显影液再生系统及其正负型光刻胶分离装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种显影液再生系统及其正负型光刻胶分离装置，主要由一存储槽通过一送液组及一压力/流量感应器连接一超过滤膜，并由该超过滤膜分别连接一排放量/时间比例控制组所组成；当一显影废液于该存储槽，并由该送液组使显影废液流入该超过滤膜，以将正负型光刻胶进行分离，则该超过滤膜将过滤分离后的一清澈显影液回收至一显影液再生设备进行再生处理，又将一高光刻胶废液通过该排放量/时间比例控制组进行调节以排出一含高浓度光刻胶废液；通过预先分离该显影废液中过大的光刻胶粒子，达到提升系统耐用性、碱度、显影液再生品质的目的。

Developing solution regeneration system and positive and negative photoresist separation device

【技术实现步骤摘要】
显影液再生系统及其正负型光刻胶分离装置
本专利技术关于一种显影液再生系统，尤指一种显影液再生系统及其正负型光刻胶分离装置。
技术介绍
随着光电、半导体等产业的蓬勃发展，在基板制造过程、印刷机板制造或半导体制程中，经常将显影液回收再利用，作为显示正/负型光刻胶或颜料光刻胶用的显影液包括：氢氧化四甲基胺(TMAH)、氢氧化钠(NaOH)、碳酸氢钠/碳酸钠(NaHCO3/Na2CO3)、氢氧化钾(KOH)。如专利技术公告第I264618号“显影液再生装置”(以下简称前案)，其主要是由一第一供给机构将显影废液供给一错流(CrossFlow)式第一模分离机构(如纳米过滤器)，该第一模分离机构对感光性有机数脂用碱系显影废液进行膜分离，并由一第二供给机构将第一透过液供给一第二模分离机构(如纳米过滤器)进行膜分离，将该第一模分离机构的膜分离结果通过一第一回流机构回流至该第一供给机构的显影废液中，并通过至少一光刻胶浓度测定机构侧对通过该第一回流机构所回流前的非透过液或回流后的显影废液的光刻胶浓度进行测定，依据该光刻胶浓度测定机构的测定结果，将非透过液或显影废液通过一废弃机构加以废弃。虽然前案的显影液再生装置，是将一碱系显影液的碱浓度及一光刻胶浓度自动控制在既定的浓度，并且设置有多个纳米过滤器加强过滤效果，通过保持显影性能、又可降低换液成本，但是随着科技日新月异，作为显示正/负型光刻胶或颜料光刻胶用的显影液，如氢氧化四甲基胺(TMAH)、氢氧化钠(NaOH)、碳酸氢钠/碳酸钠(NaHCO3/Na2CO3)、KOH氢氧化钾等显影液，其光刻胶粒子偏大，经常造成设置在显影液再生设备或前案的显影液再生装置里的纳米过滤器阻塞，使得耐用度降低、更换机构的成本提高，因此如何因应未来不同类型的显影液的光刻胶粒子过大，使得显影液再生设备品质不佳、经常更换等问题，就业者而言，确实有待进一步提出更佳解决方案的必要性。
技术实现思路
有鉴于上述现有技术的不足，本专利技术的主要目的是提供一种显影液再生系统及其正负型光刻胶分离装置，利用将正/负型光刻胶进行分离的前处理技术，预先将显影废液中过大的光刻胶粒子过滤、分离，进而提升系统耐用性、碱度、显影液再生品质。为达成上述目的所采取的主要技术手段是令前述显影液再生系统的正负型光刻胶分离装置包括：一第一存储槽，供存放一含光刻胶显影废液；一第一送液组，与该第一存储槽连接，并用以调整该含光刻胶显影废液的流量；一第一压力/流量感应器，设在该第一送液组上，感测该含光刻胶显影废液于该第一送液组的压力与流量，作为调节流量的参考；一超过滤膜，与该第一送液组连接，并供流入该含光刻胶显影废液，该含光刻胶显影废液通过该超过滤膜使得正/负型光刻胶被分离，以产生一高光刻胶废液及一清澈显影液；一排放量/时间比例控制组，与该超过滤膜连接，供流入该高光刻胶废液，并进行排放比例调节以排出一含高浓度光刻胶废液。根据上述构造，该第一存储槽中收集该含光刻胶显影废液，并由该第一送液组使显影废液流入该超过滤膜，以将面板、半导体、封测等基板制作所用的正负型光刻胶，或者颜料光刻胶用TMAH、NaOH、NaHCO3/Na2CO3、KOH等显影液进行分离、过滤处理，由该超过滤膜将分离、过滤分离后的该清澈显影液回收至一显影液再生设备，由该显影液再生设备进行显影液的回收再利用；另外，该超过滤膜又将一高光刻胶废液通过该排放量/时间比例控制组进行调节，以将该含高浓度光刻胶废液排出；通过预先分离该显影废液中过大的光刻胶粒子，以达到提升系统耐用性、碱度、显影液再生品质的目的。附图说明图1是本专利技术的一较佳实施例的系统架构方块图。图2是本专利技术的又一较佳实施例的系统元件配置示意图。图3是本专利技术的另一较佳实施例的又一系统元件配置示意图。图4是本专利技术的较佳实施例的显影液再生设备的系统元件配置示意图。具体实施方式关于本专利技术提出一显影液再生系统的一较佳实施例，请参考图1所示，其主要是由一正负型光刻胶分离装置10通过送液管线连接一显影液再生设备20所组成，该正负型光刻胶分离装置10包括一第一存储槽11、一第一送液组、一第一压力/流量感应器13、一超过滤膜(UltraFiltration,UF)14以及一排放量/时间比例控制组，该第一存储槽11供存放一含光刻胶显影废液，该第一送液组连接该第一存储槽11，并用以调整该含光刻胶显影废液的流量，该第一压力/流量感应器13安装设置在该第一送液组上，用以感测该含光刻胶显影废液于该第一送液组的压力与流量，并且作为调节流量的参考，该超过滤膜14具有一输入端、一第一输出端及一第二输出端，该超过滤膜14的输入端连接该第一送液组，并供流入该含光刻胶显影废液，令该含光刻胶显影废液通过该超过滤膜时使得正/负型光刻胶被分离，以产生一高光刻胶废液及一清澈显影液。该清澈显影液通过该超过滤膜14的第一输出端流入一显影液再生设备20进行再生处理，通过该第一送液组使显影废液流入该超过滤膜14，以将面板、半导体、封测等基板制作所用的正负型光刻胶，或者颜料光刻胶用TMAH、NaOH、NaHCO3/Na2CO3、KOH等显影液进行分离、过滤处理，由该超过滤膜14将分离、过滤分离后的该清澈显影液回收至该显影液再生设备20，由该显影液再生设备20进行显影液的回收再利用；另外，该高光刻胶废液可通过该超过滤膜14的第二输出端流入该排放量/时间比例控制组，当该高光刻胶废液流入该排放量/时间比例控制组，该排放量/时间比例控制组进行排放比例调节以排出一含高浓度光刻胶废液；以预先分离该显影废液中过大的光刻胶粒子的技术，提升系统耐用性、碱度、显影液再生品质。如图1所示，于本较佳实施例中，该第一送液组包括一第一阀121、一第一泵122以及一第二阀123；其中，该第一阀121与该第一泵122设置于该第一存储槽11与该第一压力/流量感应器13之间的送液管线上，且该第一泵122与该第一压力/流量感应器13连接、该第一阀121分别与该第一存储槽11及该第一泵122连接，用以调节该含光刻胶显影废液的流量；该第二阀123具有一输入端及一输出端，该第二阀123的输入端连接于该超过滤膜14的第二输出端，该第二阀123的输出端连接于该第一存储槽11与该第一阀121之间的送液管线上，藉此让该高光刻胶废液回流，并再次流入该超过滤膜14进行分离、过滤处理。进一步的，于本较佳实施例中，该排放量/时间比例控制组包括一第二压力/流量感应器151、一废液排放调节阀152以及一流量感应器153，该第二压力/流量感应器151连接该超过滤膜14的第二输出端，该废液排放调节阀152分别与该第二压力/流量感应器151、该流量感应器153连接，该废液排放调节阀152用以调节该含光刻胶显影废液的排放量/时间比例，并用以提高显影液回收率，因此当该高光刻胶废液依序流经该第二压力/流量感应器151、该废液排放调节阀152、该流量感应器153，并经该废液排放调节阀152进行排放比例调节以排出该含高浓度光刻胶废液。关本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显影液再生系统的正负型光刻胶分离装置，其特征在于，包括：/n一第一存储槽，供存放一含光刻胶显影废液；/n一第一送液组，与该第一存储槽连接，并用以调整该含光刻胶显影废液的流量；/n一第一压力/流量感应器，设在该第一送液组上，感测该含光刻胶显影废液于该第一送液组的压力与流量，作为调节流量的参考；/n一超过滤膜，与该第一送液组连接，并供流入该含光刻胶显影废液，该含光刻胶显影废液通过该超过滤膜使得正/负型光刻胶被分离，以产生一高光刻胶废液及一清澈显影液；/n一排放量/时间比例控制组，与该超过滤膜连接，供流入该高光刻胶废液，并进行排放比例调节以排出一含高浓度光刻胶废液。/n

【技术特征摘要】
1.一种显影液再生系统的正负型光刻胶分离装置，其特征在于，包括：
一第一存储槽，供存放一含光刻胶显影废液；
一第一送液组，与该第一存储槽连接，并用以调整该含光刻胶显影废液的流量；
一第一压力/流量感应器，设在该第一送液组上，感测该含光刻胶显影废液于该第一送液组的压力与流量，作为调节流量的参考；
一超过滤膜，与该第一送液组连接，并供流入该含光刻胶显影废液，该含光刻胶显影废液通过该超过滤膜使得正/负型光刻胶被分离，以产生一高光刻胶废液及一清澈显影液；
一排放量/时间比例控制组，与该超过滤膜连接，供流入该高光刻胶废液，并进行排放比例调节以排出一含高浓度光刻胶废液。


2.如权利要求1所述的显影液再生系统的正负型光刻胶分离装置，其特征在于，该第一送液组包括一第一阀、一第一泵，该第一阀与该第一泵设于该第一存储槽与该第一压力/流量感应器之间调节流量。


3.如权利要求2所述的显影液再生系统的正负型光刻胶分离装置，其特征在于，该第一送液组更包括一第二阀，该第二阀连接该超过滤膜、该第一存储槽与该第一阀之间，让该高光刻胶废液再次流入该超过滤膜。


4.如权利要求1所述的显影液再生系统的正负型光刻胶分离装置，其特征在于，该排放量/时间比例控制组包括一第二压力/流量感应器、一废液排放调节阀以及一流量感应器，该第二压力/流量感应器连接该超过滤膜，该废液排放调节阀分别与该第二压力/流量感应器、该流量感应器连接，调节该含光刻胶显影废液的排放量/时间比例。


5.如权利要求1所述的显影液再生系统的正负型光刻胶分离装置，其特征在于，进一步包括一温度感应器以及一第一热交换器，该温度感应器设于该第一送液组与该超过滤膜之间，感测该第一送液组的循环热能/功率；该第一热交换器设在该超过滤膜与该第一送液组之间，该第一热交换器根据该温度感应器感测到的热能/功率超过一门槛值而进行...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈俊吉，余彦明，西村保二，
申请(专利权)人：陈俊吉，余彦明，西村保二，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71