【技术实现步骤摘要】
UV减粘膜
本技术涉及保护膜
，特别涉及一种UV减粘膜。
技术介绍
在半导体等其他电子元件在加工时需要用到UV减粘膜，使用其高粘特性使得在加工过程中不易损伤元器件，加工完毕后采用UV照射，保护膜粘性急剧下降，可以轻松剥离。公开号“CN203960110U”，名称为“一种UV减粘保护膜”，其公开了一种UV减粘保护膜，包括PET基材层、设于PET基材层上方的UV减粘粘胶剂层以及设于UV减粘粘胶剂层上方的PET离型膜层。其虽然只有一定保护效果，但是在加工或接受UV照射时，容易因高温而导致保护膜形变，影响到保护和剥离效果。
技术实现思路
针对上述不足，本技术目的在于提供一种结构设计巧妙、合理，耐性好，易剥离，保护效果好的UV减粘膜。本技术为实现上述目的，所提供的技术方案是：一种UV减粘膜，其包括聚酰亚胺膜层、耐高温硅胶层、SiO2涂层、基材层、丙烯酸型减粘树脂层和离型层，所述聚酰亚胺膜层、耐高温硅胶层、SiO2涂层、基材层、丙烯酸型减粘树脂层和离型层按照从上至下的顺序依次贴合；所述基材层为PET膜、PP膜、TPU膜、PO膜中的一种。作为本技术的一种改进，所述基材层的厚度为25～200微米。作为本技术的一种改进，所述基材层的下表面设有厚度为3～5微米的电晕处理层。作为本技术的一种改进，所述丙烯酸型减粘树脂层的厚度为25～75微米。作为本技术的一种改进，所述离型层为硅油离型膜。本技术的有益效果为：本技术结构设计合理，覆合有聚酰亚胺薄膜层，耐高温...
【技术保护点】
1.一种UV减粘膜，其特征在于，其包括聚酰亚胺膜层、耐高温硅胶层、SiO
【技术特征摘要】
1.一种UV减粘膜，其特征在于，其包括聚酰亚胺膜层、耐高温硅胶层、SiO2涂层、基材层、丙烯酸型减粘树脂层和离型层，所述聚酰亚胺膜层、耐高温硅胶层、SiO2涂层、基材层、丙烯酸型减粘树脂层和离型层按照从上至下的顺序依次贴合；所述基材层为PET膜、PP膜、TPU膜、PO膜中的一种。
2.根据权利要求1所述的UV减粘膜，其特征在于，所述基材层的...
【专利技术属性】
技术研发人员：龚上玫，廖文胜，
申请(专利权)人：东莞市鑫博仕新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44
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