单晶炉制造技术

本实用新型专利技术公开了一种单晶炉，涉及单晶硅设备技术领域，主要目的是提供一种能够防止排气管阻塞的单晶炉。本实用新型专利技术的主要技术方案为：一种单晶炉，包括：炉体；排气部，排气部包括进气部件、排气管和活塞部件，排气管的一端连接于炉体，用于排出炉体内的杂质，活塞部件设置在排气管内，并且滑动连接于排气管，用于刮去排气管的内壁上的杂质，进气部件连接于排气管，用于吹扫排气管。本实用新型专利技术主要用于单晶炉排气。

Single crystal furnace

【技术实现步骤摘要】
单晶炉
本技术涉及单晶硅设备
，尤其涉及一种单晶炉。
技术介绍
随着光伏产业的快速发展，单晶硅的制备已经逐步进入成熟阶段，并且，随着单晶炉的尺寸的增加，热场的尺寸和投料量也在逐渐增加，投料量的增加对降低能源消耗、生产成本以及人工强度有着重要的意义。现有的单晶硅生产工艺中，通常采用的是连续拉晶技术，该技术在降低成本方面具有显著的效果，现有的单晶炉通常包括炉体和排气管，排气管设置在炉体的底部，具有排气顺畅、产量高和运行时间长的效果，但是，在长时间连续拉晶后，排气管内会堆积大量的杂质，从而出现排气管阻塞的情况，当排气管阻塞后，会导致炉体内的废气不能够及时排除炉体，从而导致单晶硅的品质下降。
技术实现思路
有鉴于此，本技术实施例提供一种单晶炉，主要目的是提供一种能够防止排气管阻塞的单晶炉。为达到上述目的，本技术主要提供如下技术方案：本技术实施例提供了一种单晶炉，包括：炉体；排气部，所述排气部包括进气部件、排气管和活塞部件，所述排气管的一端连接于所述炉体，用于排出所述炉体内的杂质，所述活塞部件设置在所述排气管内，并且滑动连接于所述排气管，用于刮去所述排气管的内壁上的杂质，所述进气部件连接于所述排气管，用于吹扫所述排气管。进一步的，所述排气管包括第一排气管、第二排气管、第三排气管和连接管，所述第一排气管和所述第二排气管分别连接于所述炉体，所述连接管的两端分别连接于所述第一排气管和所述第二排气管，所述第三排气管连接于所述连接管的中部，所述进气部件分别连接于所述第一排气管和所述第二排气管，所述活塞部件设置在所述连接管内，并且滑动连接于所述连接管。进一步的，所述第一排气管和所述第二排气管分别连接于所述炉体的底部。进一步的，所述进气部件包括进气装置、第一进气管和第二进气管，所述第一进气管的一端连接于所述进气装置，另一端连接于所述第一排气管，所述第二进气管的一端连接于所述进气装置，另一端连接于所述第二排气管。进一步的，所述第一进气管设置在所述第一排气管靠近所述炉体的底部位置，所述第二进气管设置在所述第二排气管靠近所述炉体的底部位置。进一步的，所述连接管的两端分别可拆卸连接于所述第一排气管和所述第二排气管。进一步的，所述活塞部件包括驱动器、滑轨和活塞件，所述驱动器连接于所述活塞件，所述滑轨设置在所述连接管的内壁上，所述活塞件滑动连接于所述滑轨。进一步的，所述活塞件的边缘位置具有刮片，所述刮片与所述连接管的内壁相互贴合，用于刮去附着在所述连接管的内壁上的杂质。与现有技术相比，本技术具有如下技术效果：本技术实施例提供的技术方案中，炉体的作用是提供制备单晶硅的反应场所；排气部的作用是排出炉体内的废气，排气部包括进气部件、排气管和活塞部件，排气管的一端连接于炉体，用于排出炉体内的杂质，活塞部件设置在排气管内，并且滑动连接于排气管，用于刮去排气管的内壁上的杂质，进气部件连接于排气管，用于吹扫排气管，需要对排气管进行疏通时，启动活塞部件，活塞部件在排气管内往复运动，对附着在排气管上的杂质进行清理，使排气管内壁上的杂质与排气管相互分离，同时，启动进气部件，进气部件向排气管内吹入氩气，使得排气管内的杂质顺着排气管排出，相对于现有技术，排气管设置在炉体的底部，具有排气顺畅、产量高和运行时间长的效果，但是，在长时间连续拉晶后，排气管内会堆积大量的杂质，从而出现排气管阻塞的情况，当排气管阻塞后，会导致炉体内的废气不能够及时排除炉体，从而导致单晶硅的品质下降，本技术实施例中，在排气管内设置活塞部件，活塞部件在排气管内往复运动，对附着在排气管上的杂质进行清理，并且在排气管上设置了进气部件，对排气管进行吹扫，使得杂质通过排气管排出，从而达到快速清理排气管内的杂质的技术效果。附图说明图1为本技术实施例提供的一种单晶炉的结构示意图；图2为本技术实施例提供的一种单晶炉的左视结构示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本技术作进一步的详细说明。如图1和图2所示，本技术实施例提供了一种单晶炉，包括：炉体1；排气部，排气部包括进气部件、排气管22和活塞部件23，排气管22的一端连接于炉体1，用于排出炉体1内的杂质，活塞部件23设置在排气管22内，并且滑动连接于排气管22，用于刮去排气管22的内壁上的杂质，进气部件连接于排气管22，用于吹扫排气管22。本技术实施例提供的技术方案中，炉体1的作用是提供制备单晶硅的反应场所；排气部的作用是排出炉体1内的废气，排气部包括进气部件、排气管22和活塞部件23，排气管22的一端连接于炉体1，用于排出炉体1内的杂质，活塞部件23设置在排气管22内，并且滑动连接于排气管22，用于刮去排气管22的内壁上的杂质，进气部件连接于排气管22，用于吹扫排气管22，需要对排气管22进行疏通时，启动活塞部件23，活塞部件23在排气管22内往复运动，对附着在排气管22上的杂质进行清理，使排气管22内壁上的杂质与排气管22相互分离，同时，启动进气部件，进气部件向排气管22内吹入氩气，使得排气管22内的杂质顺着排气管22排出，相对于现有技术，排气管22设置在炉体1的底部，具有排气顺畅、产量高和运行时间长的效果，但是，在长时间连续拉晶后，排气管22内会堆积大量的杂质，从而出现排气管22阻塞的情况，当排气管22阻塞后，会导致炉体1内的废气不能够及时排除炉体1，从而导致单晶硅的品质下降，本技术实施例中，在排气管22内设置活塞部件23，活塞部件23在排气管22内往复运动，对附着在排气管22上的杂质进行清理，并且在排气管22上设置了进气部件，对排气管22进行吹扫，使得杂质通过排气管22排出，从而达到快速清理排气管22内的杂质的技术效果。上述炉体1的作用是提供制备单晶硅的反应场所,单晶炉的炉体1通常为圆柱体结构，炉体1可以采用市面上常见的单晶炉，也可以采用已经公开的单晶炉结构，只要能够为制备单晶硅提供反应场所即可；排气部的作用是排出炉体1内的废气，排气部包括进气部件、排气管22和活塞部件23，排气管22的一端连接于炉体1，用于排出炉体1内的杂质，活塞部件23设置在排气管22内，并且滑动连接于排气管22，用于刮去排气管22的内壁上的杂质，进气部件连接于排气管22，用于吹扫排气管22，排气管22的作用是排出炉体1内的废气，在废气中含有部分固体杂质，当固体杂质进入排气管22后，随着排气管22内的温度降低，部分固体杂质会附着在排气管22的表面，活塞部件23能够在排气管22内滑动，从而对排气管22的管壁进行清理，使附着在排气管22的管壁上的固体杂质掉落，活塞部件23通常具有通孔或者通道，方便排出炉体1内的废气，进气部件与排气管22相连通，进气部件能够向排气管22内通入氩气，氩气对排气管22进行吹扫，使掉落的固体杂质被吹扫出排气管22，氩气属于惰性气体，不容易与炉体1内的物质产生化学反应，从而保持了炉体1内的正常工作，本技术实施例中本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种单晶炉，其特征在于，包括：/n炉体；/n排气部，所述排气部包括进气部件、排气管和活塞部件，所述排气管的一端连接于所述炉体，用于排出所述炉体内的杂质，所述活塞部件设置在所述排气管内，并且滑动连接于所述排气管，用于刮去所述排气管的内壁上的杂质，所述进气部件连接于所述排气管，用于吹扫所述排气管。/n

【技术特征摘要】
1.一种单晶炉，其特征在于，包括：
炉体；
排气部，所述排气部包括进气部件、排气管和活塞部件，所述排气管的一端连接于所述炉体，用于排出所述炉体内的杂质，所述活塞部件设置在所述排气管内，并且滑动连接于所述排气管，用于刮去所述排气管的内壁上的杂质，所述进气部件连接于所述排气管，用于吹扫所述排气管。


2.根据权利要求1所述的单晶炉，其特征在于，
所述排气管包括第一排气管、第二排气管、第三排气管和连接管，所述第一排气管和所述第二排气管分别连接于所述炉体，所述连接管的两端分别连接于所述第一排气管和所述第二排气管，所述第三排气管连接于所述连接管的中部，所述进气部件分别连接于所述第一排气管和所述第二排气管，所述活塞部件设置在所述连接管内，并且滑动连接于所述连接管。


3.根据权利要求2所述的单晶炉，其特征在于，
所述第一排气管和所述第二排气管分别连接于所述炉体的底部。


4.根据权利要求3所述的单晶炉，其特征在于，
所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：马腾飞，汪奇，王楠，马新成，邹昌盛，段永兵，王军，陈龑，豆欣研，
申请(专利权)人：新疆晶科能源有限公司，
类型：新型
国别省市：新疆;65