一端与所述汇流板连接，以排出过滤机构内储存的杂质。一种光刻胶涂布方法，包括以下步骤：将光刻胶储存于供胶机构中；将上述光刻胶由供胶机构压入过滤机构，以滤除上述光刻胶中的杂质；已滤除杂质的光刻胶流入脱泡容器，并通过抽真空装置将所述脱泡容器内光刻胶的气泡去除；已去除气泡的光刻胶被输送至刮涂机构均匀涂布在半导体晶圆上。上述的光刻胶涂布方法，光刻胶滤除杂质后，通过抽真空方式去除气泡，不会引入新的杂质，能够避免杂质及气泡影响光刻胶涂布质量，使光刻胶涂布膜层更均匀。附图说明图1为本实施例的光刻胶涂布系统的结构示意图。具体实施方式下面结合附图及具体实施例对光刻胶涂布系统及涂布方法做进一步说明。请参考图1，一实施例的光刻胶涂布系统包括供胶机构100、过滤机构200、脱泡机构300、刮涂机构400及回收机构500，光刻胶储存于供胶机构100，被依次输送至过滤机构200滤除杂质、脱泡机构300去除气泡后，被输送至刮涂机构400均匀刮涂于待涂胶的晶圆上(未在图中示出)。请参考图1，供胶机构100包括供气装置(未在图中标示)、贮存罐110及第一管路120，供气装置与贮存罐110连接且使连接处密封不漏气，第一管路120的一端伸入贮存罐110内且接触到贮存罐110内的光刻胶，第一管路120的另一端与过滤机构200连接，通过供气装置向贮存罐110内加注气体时，贮存罐110内由于气压增大而使光刻胶被压出，被压出的光刻胶经第一管路120流至过滤机构200。进一步地，供气装置上设有压力计、调压阀及泄压阀(未在图中示出)，压力计用于实时监测压力值，调压阀用于调节输入气体时的压力大小，泄压阀便于在涂胶结束后卸掉压力，防止由于长时间供给压力使气体溶解于光刻胶中造成气泡。具体地，气体为洁净压缩空气或氮气。为了精确地控制光刻胶的用量，第一管路120上还设有第一阀门121及检测装置122，第一阀门121用于控制第一管路120的开启及关闭，检测装置122用于实时监测光刻胶的流量。具体地，第一阀门121为机械阀，检测装置122为流量计。更进一步地，本实施方式中，供胶机构100还包括设于贮存罐110下方的电子秤130，以便于实时监测贮存罐110内光刻胶的重量，电子秤130上能够设定报警限值，当光刻胶使用至接近报警限值时能够报警提示，便于及时更换光刻胶。在其他实施方式中，电子秤130还可以替换为称重传感器，也能够实时监测贮存罐110内光刻胶的重量。请参考图1，过滤机构200与供胶机构100连接。具体地，过滤机构200包括本体及滤芯(未在图中示出)，滤芯设于本体内，供胶机构100中的第一管路120的一端伸入贮存罐110内，第一管路120的另一端与本体连接，光刻胶由供胶机构100经第一管路120被输送至过滤机构200，以滤除光刻胶中的碎渣等杂质。本实施方式中，滤芯的过滤精度为1.5微米，即滤芯上有多个滤孔且孔径为1.5微米，尺寸大于1.5微米的杂质会被滤芯拦截，以避免影响光刻胶的涂布效果。在其他实施方式中，滤芯的过滤精度还可以大于或小于1.5微米，根据实际需要调整。本实施方式中，滤芯为单层结构。在其他实施方式中，滤芯还可以为多层层压结构，扩大杂质过滤范围，提高过滤精度。本实施方式中，滤芯材质为聚四氟乙烯。在其他实施方式中，滤芯材质还可以为聚丙烯或玻璃纤维。请参考图1，脱泡机构300与过滤机构200连接。具体地，脱泡机构300包括脱泡容器310、抽真空装置320、进胶管路330、抽真空管路340及出胶管路350，脱泡容器310包括罐体及罐盖(未在图中示出)，罐体内设有容腔，罐盖上设有第一孔、第二孔及第三孔(未在图中示出)，进胶管路330的一端与过滤机构200的本体连接，进胶管路330的另一端通过第一孔伸入脱泡容器310的容腔内，过滤机构200内的光刻胶经进胶管路330输送至脱泡容器310的容腔内。脱泡容器310与抽真空装置320通过抽真空管路340连接，且抽真空管路340通过脱泡容器310的第二孔连通罐体的容腔，以配合抽真空装置320对罐体进行抽真空，形成真空环境，以使光刻胶内的气泡在浮力作用下脱离光刻胶并通过抽真空装本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光刻胶涂布系统，其特征在于，包括：/n供胶机构；/n过滤机构，与所述供胶机构连接；/n脱泡机构，包括脱泡容器、抽真空装置及抽真空管路，所述脱泡容器与所述过滤机构连接，所述脱泡容器内设有容腔，所述脱泡容器与所述抽真空装置通过所述抽真空管路连接，所述抽真空管路伸入所述容腔内，以便于配合所述抽真空装置抽真空去除所述容腔内光刻胶的气泡；以及/n刮涂机构，与所述脱泡容器连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶涂布系统，其特征在于，包括：
供胶机构；
过滤机构，与所述供胶机构连接；
脱泡机构，包括脱泡容器、抽真空装置及抽真空管路，所述脱泡容器与所述过滤机构连接，所述脱泡容器内设有容腔，所述脱泡容器与所述抽真空装置通过所述抽真空管路连接，所述抽真空管路伸入所述容腔内，以便于配合所述抽真空装置抽真空去除所述容腔内光刻胶的气泡；以及
刮涂机构，与所述脱泡容器连接。


2.根据权利要求1所述的光刻胶涂布系统，其特征在于，所述供胶机构包括供气装置、贮存罐及第一管路，所述贮存罐与所述过滤机构通过所述第一管路连接，所述供气装置与所述贮存罐连接，以使得所述供气装置向所述贮存罐内供给气体时，所述贮存罐内的光刻胶能够被依次压入所述第一管路及过滤机构内。


3.根据权利要求2所述的光刻胶涂布系统，其特征在于，至少包括以下一项：
电子秤或称重传感器，设于所述贮存罐下方，以用于实时监测光刻胶的重量；
所述第一管路上设有第一阀门，以用于控制所述第一管路的开启和关闭；
所述第一管路上设有检测装置，以用于检测光刻胶的流量。


4.根据权利要求1所述的光刻胶涂布系统，其特征在于，所述过滤机构包括本体及滤芯，所述滤芯设于所述本体内，所述本体与所述脱泡机构连接。


5.根据权利要求1所述的光刻胶涂布系统，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：易伟华，张迅，郑芳平，徐彬彬，洪华俊，
申请(专利权)人：江西沃格光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江西;36