一种陶瓷盘清洗设备制造技术

本发明专利技术公开了一种陶瓷盘清洗设备，所述清洗设备包括机架以及沿所述机架长度方向依次设置的上料工位、清洗工位、下料工位；所述机架上设置有移料组件，所述移料组件能够使陶瓷盘在上料工位、清洗工位以及下料工位之间进行运动；所述上料工位包括升降料架、位于所述升降料架正下方的第一输送组件以及与所述第一输送组件对接的第二输送组件；所述清洗工位包括至少一组清洗组件，所述清洗组件包括可转动的定位治具以及位于所述定位治具上方的可转动的管道组；所述下料工位包括第三输送组件以及与所述第三输送组件对接的第四输送组件。本发明专利技术清洗效果好，清洗效率高，能够满足现代化高速生产的需求。

A cleaning equipment for ceramic disk

【技术实现步骤摘要】
一种陶瓷盘清洗设备
本专利技术属于陶瓷盘清洗
，尤其涉及一种陶瓷盘清洗设备。
技术介绍
目前，随着电子行业的快速发展，对于产品的加工精度，需要逐步提高，并且在加工过程中越来越为精细化，质量要求也越来越高。对于蓝宝石晶片来说，晶片表面的平坦度是一项极为重要的质量参数，在对蓝宝石晶片进行贴片操作过程中，贴片的平坦度将会直接影响到蓝宝石晶片的平坦度，故而用于贴片的陶瓷盘表面的平坦度限位尤为重要。为提高陶瓷盘表面的平坦度，通常需要对陶瓷盘进行清洗操作，传统的清洗方式为人工清洗，即操作者将陶瓷盘固定，再对陶瓷盘进行刷洗操作，这种清洗方式需要消耗大量人力，清洗的效果较差，容易对陶瓷盘造成损伤，在人工搬运过程中容易造成二次污染，并且人工清洗的方式效率低下，难以满足现代化高速生产的需求。
技术实现思路
本专利技术克服了现有技术的不足，提供一种陶瓷盘清洗设备，以解决现有技术中存在的问题。为达到上述目的，本专利技术采用的技术方案为：一种陶瓷盘清洗设备，所述清洗设备包括机架以及沿所述机架长度方向依次设置的上料工位、清洗工位、下料工位；其中：所述机架上设置有移料组件，所述移料组件能够使陶瓷盘在上料工位、清洗工位以及下料工位之间进行运动；所述上料工位包括升降料架、位于所述升降料架正下方的第一输送组件以及与所述第一输送组件对接的第二输送组件；所述清洗工位包括至少一组清洗组件，所述清洗组件包括可转动的定位治具以及位于所述定位治具上方的可转动的管道组；所述下料工位包括第三输送组件以及与所述第三输送组件对接的第四输送组件。本专利技术一个较佳实施例中，所述机架一侧还设置有控制系统，所述控制系统与所述上料工位、清洗工位、下料工位均电性连接。本专利技术一个较佳实施例中，所述移料组件包括直线驱动模组以及能够沿所述直线驱动模组长度方向进行运动的夹具。本专利技术一个较佳实施例中，所述升降料架一侧设置有第一气缸，所述第一气缸的活塞杆通过连接架与所述升降料架连接。本专利技术一个较佳实施例中，所述清洗组件还包括罩体以及位于所述定位治具上方的刷洗结构；所述罩体一侧设置有可打开的出液口，所述定位治具与所述管道组均位于所述罩体内。本专利技术一个较佳实施例中，所述刷洗结构包括第一电机、位于所述第一电机转轴端的转动块、位于所述转动块上的第二电机以及位于所述第二电机转轴端的刷头。本专利技术一个较佳实施例中，所述转动块上设置有升降气缸，所述刷头通过连接块与所述升降气缸的活塞杆连接。本专利技术一个较佳实施例中，所述罩体上设置有伺服电机，所述管道组通过安装块与所述伺服电机的转轴连接。本专利技术一个较佳实施例中，所述管道组的管道数量为至少三个。本专利技术一个较佳实施例中，所述定位治具下方设置有驱动电机与驱动气缸，所述驱动电机的转轴与所述定位治具中心位置连接，所述驱动气缸通过连接座与所述定位治具中心位置连接。本专利技术解决了
技术介绍
中存在的缺陷，本专利技术具备以下有益效果：本专利技术在上料工位、清洗工位、下料工位的配合作用下，实现了对陶瓷盘的清洗，在此过程中，无需人工操作，极大地降低了工人的劳动强度，该清洗设备的清洗效果好，不会对陶瓷盘造成损伤，不会出现二次污染的情况，并且该清洗设备的清洗效率高，能够满足现代化高速生产的需求。附图说明下面结合附图和实施例对本专利技术进一步说明；图1为本专利技术优选实施例的整体结构示意图；图2为图1中A部放大图；图3为本专利技术优选实施例一局部结构示意图；图4为本专利技术优选实施例另一局部结构示意图；图5为本专利技术优选实施例清洗组件内部结构示意图；图中：1、机架；2、上料工位；21、升降料架；22、第一输送组件；23、第二输送组件；3、清洗工位；31、清洗组件；311、定位治具；312、管道组；313、罩体；314、刷洗结构；4、下料工位；41、第三输送组件；42、第四输送组件；5、移料组件；51、直线驱动模组；52、夹具；6、控制系统；7、第一气缸；8、伺服电机；9、驱动电机；10、驱动气缸。具体实施方式现在结合附图和实施例对本专利技术作进一步详细的说明，这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本专利技术的基本结构，因此其仅显示与本专利技术有关的构成。在本实施例中，采用的清洗组件31数量为三组，靠近上料工位2的一组清洗组件31不带有刷洗结构314，另外两组清洗组件31带有刷洗结构314。如图1至图5所示，一种陶瓷盘清洗设备，清洗设备包括机架1以及沿机架1长度方向依次设置的上料工位2、清洗工位3、下料工位4；其中：机架1上设置有移料组件5，移料组件5能够使陶瓷盘在上料工位2、清洗工位3以及下料工位4之间进行运动；上料工位2包括升降料架21、位于升降料架21正下方的第一输送组件22以及与第一输送组件22对接的第二输送组件23；清洗工位3包括至少一组清洗组件31，清洗组件31包括可转动的定位治具311以及位于定位治具311上方的可转动的管道组312；下料工位4包括第三输送组件41以及与第三输送组件41对接的第四输送组件42。本专利技术的清洗设备在使用过程中，首先陶瓷盘由第一输送组件22输送至第二输送组件23，在移料组件5的直线驱动模组51作用下，通过夹具52夹持陶瓷盘进入第一清洗组件31内，由第一清洗组件31内的定位治具311对陶瓷盘进行定位，而后在驱动气缸10作用下，使陶瓷盘脱离夹具52完全落入定位治具311内，而后管道组312的一管道向罩体313内导入药液，使药液进入陶瓷盘表面，对陶瓷盘表面进行冲洗，同时药液将会与陶瓷盘表面的蜡进行化学反应，达到除蜡效果，冲洗后，管道组312的另一管道向罩体313内通入高压气体，将陶瓷盘表面的液体吹离，避免陶瓷盘在移动过程中携带液体；而后陶瓷盘在移料组件5的直线驱动模组51作用下，通过夹具52夹持陶瓷盘进入第二清洗组件31内，在第二清洗组件31内重复陶瓷盘在第一清洗组件31内进行的清洗操作，并且添加了刷洗结构314同步对陶瓷盘表面进行刷洗操作，以实现对陶瓷盘的进一步清洗，而后陶瓷盘在移料组件5的直线驱动模组51作用下，通过夹具52夹持陶瓷盘进入第三清洗组件31，陶瓷盘完全落入定位治具311后，管道组312的一管道向罩体313内导入清水，对陶瓷盘表面进行冲洗，冲洗完成之后，管道组312的另一管道向罩体313内通入高温气体，去除陶瓷盘表面液体的同时将陶瓷盘烘干，烘干后，在移料组件5的直线驱动模组51作用下，由夹具52夹持陶瓷盘进入第三输送组件41，由第三输送组件41将清洗后的陶瓷盘输送至第四输送组件42，完成全部的清洗操作。本实施例中，陶瓷盘进入第一清洗组件31的定位治具311内后，由驱动气缸10带动定位治具311上升，上升之后，驱动电机9驱动定位治具311进行转动，与此同时，管道组312一管道内将会喷出药液，伺服电机8会驱动管道组312进行转动，使管道内喷出的药液形成扇形的喷淋面，能够对陶瓷盘表面进行充分的喷淋，保证药液与陶瓷盘表面蜡的化学反应的充分进行，本实施例中使用的药液为具有一定温本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种陶瓷盘清洗设备，其特征在于，所述清洗设备包括机架以及沿所述机架长度方向依次设置的上料工位、清洗工位、下料工位；其中：/n所述机架上设置有移料组件，所述移料组件能够使陶瓷盘在上料工位、清洗工位以及下料工位之间进行运动；/n所述上料工位包括升降料架、位于所述升降料架正下方的第一输送组件以及与所述第一输送组件对接的第二输送组件；/n所述清洗工位包括至少一组清洗组件，所述清洗组件包括可转动的定位治具以及位于所述定位治具上方的可转动的管道组；/n所述下料工位包括第三输送组件以及与所述第三输送组件对接的第四输送组件。/n

【技术特征摘要】
1.一种陶瓷盘清洗设备，其特征在于，所述清洗设备包括机架以及沿所述机架长度方向依次设置的上料工位、清洗工位、下料工位；其中：
所述机架上设置有移料组件，所述移料组件能够使陶瓷盘在上料工位、清洗工位以及下料工位之间进行运动；
所述上料工位包括升降料架、位于所述升降料架正下方的第一输送组件以及与所述第一输送组件对接的第二输送组件；
所述清洗工位包括至少一组清洗组件，所述清洗组件包括可转动的定位治具以及位于所述定位治具上方的可转动的管道组；
所述下料工位包括第三输送组件以及与所述第三输送组件对接的第四输送组件。


2.根据权利要求1所述的一种陶瓷盘清洗设备，其特征在于，所述机架一侧还设置有控制系统，所述控制系统与所述上料工位、清洗工位、下料工位均电性连接。


3.根据权利要求1所述的一种陶瓷盘清洗设备，其特征在于，所述移料组件包括直线驱动模组以及能够沿所述直线驱动模组长度方向进行运动的夹具。


4.根据权利要求1所述的一种陶瓷盘清洗设备，其特征在于，所述升降料架一侧设置有第一气缸，所述第一气缸的活塞杆通过连接架与所述升降料架连接。

【专利技术属性】
技术研发人员：魏莹莹，杨杰，蒋君，孔玉朋，宋昌万，
申请(专利权)人：拓思精工科技苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32