一种具有超薄铝铟氮插入层的紫外发光二极管及其制备方法技术

本发明专利技术提供了一种具有超薄铝铟氮插入层的紫外发光二极管及其制备方法，涉及半导体技术领域。所述紫外发光二极管包括衬底和在所述衬底上依次生长的低温缓冲层、高温层、n型AlGaN层、发光有源区、插入层、p型AlGaN电子阻挡层、p型AlGaN层和接触层，其中，所述插入层采用铝铟氮制成。所述紫外发光二极管能够尽可能阻挡电子向P层扩散，并保证空穴能够高效注入量子阱，提高器件的发光效率。

A kind of ultra-thin al In-N interposed UV light-emitting diode and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
一种具有超薄铝铟氮插入层的紫外发光二极管及其制备方法
本专利技术涉及半导体
，具体而言，涉及一种具有超薄铝铟氮插入层的紫外发光二极管及其制备方法。
技术介绍
目前，因为紫外发光二极管具有环保无毒、耗电低、体积小以及寿命长等优点，符合新时代下环保、节能等要求。在紫外固化、空气与水净化、生物医疗、高密度储存、安全与保密通讯等领域，具有重要应用价值。紫外发光二极管技术面临的首要问题是其光效低。波长365nm的紫外发光二极管的输出功率仅为输入功率的5％－8％。对于波长385nm以上的紫外发光二极管的光电转化效率，相对于短波长有明显提高，但输出功率只有输入功率的15％。如何有效提高紫外发光二极管的光效，成为大家关注的焦点问题。因此，设计一种紫外发光二极管及其制备方法，能够尽可能阻挡电子向P层扩散，并保证空穴能够高效注入量子阱，提高器件的发光效率，这是目前急需解决的技术问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种具有超薄铝铟氮插入层的紫外发光二极管及其制备方法，其能够尽可能阻挡电子向P层扩散，并保证空穴能够高效注入量子阱，提高器件的发光效率。第一方面，本专利技术提供一种具有超薄铝铟氮插入层的紫外发光二极管，所述紫外发光二极管包括衬底和在所述衬底上依次生长的低温缓冲层、高温层、n型AlGaN层、发光有源区、插入层、p型AlGaN电子阻挡层、p型AlGaN层和接触层，其中，所述插入层采用铝铟氮制成。基于第一方面的第一实施例中，所述插入层中In组分值为0～50％中的某一个值，In组分值和Al组分值在此层中恒定不变。基于第一方面的第二实施例中，所述插入层中In组分值沿着生长方向线性渐变减少，同时Al组分值在此层中沿着生长方向线性渐变增加。基于第一方面的第三实施例中，所述插入层中In组分值沿着生长方向线性渐变增加，同时Al组分值在此层中沿着生长方向线性渐变减少。基于第一方面的第四实施例中，所述插入层的厚度范围为：0.5nm～3nm。基于第一方面的第五实施例中，所述发光有源区包括InxGa1-xN和AlyGa1-yN、且0.001≤x<y≤1。基于第一方面的第六实施例中，所述发光有源区由量子阱层和量子垒层交替生长而成。基于第一方面第四实施例的第五实施例中，所述量子阱层的厚度范围为：1.5nm～10nm，所述量子垒层的厚度范围为：4nm～20nm。第二方面，本专利技术提供一种具有超薄铝铟氮插入层的紫外发光二极管的制备方法，包括：在衬底上依次生长的低温缓冲层、高温层、n型AlGaN层；在所述n型AlGaN层上生长发光有源区；在所述发光有源区上生长插入层，所述插入层采用铝铟氮制成；在所述插入层上依次生长p型AlGaN电子阻挡层、p型AlGaN层和接触层。基于第二方面的第一实施例中，所述插入层中In组分值为0～50％。基于第二方面的第二实施例中，所述插入层的生长温度为：750℃～950℃，生长压力：50mbar～200mbar。基于第一方面的第三实施例中，所述插入层的Mg掺杂浓度小于1E19/cm3，且Mg的掺杂浓度沿着生长方向逐渐增加。本专利技术提供的具有超薄铝铟氮插入层的紫外发光二极管及其制备方法的有益效果是：铝铟氮的插入层与发光有源区的晶格失配小，能降低最后一个量子垒中因极化电荷而产生的显著能带弯曲，从而提高p型AlGaN电子阻挡层的电子势垒高度，抑制紫外发光二极管中存在的大量的电子泄露。因此，铝铟氮的插入层尽可能阻挡电子向P层扩散并保证空穴能够高效注入量子阱，提高紫外发光二极管的发光效率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本专利技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。图1为本专利技术第一实施例提供的紫外发光二极管的示意图。图2为本专利技术第三实施例提供的紫外发光二极管的制备方法的流程图。图3至图5为紫外发光二极管制备过程的结构示意图。图标：100-紫外发光二极管；110-衬底；120-低温缓冲层；130-高温层；140-n型AlGaN层；150-发光有源区；160-插入层；170-p型AlGaN电子阻挡层；180-p型AlGaN层；190-接触层。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本专利技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本专利技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本专利技术的范围，而是仅仅表示本专利技术的选定实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该专利技术产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，或者是本领域技术人员惯常理解的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本专利技术的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。限制紫外发光二极管的光效的一个关键因素是空穴注入不足及电子泄漏。Mg在GaN中的激活能在200meV左右，在高Al组分p-AlGaN中的激活能更高(在AlN中达到630meV)，能够热激活的空穴浓度更低，引起空穴注入的严重不足，导致大量电子从有源区泄漏到p型区损耗掉。Si在GaN中的激活能仅为15meV，在AlN中也高达282meV。无论是N型掺杂还是P型掺杂，杂质在宽禁带AlGaN中的掺杂效率是非常低的。对于极性面生长的紫外发光二极管，极化效应会进一步加重电子电流泄漏。这些泄漏的电子不能有效发光，其能量只能以发热的形式耗散掉。为减少电子电流泄漏，在器件结构中最后一个量子垒(LQB)后引本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有超薄铝铟氮插入层的紫外发光二极管，其特征在于，所述紫外发光二极管包括衬底(100)和在所述衬底(100)上依次生长的低温缓冲层(120)、高温层(130)、n型AlGaN层(140)、发光有源区(150)、插入层(160)、p型AlGaN电子阻挡层(170)、p型AlGaN层(180)和接触层(190)，其中，所述插入层(160)采用铝铟氮制成。/n

【技术特征摘要】
1.一种具有超薄铝铟氮插入层的紫外发光二极管，其特征在于，所述紫外发光二极管包括衬底(100)和在所述衬底(100)上依次生长的低温缓冲层(120)、高温层(130)、n型AlGaN层(140)、发光有源区(150)、插入层(160)、p型AlGaN电子阻挡层(170)、p型AlGaN层(180)和接触层(190)，其中，所述插入层(160)采用铝铟氮制成。


2.根据权利要求1所述的紫外发光二极管，其特征在于，所述插入层(160)中In组分值为0～50％中的某一个值，In组分值和Al组分值在此层中恒定不变。


3.根据权利要求1所述的紫外发光二极管，其特征在于，所述插入层(160)中In组分值沿着生长方向线性渐变减少，同时Al组分值在此层中沿着生长方向线性渐变增加。


4.根据权利要求1所述的紫外发光二极管，其特征在于，所述插入层(160)中In组分值沿着生长方向线性渐变增加，同时Al组分值在此层中沿着生长方向线性渐变减少。


5.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：贺龙飞，赵维，张康，何晨光，吴华龙，刘宁炀，陈志涛，
申请(专利权)人：广东省半导体产业技术研究院，
类型：发明
国别省市：广东;44