【技术实现步骤摘要】
一种纳米级纹理和微米级纹理叠加玻璃盖板及其制作方法
本专利技术涉及玻璃盖板产品纹理化
，尤其涉及一种纳米级纹理和微米级纹理叠加玻璃盖板及其制作方法。
技术介绍
随着5G时代来临，玻璃材料具有高透光性、高硬度、高耐磨性，良好的热稳定性及化学稳定性，低的电磁波传输衰减性能等优势，将成为智能终端行业的主要趋势，玻璃机身逐渐成为主流设计，消费者更加追求手机的外观和使用感受。传统的玻璃纹理蚀刻需黄光、HF溶液蚀刻等工艺实现，对环境不友好，图形不连续，蚀刻速率较难控制等局限性，且蚀刻纹理图案线条一般只有微米级别，现有的玻璃盖板产品纹理装饰工艺可以采用蚀刻纹理、膜片装饰等方式实现，但只能在玻璃盖板产品上制作只含有一种微米级纹理或纳米级纹理，使得现有手机玻璃盖板产品上的纹理效果比较单一，满足不了消费者对手机玻璃盖板产品的纹理效果的多样性、个性化追求。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种纳米级纹理和微米级纹理叠加玻璃盖板及其制作方法，其能在玻璃盖板产品上制成纳米级纹理和微米级纹理相互叠加的双重纹理，呈...
【技术保护点】
1.一种纳米级纹理和微米级纹理叠加制作方法，其特征在于，包括以下步骤：/n（1）首先通过涂布工艺将感光性树脂光阻覆盖在基板上，并进行预烤100-300s，预烤温度为100-150℃，然后通过曝光显影将纳米级纹理制作在基板上，0mW<曝光能量≤200mW，UV灯波长为365-425nm，显影液采用TMAH溶液，显影液电导率为10-60us/cm、温度为23±2℃，显影时间为20-240s，并经纯水洗、吹干、烘烤固化，烘烤时间为1-2h，烘烤温度为100-150℃；/n（2）再通过涂布工艺将感光性树脂光阻覆盖在基板上的纳米级纹理的外表面，并进行预烤100-300s，预烤温...
【技术特征摘要】
1.一种纳米级纹理和微米级纹理叠加制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
（1）首先通过涂布工艺将感光性树脂光阻覆盖在基板上，并进行预烤100-300s，预烤温度为100-150℃，然后通过曝光显影将纳米级纹理制作在基板上，0mW<曝光能量≤200mW，UV灯波长为365-425nm，显影液采用TMAH溶液，显影液电导率为10-60us/cm、温度为23±2℃，显影时间为20-240s，并经纯水洗、吹干、烘烤固化，烘烤时间为1-2h，烘烤温度为100-150℃；
（2）再通过涂布工艺将感光性树脂光阻覆盖在基板上的纳米级纹理的外表面，并进行预烤100-300s，预烤温度为100-150℃，然后进行曝光显影而制得纳米级纹理和微米级纹理叠加的双重纹理，0mW<曝光能量≤2000mW，UV灯波长为365-425nm，显影液采用TMAH溶液，显影液电导率为10-60us/cm、温度为23±2℃，显影时间为20-240s，并经纯水洗、吹干、烘烤固化成型,烘烤时间为1-2h，烘烤温度为100-150℃；
（3）对步骤（2）中的基板上的双重纹理进行UV转印，在双重纹理上施加由光固化材料制成的胶水，在胶水上覆盖PET膜片,并将基板与双重纹理分离，从而使得双重纹理转印到PET膜片上，UV转印的滚轮压力0.2-0.6MPa、走速为0.1-2mm/sec、固化能量为400-800mJ/cm2；
（4）将步骤（3）中PET膜片的双重纹理面通过真空喷镀金属或金属氧化物而进行PVD镀膜，再对PVD镀膜的外表面进行油墨盖底并固烤，固烤温度为70-90℃，固烤时间为1-2h；
（5）根据玻璃盖板产品外形尺寸大小对步骤（4）中所得的PET膜片进行切割，并通过OCA光学胶将裁切好的PET膜片与玻璃盖板产品贴合。
2.根据权利要求1所述一种纳米级纹理和微米级纹理叠加制作方法...
【专利技术属性】
技术研发人员：王钰，黄宇正，余雅，杨家林，钟易明，
申请(专利权)人：伯恩创盛技术研发惠州有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44
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