用于步进粱式热处理炉炉底的动态密封结构制造技术

本发明专利技术属于热处理炉密封结构技术领域，尤其是涉及一种用于步进粱式热处理炉炉底的动态密封结构；包括上层密封组件和下层密封组件；上层密封组件盖合在炉底孔洞的上口处，下层密封组件盖合在炉底孔洞的下口处，上层密封组件位于炉内，上层密封组件包括盖板和支撑板，盖板扣在支撑板上且盖板中均设有供步进梁立柱穿过的通孔，同时，盖板可滑动连接在支撑板上；支撑板固定连接在炉底耐材的上表面；炉底耐材设置在炉底钢板上；下层密封组件包括一个封堵在炉底孔洞的下口处且可水平移动的密封盒；本发明专利技术可以解决现有的炉膛密封效果不好的问题。

【技术实现步骤摘要】
用于步进粱式热处理炉炉底的动态密封结构
本专利技术属于热处理炉密封结构
，尤其是涉及一种用于步进粱式热处理炉炉底的动态密封结构。
技术介绍
对于步进梁式热处理炉来说，步进梁的立柱需要前进、上、下及后退等动作，所以必须在炉底为此动作留出相应的空间，这样必然在炉底形成许多孔洞(有多少根立柱，就有多少个孔洞)，如果不对这些孔洞进行密封，炉膛内的热量通过辐射及热气外溢(炉膛正压时)就会大量散失到炉外；如果炉膛为负压，就会有大量冷空气进入炉内，都会造成大量热损失，所以，必须对这些孔洞进行密封。密封效果的好坏，对炉子节能及使用寿命都有很大影响。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术旨在提出一种用于步进粱式热处理炉炉底的动态密封结构，以解决现有的炉膛密封效果不好的问题。为达到上述目的，本专利技术的技术方案是这样实现的：用于步进粱式热处理炉炉底的动态密封结构，包括上层密封组件和下层密封组件；上层密封组件盖合在炉底孔洞的上口处，下层密封组件盖合在炉底孔洞的下口处，步进梁立柱贯穿通过炉底孔洞且上层密封组件和下层密封组件中均设本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.用于步进粱式热处理炉炉底的动态密封结构，其特征在于：包括上层密封组件(2)和下层密封组件；上层密封组件(2)盖合在炉底孔洞(41)的上口处，下层密封组件盖合在炉底孔洞(41)的下口处，步进梁立柱(1)贯穿通过炉底孔洞(41)且上层密封组件(2)和下层密封组件中均设有供步进梁立柱(1)穿过的通孔；/n上层密封组件(2)位于炉内，上层密封组件(2)包括盖板(21)和支撑板(22)，盖板(21)扣在支撑板(22)上且盖板(21)中设有供步进梁立柱(1)穿过的通孔，同时，盖板(21)可滑动连接在支撑板(22)上；支撑板(22)固定连接在炉底耐材(4)的上表面；炉底耐材(4)设置在炉底钢板(5)上；...

【技术特征摘要】
1.用于步进粱式热处理炉炉底的动态密封结构，其特征在于：包括上层密封组件(2)和下层密封组件；上层密封组件(2)盖合在炉底孔洞(41)的上口处，下层密封组件盖合在炉底孔洞(41)的下口处，步进梁立柱(1)贯穿通过炉底孔洞(41)且上层密封组件(2)和下层密封组件中均设有供步进梁立柱(1)穿过的通孔；
上层密封组件(2)位于炉内，上层密封组件(2)包括盖板(21)和支撑板(22)，盖板(21)扣在支撑板(22)上且盖板(21)中设有供步进梁立柱(1)穿过的通孔，同时，盖板(21)可滑动连接在支撑板(22)上；支撑板(22)固定连接在炉底耐材(4)的上表面；炉底耐材(4)设置在炉底钢板(5)上；
下层密封组件包括一个封堵在炉底孔洞(41)的下口处且可随步进梁立柱(1)水平移动的密封盒(63)，密封盒(63)中设有供步进梁立柱(1)穿过的通孔。


2.根据权利要求1所述的用于步进粱式热处理炉炉底的动态密封结构，其特征在于：支撑板(22)中开有一个中间孔(222)，中间孔(222)的长度大于步进梁立柱(1)在炉底孔洞(41)内水平移动的行程；盖板(21)的下表面局部向下延伸形成两条平行相对的滑槽(211)，滑槽(211)的走向与步进梁立柱(1)移动的方向相同；支撑板(22)上表面设有两条与滑槽(211)一一对应的卡接沿(221)，卡接沿(221)位于滑槽(211)内。


3.根据权利要求2所述的用于步进粱式热处理炉炉底的动态密封结构，其特征在于：支撑板(22)的中间孔(222)的孔缘向下延伸形成与炉底孔洞(41)形状尺寸相吻合的套沿(223)，支撑板(22)的套沿(223)紧嵌在炉底孔洞(41)的上口处。


4.根据权利要求3所述的用于步进粱式热处理炉炉底的动态密封结构，其特征在于：还包括连杆(3)，连杆(3)穿过炉底耐材(...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵振永，韩江孝，温祖元，
申请(专利权)人：特诺恩技术天津有限公司，
类型：发明
国别省市：天津;12