清洗装置及涂胶显影系统制造方法及图纸

技术编号:23072169 阅读:21 留言:0更新日期:2020-01-10 22:08
本公开提出一种清洗装置及涂胶显影系统。清洗装置包括供液系统、清洗系统以及控制系统。供液系统包括清洗液源及供液管路。清洗液源被配置为储存清洗液。供液管路连通于清洗液源,供液管路上设有供液阀。清洗系统包括清洗罐、清洗液喷口及输液管路。清洗罐通过供液管路连通于清洗液源,清洗罐设有第一排液阀。清洗液喷口设于涂胶显影机的清洗腔室。输液管路连通于清洗液喷口与清洗罐之间,输液管路上设有输液泵。控制系统被配置为控制供液阀、输液泵、第一排液阀和第二排液阀。通过上述设计,本公开提出的清洗装置能够实现清洗药液的自动供给和各阀件的自动切换,降低清洗装置的安全隐患和工艺不良隐患。

Cleaning device and gluing developing system

【技术实现步骤摘要】
清洗装置及涂胶显影系统
本公开涉及显示面板制造领域,尤其涉及一种清洗装置及涂胶显影系统。
技术介绍
在例如薄膜晶体管液晶显示器(Thinfilmtransistorliquidcrystaldisplay,TFT-LCD)的显示面板制造过程中,利用涂胶显影机(Track)的涂胶显影工艺用于实现光刻胶(photoresist,PR胶)涂布和曝光后的显影,光刻胶涂布前和显影后均配有清洗机构,膜层带来的微粒(Particle)和显影后光刻胶会对清洗机构造成污染,长期污染聚集易对产品造成产线断路(Open)和絮状残留(Remain)等工艺不良,定期对清洗机构进行清洗能够有效改善这些工艺不良的发生。目前,对涂胶显影机进行清洗的过程中,清洗液通常使用TMAH(Tetramethylammoniumhydroxide,四甲基氢氧化铵)药液,需要生技人员事先通过拆卸显影液循环系统(DCS)的管路以便接取TMAH药液,之后再打开清洗机构盖板(Cover)将药液倒入设备内,手动切换阀门并清洗(例如喷雾清洗,SprayFlushing)2小时以上。清洗完成后置换清洗罐(Tank)并恢复阀门。上述现有清洗机构在操作过程中采用纯手动作业,存在极大缺陷。TMAH药液为强碱性剧毒化学品安全隐患,手动接取倾倒易与人体接触而产生巨大伤害。接取TMAH药液时需拆卸显影液循环系统的管路,反复拆卸易造成化学品泄露甚至宕机。再者,对阀门采用手动切换的控制精确度极低,容易造成宕机甚至工艺不良。另外,在清洗过程中,TMAH药液重复使用易造成管路堵塞和横线均匀度(Mura)等不良。
技术实现思路
本公开的一个主要目的在于克服上述现有技术的至少一种缺陷,提供一种实现清洗药液自动供给、自动清洗且避免清洗药液重复使用的清洗装置。本公开的另一个主要目的在于克服上述现有技术的至少一种缺陷,提供一种具有本公开提出的清洗装置的涂胶显影系统。为实现上述目的,本公开采用如下技术方案:根据本公开的一个方面,提供一种清洗装置,被配置为清洗涂胶显影机的清洗腔室。其中,所述清洗装置包括供液系统、清洗系统以及控制系统。所述供液系统包括清洗液源及供液管路。所述清洗液源被配置为储存清洗液。所述供液管路连通于所述清洗液源,所述供液管路上设有供液阀。所述清洗系统包括清洗罐、清洗液喷口及输液管路。所述清洗罐通过所述供液管路连通于所述清洗液源,所述清洗罐设有第一排液阀。所述清洗液喷口设于所述清洗腔室。所述输液管路连通于所述清洗液喷口与所述清洗罐之间,所述输液管路上设有输液泵。所述控制系统被配置为控制所述供液阀、所述输液泵、所述第一排液阀和所述第二排液阀。根据本公开的其中一个实施方式,所述供液系统包括多个所述清洗液源和多根所述供液管路,多个所述清洗液源分别被配置为储存多种清洗液,多根所述供液管路分别连通于多个所述清洗液源与所述清洗罐之间,每根所述供液管路上均设有所述供液阀。其中,所述控制系统被配置为通过控制多个所述供液阀而调节多种清洗液的配比。根据本公开的其中一个实施方式,每根所述供液管路上均设有流量计,多个所述流量计分别电连接于所述控制系统,所述流量计被配置为测量其所在的所述供液管路的流量信息。其中,所述控制系统被配置为根据多个所述流量计采集的流量信息控制多个所述供液阀。根据本公开的其中一个实施方式,多个所述清洗液源至少包括第一液源和第二液源。其中,所述第一液源被配置为储存TMAH药液,所述第二液源被配置为储存去离子水。根据本公开的其中一个实施方式,所述清洗罐内设有液位传感器,所述液位传感器电连接于所述控制系统,所述液位传感器被配置为测量所述清洗罐内的液位信息。其中,所述控制系统被配置为根据液位信息控制所述供液阀、所述第一排液阀和所述输液泵。根据本公开的其中一个实施方式,所述涂胶显影机包括多个所述清洗腔室。其中,所述清洗系统包括多根所述输液管路,每个所述清洗腔室均设有所述清洗液喷口和所述第二排液阀,多根所述输液管路分别连通于多个所述清洗腔室的所述清洗液喷口与所述清洗罐之间,每根所述输液管路上均设有所述输液泵。其中,所述控制系统被配置为控制多个所述输液泵和多个所述第二排液阀。根据本公开的其中一个实施方式,所述清洗罐具有多个罐腔,每个所述罐腔均设有第一排液阀,多根所述输液管路分别连通于多个所述罐腔与多个所述清洗腔室的所述清洗液喷口之间。其中,所述控制系统被配置为控制多个所述第一排液阀。根据本公开的其中一个实施方式,所述输液管路上设有过滤器,所述过滤器被配置为过滤流经所述输液管路的清洗液。根据本公开的其中一个实施方式,每根所述输液管路上分别设有多个所述过滤器,设于同一根所述输液管路上的多个所述过滤器相互并联。根据本公开的另一个方面,提供一种涂胶显影系统,包括涂胶显影机和清洗机构。其中,所述清洗机构为本公开提出的并在上述实施方式中所述的清洗装置。由上述技术方案可知,本公开提出的清洗装置及涂胶显影系统的优点和积极效果在于:本公开提出的清洗装置包括供液系统、清洗系统以及控制系统。供液系统包括清洗液源及供液管路。供液管路连通于清洗液源并设有供液阀。清洗系统包括清洗罐、清洗腔室及输液管路。清洗罐通过供液管路连通于清洗液源并设有第一排液阀。清洗腔室设有清洗液喷口和第二排液阀。输液管路连通于清洗腔室与清洗罐之间并设有输液泵。控制系统能够控制供液阀、输液泵、第一排液阀和第二排液阀。通过上述设计,本公开提出的清洗装置能够实现清洗药液的自动供给和各阀件的自动切换,降低清洗装置的安全隐患和工艺不良隐患。附图说明通过结合附图考虑以下对本公开的优选实施方式的详细说明,本公开的各种目标、特征和优点将变得更加显而易见。附图仅为本公开的示范性图解,并非一定是按比例绘制。在附图中,同样的附图标记始终表示相同或类似的部件。其中:图1是根据一示例性实施方式示出的一种清洗装置的系统示意图。附图标记说明如下:100.供液系统;111.第一液源;112.第二液源;121.第一供液管路;1211.第一供液阀;1212.第一流量计;122.第二供液管路;1221.第二供液阀;1222.第二流量计;200.清洗系统;210.清洗罐;2101.第一罐腔;2102.第二罐腔;211.第一排液阀;212.液位传感器;220.清洗液喷口;231.第一输液管路;2311.第一输液泵;2312.第一过滤器;232.第二输液管路;2321.第二输液泵;2322.第二过滤器;320.清洗腔室;3201.第一腔室;3202.第二腔室;321.第二排液阀。具体实施方式体现本公开特征与优点的典型实施例将在以下的说明中详细叙述。应理解的是本公开能够在不同的实施例上具有各种的变化,其皆不脱离本公开的范围本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种清洗装置,被配置为清洗涂胶显影机的清洗腔室,其特征在于,所述清洗装置包括:/n供液系统,包括:/n清洗液源,被配置为储存清洗液;及/n供液管路,连通于所述清洗液源,所述供液管路上设有供液阀;/n清洗系统,包括:/n清洗罐,通过所述供液管路连通于所述清洗液源,所述清洗罐设有第一排液阀;/n清洗液喷口,设于所述清洗腔室;及/n输液管路,连通于所述清洗液喷口与所述清洗罐之间,所述输液管路上设有输液泵;以及/n控制系统,被配置为控制所述供液阀、所述输液泵、所述第一排液阀和所述第二排液阀。/n

【技术特征摘要】
1.一种清洗装置,被配置为清洗涂胶显影机的清洗腔室,其特征在于,所述清洗装置包括:
供液系统,包括:
清洗液源,被配置为储存清洗液;及
供液管路,连通于所述清洗液源,所述供液管路上设有供液阀;
清洗系统,包括:
清洗罐,通过所述供液管路连通于所述清洗液源,所述清洗罐设有第一排液阀;
清洗液喷口,设于所述清洗腔室;及
输液管路,连通于所述清洗液喷口与所述清洗罐之间,所述输液管路上设有输液泵;以及
控制系统,被配置为控制所述供液阀、所述输液泵、所述第一排液阀和所述第二排液阀。


2.根据权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,所述供液系统包括多个所述清洗液源和多根所述供液管路,多个所述清洗液源分别被配置为储存多种清洗液,多根所述供液管路分别连通于多个所述清洗液源与所述清洗罐之间,每根所述供液管路上均设有所述供液阀;其中,所述控制系统被配置为通过控制多个所述供液阀而调节多种清洗液的配比。


3.根据权利要求2所述的清洗装置,其特征在于,每根所述供液管路上均设有流量计,多个所述流量计分别电连接于所述控制系统,所述流量计被配置为测量其所在的所述供液管路的流量信息;其中,所述控制系统被配置为根据多个所述流量计采集的流量信息控制多个所述供液阀。


4.根据权利要求2所述的清洗装置,其特征在于,多个所述清洗液源至少包括第一液源和第二液源;其中,所述第一液源被配置为储存TMAH药液,所述第二液源被配置为储存去离子水...

【专利技术属性】
技术研发人员:卢超张心杰陈浩琪褚世骄汪磊
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司武汉京东方光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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