一种旋转式真空镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种旋转式真空镀膜装置，包括真空壳体，所述真空壳体为中空结构，所述真空壳体的上端与外部连通的通孔，且真空壳体的上端设有与通孔匹配设置的封盖，所述封盖的下侧侧壁固定连接有镀板固定装置，所述真空壳体的两侧均设有抽真空装置，所述真空壳体的底壁上设有镀料气化装置，且镀料气化装置位于镀板固定装置的正下方。本实用新型专利技术能够在一定范围内对不同大小厚度的镀板进行镀膜，适用性强，便于对镀板进行真空镀膜。

A rotary vacuum coating device

【技术实现步骤摘要】
一种旋转式真空镀膜装置
本技术涉及镀膜
，尤其涉及一种旋转式真空镀膜装置。
技术介绍
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜；现有的真空镀膜设备不便于对不同大小厚度的镀板进行镀膜，适用性较差，为此我们提出一种旋转式真空镀膜装置来解决上述问题。
技术实现思路
本技术的目的是为了解决现有技术中存在的问题，而提出的一种旋转式真空镀膜装置。为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：一种旋转式真空镀膜装置，包括真空壳体，所述真空壳体为中空结构，所述真空壳体的上端与外部连通的通孔，且真空壳体的上端设有与通孔匹配设置的封盖，所述封盖的下侧侧壁固定连接有镀板固定装置，所述真空壳体的两侧均设有抽真空装置，所述真空壳体的底壁上设有镀料气化装置，且镀料气化装置位于镀板固定装置的正下方。优选地，所述镀板固定装置包括水平设置的固定板，所述固定板的下侧侧壁横向设有开口远离封盖的滑槽，所述滑槽内滑动连接有两个对称设置的滑板，两个所述滑板的下端均固定连接有水平设置的第一夹板，两个所述第一夹板的上侧侧壁均通过多个第一弹簧连接有水平设置的第二夹板，两个所述第一夹板的上侧侧壁均固定连接有竖直设置的连接杆，且两个连接杆的上端均贯穿第二夹板的侧壁设置，两个所述连接杆的上端均设有滑动锁块。优选地，两个所述抽真空装置均包括抽真空泵，两个所述抽真空泵均与真空壳体的侧壁固定连接，两个所述抽真空泵的输出端均贯穿真空壳体的侧壁并固定连接有抽真空板。优选地，所述镀料气化装置包括镀料槽，所述镀料槽内设有坩埚，所述镀料槽的上端设有气化板，所述气化板为中空结构，且气化板的下侧侧壁与镀料槽内部连通，所述气化板的上侧侧壁设有多个气化孔，且每个气化孔内均固定连接有气化网。优选地，所述滑槽内固定连接有水平设置的固定杆，且两个滑板均套设在固定杆上，两个所述滑板的上端均设有安装槽，且两个安装槽内均设有滑轮，所述固定杆的两端均套设有第二弹簧，且两个第二弹簧分别与两个滑板的侧壁固定连接。优选地，所述气化板的下侧侧壁固定连接有两个对称设置的插杆，且镀料槽的两端均设有与插杆匹配设置的插槽。本技术中有益效果如下：1、两个滑板内能够在滑槽内滑动，从而对两个第一夹板之间的工作距离进行调节，两个第二弹簧为能够推动滑板相向运动，使两个第一夹板能够固定不同长度的镀板，第一夹板与第二夹板能够在第一弹簧的配合下调节间距，从而对不同厚度的镀板进行固定；2、坩埚能够将镀料蒸发，气化镀料通过气化孔及气化网均匀的上升，气化镀料与镀板接触，抽真空泵与抽真空板配合将真空壳体内部抽真空，使镀板在真空状态下完成镀膜。附图说明图1为本技术提出的一种旋转式真空镀膜装置的结构示意图；图2为图1中A处的结构示意图；图3为图1中B处的结构示意图。图中：1真空壳体、2封盖、3固定板、4滑槽、5滑板、6第一夹板、7第二夹板、8第一弹簧、9连接杆、10滑动锁块、11抽真空泵、12抽真空板、13镀料槽、14气化板、15气化孔、16气化网、17固定杆、18安装槽、19滑轮、20第二弹簧、21插杆、22坩埚。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。参照图1-3，一种旋转式真空镀膜装置，包括真空壳体1，真空壳体1为中空结构，真空壳体1的上端与外部连通的通孔，且真空壳体1的上端设有与通孔匹配设置的封盖2，封盖2的下侧侧壁固定连接有镀板固定装置，镀板固定装置包括水平设置的固定板3，固定板3的下侧侧壁横向设有开口远离封盖2的滑槽4，滑槽4内滑动连接有两个对称设置的滑板5，两个滑板5的下端均固定连接有水平设置的第一夹板6，两个第一夹板6的上侧侧壁均通过多个第一弹簧8连接有水平设置的第二夹板7，两个第一夹板6的上侧侧壁均固定连接有竖直设置的连接杆9，且两个连接杆9的上端均贯穿第二夹板7的侧壁设置，两个连接杆9的上端均设有滑动锁块10，滑槽4内固定连接有水平设置的固定杆17，且两个滑板5均套设在固定杆17上，两个滑板5的上端均设有安装槽18，且两个安装槽18内均设有滑轮19，固定杆17的两端均套设有第二弹簧20，且两个第二弹簧20分别与两个滑板5的侧壁固定连接，两个滑板5内能够在滑槽4内滑动，从而对两个第一夹板6之间的工作距离进行调节，两个第二弹簧20为能够推动滑板5相向运动，使两个第一夹板6能够固定不同长度的镀板，第一夹板6与第二夹板7能够在第一弹簧8的配合下调节间距，从而对不同厚度的镀板进行固定；真空壳体1的两侧均设有抽真空装置，真空壳体1的底壁上设有镀料气化装置，且镀料气化装置位于镀板固定装置的正下方，两个抽真空装置均包括抽真空泵11，两个抽真空泵11均与真空壳体1的侧壁固定连接，两个抽真空泵11的输出端均贯穿真空壳体1的侧壁并固定连接有抽真空板12，镀料气化装置包括镀料槽13，镀料槽13内设有坩埚22，镀料槽13的上端设有气化板14，气化板14为中空结构，且气化板14的下侧侧壁与镀料槽13内部连通，气化板14的上侧侧壁设有多个气化孔15，且每个气化孔15内均固定连接有气化网16，气化板14的下侧侧壁固定连接有两个对称设置的插杆21，且镀料槽13的两端均设有与插杆21匹配设置的插槽，抽真空泵11的型号为XD-20F油式旋片真空泵，坩埚22能够将镀料蒸发，气化镀料通过气化孔15及气化网16均匀的上升，气化镀料与镀板接触，抽真空泵11与抽真空板12配合将真空壳体1内部抽真空，使镀板在真空状态下完成镀膜。本技术中，两个滑板5内在滑槽4内滑动，从而对两个第一夹板6之间的工作距离进行调节，两个第二弹簧20为推动滑板5相向运动，使两个第一夹板6固定不同长度的镀板，第一夹板6与第二夹板7在第一弹簧8的配合下调节间距，从而对不同厚度的镀板进行固定，坩埚22将镀料蒸发，气化镀料通过气化孔15及气化网16均匀的上升，气化镀料与镀板接触，抽真空泵11与抽真空板12配合将真空壳体1内部抽真空，使镀板在真空状态下完成镀膜。以上所述，仅为本技术较佳的具体实施方式，但本技术的保护范围并不局限于此，任何熟悉本
的技术人员在本技术揭露的技术范围内，根据本技术的技术方案及其技术构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种旋转式真空镀膜装置，包括真空壳体(1)，其特征在于，所述真空壳体(1)为中空结构，所述真空壳体(1)的上端与外部连通的通孔，且真空壳体(1)的上端设有与通孔匹配设置的封盖(2)，所述封盖(2)的下侧侧壁固定连接有镀板固定装置，所述真空壳体(1)的两侧均设有抽真空装置，所述真空壳体(1)的底壁上设有镀料气化装置，且镀料气化装置位于镀板固定装置的正下方。/n

【技术特征摘要】
1.一种旋转式真空镀膜装置，包括真空壳体(1)，其特征在于，所述真空壳体(1)为中空结构，所述真空壳体(1)的上端与外部连通的通孔，且真空壳体(1)的上端设有与通孔匹配设置的封盖(2)，所述封盖(2)的下侧侧壁固定连接有镀板固定装置，所述真空壳体(1)的两侧均设有抽真空装置，所述真空壳体(1)的底壁上设有镀料气化装置，且镀料气化装置位于镀板固定装置的正下方。


2.根据权利要求1所述的一种旋转式真空镀膜装置，其特征在于，所述镀板固定装置包括水平设置的固定板(3)，所述固定板(3)的下侧侧壁横向设有开口远离封盖(2)的滑槽(4)，所述滑槽(4)内滑动连接有两个对称设置的滑板(5)，两个所述滑板(5)的下端均固定连接有水平设置的第一夹板(6)，两个所述第一夹板(6)的上侧侧壁均通过多个第一弹簧(8)连接有水平设置的第二夹板(7)，两个所述第一夹板(6)的上侧侧壁均固定连接有竖直设置的连接杆(9)，且两个连接杆(9)的上端均贯穿第二夹板(7)的侧壁设置，两个所述连接杆(9)的上端均设有滑动锁块(10)。


3.根据权利要求1所述的一种旋转式真空镀膜装置，其特征在于，两个所述抽真空装置均包括抽真空泵(11)，两个所述抽真空泵(11)均与...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈开龙，
申请(专利权)人：深圳市沃克力技术有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44