一种太阳能多晶硅片超声波清洗设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种太阳能多晶硅片超声波清洗设备，包括机架和设置在机架内的水槽，水槽底部水平设有超声波振荡板，超声波振荡板与水槽之间形成夹层，夹层内设有驱动超声波振荡板振动的超声波发生器，水槽内设有朝向输送机构的气泡发生机构，气泡发生机构能够向输送机构上的太阳能多晶硅片吹出气泡，与现有技术相比，本实用新型专利技术利用位于水槽两端的机架能够直接装配于各生产线中，通过输送机构能够将去磷硅玻璃加工以及切割加工过程中的硅片顺利输送至水槽内，完成连续输送及清洗，避免利用机械爪和清洗篮独立盛装硅片，利用该输送机构即可使硅片直接进入到水槽内进行超声波清洗，具有使用方便，清洗效率高的优点。

An ultrasonic cleaning equipment for solar polycrystalline silicon wafer

【技术实现步骤摘要】
一种太阳能多晶硅片超声波清洗设备
本技术涉及太阳能多晶硅片加工设备的
，特别是涉及一种太阳能多晶硅片超声波清洗设备。
技术介绍
随着半导体材料的普及与发展，人们对于硅片的质量与规格要求也越来越高，而在硅片的清洗工艺中，超声波清洗技术由于其优异的清洗效果受到国内外公司的青睐。利用超声波清洗技术，在清洗过程中超声波频率在合理的范围内往复扫动，带动清洗液形成细微回流，使工件污垢在被超声剥离的同时迅速带离工件表面，大大提高了清洗效率。申请号为CN201621479685.3的技术专利公开了一种新型多晶硅片清洗机，包括外壳、超声波刻蚀槽、超声波碱洗槽和超声波酸洗槽，所述外壳外壁开设有返洗口，且返洗口下端设置有加液板，所述外壳右侧固定有PLC控制器，所述外壳内部固定有导轨，且导轨与滑块滑动连接，所述滑块下端连接有伸缩杆，且伸缩杆另一端固定有机械爪，所述机械爪通过提手与清洗篮固定，且清洗篮左右两侧分别开设有进料口和出料口，所述清洗篮下端设置有换位板，所述换位板通过滑轨与外壳滑动连接，超声波刻蚀槽、超声波碱洗槽和超声波酸洗槽右侧均固定有漂洗槽。由于硅片的去磷硅玻璃加工以及切割加工中均需要对硅片进行清洗，然而采用机械爪以及清洗篮输送硅片的结构，无法适用于去磷硅玻璃加工以及切割加工的生产线中，加工效率较低，而且其存在着清洗效果差的缺点。
技术实现思路
本技术的目的就是解决现有技术中的问题，提出一种太阳能多晶硅片超声波清洗设备，能够装配于去磷硅玻璃加工以及切割加工的生产线中，并提高清洗效果。>为实现上述目的，本技术提出了一种太阳能多晶硅片超声波清洗设备，包括机架和设置在机架内的水槽，所述机架从水槽的两端水平向外延伸，所述水槽位于机架的中心并向下凹陷形成用于容纳清洗液的容纳腔，所述机架上水平设有用于输送太阳能多晶硅片的输送机构，所述输送机构向下凹陷进入到所述容纳腔中，所述水槽底部水平设有超声波振荡板，所述超声波振荡板与水槽之间形成夹层，所述夹层内设有驱动所述超声波振荡板振动的超声波发生器，所述水槽内设有朝向输送机构的气泡发生机构，所述气泡发生机构能够向所述输送机构上的太阳能多晶硅片吹出气泡。作为优选，所述输送机构包括位于机架上的水平段以及位于水槽内的清洗段，所述清洗段位于容纳腔内且其高度低于所述水平段，所述水平段与清洗段之间经倾斜设置的过渡段连接，所述水平段上的太阳能多晶硅片经过渡段输送后能够进入到容纳腔内。作为优选，所述水平段、清洗段和过渡段均包括横向设置在机架和水槽上的若干输送辊，所述水平段和清洗段的输送辊上张紧有两根输送带，所述过渡段的输送辊上张紧有两根过渡带，所述两根输送带之间的间隔大于两根过渡带之间的间隔。作为优选，所述气泡发生机构包括若干设置在所述输送机构上方的气泡管以及与气泡管连接的充气泵，所述气泡管与输送机构之间具有供太阳能多晶硅片通过的间隙，所述气泡管上设有朝向所述间隙的气泡孔。作为优选，所述水槽内设有与所述容纳腔连通的进水口和出水口。本技术的有益效果：与现有技术相比，本技术利用位于水槽两端的机架能够直接装配于各生产线中，通过输送机构能够将去磷硅玻璃加工以及切割加工过程中的硅片顺利输送至水槽内，完成连续输送及清洗，避免利用机械爪和清洗篮独立盛装硅片，利用该输送机构即可使硅片直接进入到水槽内进行超声波清洗，具有使用方便，清洗效率高的优点。本技术的特征及优点将通过实施例结合附图进行详细说明。【附图说明】图1是本技术的结构示意图；图2是本技术中输送机构的结构示意图；图中：1-机架、2-水槽、3-容纳腔、4-超声波振荡板、5-夹层、6-超声波发生器、7-水平段、8-清洗段、9-过渡段、10-输送辊、11-输送带、12-过渡带、13-气泡管、14-气泡孔、15-进水口、16-出水口。【具体实施方式】参阅图1和图2，本技术包括机架1和设置在机架1内的水槽2，所述机架1从水槽2的两端水平向外延伸，所述水槽2位于机架1的中心并向下凹陷形成用于容纳清洗液的容纳腔3，所述机架1上水平设有用于输送太阳能多晶硅片的输送机构，所述输送机构向下凹陷进入到所述容纳腔3中，所述水槽2底部水平设有超声波振荡板4，所述超声波振荡板4与水槽2之间形成夹层5，所述夹层5内设有驱动所述超声波振荡板4振动的超声波发生器6，所述水槽2内设有朝向输送机构的气泡发生机构，所述气泡发生机构能够向所述输送机构上的太阳能多晶硅片吹出气泡。气泡发生机构与超声波发生器6相结合的结构，利用超声波发生器6产生的震动以及气泡发生机构产生的气泡促进水槽2内清洗液的流动，增加清洗液与太阳能硅片的接触面积，从而提高清洗效率，相比于单一的超声波清洗，超声与气泡相结合确保清洗效率。具体的，所述输送机构包括位于机架1上的水平段7以及位于水槽2内的清洗段8，所述清洗段位于容纳腔3内且其高度低于所述水平段7，所述水平段7与清洗段8之间经倾斜设置的过渡段9连接，所述水平段7上的太阳能多晶硅片经过渡段9输送后能够进入到容纳腔3内。利用机架1上的水平段7能够将本装置顺利装配于去磷硅玻璃加工以及切割加工的生产线中，利用过渡段9将太阳能多晶硅片顺利送进水槽2内清洗并送出。具体的，所述水平段7、清洗段8和过渡段9均包括横向设置在机架1和水槽2上的若干输送辊10，所述水平段7和清洗段8的输送辊10上张紧有两根输送带11，所述过渡段9的输送辊10上张紧有两根过渡带12，所述两根输送带11之间的间隔大于两根过渡带12之间的间隔。水平段7、清洗段8和过渡段9中所有的输送辊10均由过渡带12和输送带11张紧传动连接在一起，采用该种结构后能够只采用一个驱动源即可驱动水平段7、清洗段8和过渡段9发生运动。机架1上设有朝向过渡段9的风干风机。具体的，所述气泡发生机构包括若干设置在所述输送机构上方的气泡管13以及与气泡管13连接的充气泵，所述气泡管13与输送机构之间具有供太阳能多晶硅片通过的间隙，所述气泡管13上设有朝向所述间隙的气泡孔14。具体的，所述水槽2内设有与所述容纳腔3连通的进水口15和出水口16。上述实施例是对本技术的说明，不是对本技术的限定，任何对本技术简单变换后的方案均属于本技术的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种太阳能多晶硅片超声波清洗设备，包括机架(1)和设置在机架(1)内的水槽(2)，其特征在于：所述机架(1)从水槽(2)的两端水平向外延伸，所述水槽(2)位于机架(1)的中心并向下凹陷形成用于容纳清洗液的容纳腔(3)，所述机架(1)上水平设有用于输送太阳能多晶硅片的输送机构，所述输送机构向下凹陷进入到所述容纳腔(3)中，所述水槽(2)底部水平设有超声波振荡板(4)，所述超声波振荡板(4)与水槽(2)之间形成夹层(5)，所述夹层(5)内设有驱动所述超声波振荡板(4)振动的超声波发生器(6)，所述水槽(2)内设有朝向输送机构的气泡发生机构，所述气泡发生机构能够向所述输送机构上的太阳能多晶硅片吹出气泡。/n

【技术特征摘要】
1.一种太阳能多晶硅片超声波清洗设备，包括机架(1)和设置在机架(1)内的水槽(2)，其特征在于：所述机架(1)从水槽(2)的两端水平向外延伸，所述水槽(2)位于机架(1)的中心并向下凹陷形成用于容纳清洗液的容纳腔(3)，所述机架(1)上水平设有用于输送太阳能多晶硅片的输送机构，所述输送机构向下凹陷进入到所述容纳腔(3)中，所述水槽(2)底部水平设有超声波振荡板(4)，所述超声波振荡板(4)与水槽(2)之间形成夹层(5)，所述夹层(5)内设有驱动所述超声波振荡板(4)振动的超声波发生器(6)，所述水槽(2)内设有朝向输送机构的气泡发生机构，所述气泡发生机构能够向所述输送机构上的太阳能多晶硅片吹出气泡。


2.根据权利要求1所述的一种太阳能多晶硅片超声波清洗设备，其特征在于：所述输送机构包括位于机架(1)上的水平段(7)以及位于水槽(2)内的清洗段(8)，所述清洗段位于容纳腔(3)内且其高度低于所述水平段(7)，所述水平段(7)与清洗段(8)之间经倾斜设置的过渡段(9)连接，所述水平段(7)上的太阳能...

【专利技术属性】
技术研发人员：张仲英，王斌，孔维兴，
申请(专利权)人：浙江绿远光伏科技有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33