【技术实现步骤摘要】
一种用于光学元件的新型真空吸盘
本技术涉及光电
，具体而言，涉及一种用于光学元件的新型真空吸盘。
技术介绍
现有上盘方法多为使用蜡作为粘接剂进行上盘，上盘工序复杂，耗时长，速度慢，还受到气候影响，成本较高，且效率较低。由于要使用电炉以及电热板等高功率的电器，还存在一定的危险性。有鉴于此，特提出本申请。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种用于光学元件的新型真空吸盘，其结构简单，操作方便，大大提高了上盘效率，使用成本低廉，安全可靠。同时其使用灵活性高，能够满足不同的使用需求。本技术的实施例是这样实现的：一种用于光学元件的新型真空吸盘，其包括：盘体、真空管和真空吸嘴，真空吸嘴沿盘体的表面分布并与真空管连通。真空吸嘴包括基体、盖体和环形箍。基体固定连接于盘体，基体具有多个与真空管连通的真空吸孔。盖体开设有多个用于同真空吸孔相匹配的真空通孔。盖体由环形箍可转动地连接于基体，盖体具有第一转动位置和第二转动位置。盖体位于第一转动位置时，真空通孔同真空吸孔连通。盖体位于第二转动位置时，盖体将
【技术保护点】
1.一种用于光学元件的新型真空吸盘，其特征在于，包括：盘体、真空管和真空吸嘴，所述真空吸嘴沿所述盘体的表面分布并与所述真空管连通；所述真空吸嘴包括基体、盖体和环形箍；所述基体固定连接于所述盘体，所述基体具有多个与所述真空管连通的真空吸孔；所述盖体开设有多个用于同所述真空吸孔相匹配的真空通孔；所述盖体由所述环形箍可转动地连接于所述基体，所述盖体具有第一转动位置和第二转动位置；所述盖体位于所述第一转动位置时，所述真空通孔同所述真空吸孔连通；所述盖体位于所述第二转动位置时，所述盖体将所述真空吸孔封闭。/n
【技术特征摘要】
1.一种用于光学元件的新型真空吸盘，其特征在于，包括：盘体、真空管和真空吸嘴，所述真空吸嘴沿所述盘体的表面分布并与所述真空管连通；所述真空吸嘴包括基体、盖体和环形箍；所述基体固定连接于所述盘体，所述基体具有多个与所述真空管连通的真空吸孔；所述盖体开设有多个用于同所述真空吸孔相匹配的真空通孔；所述盖体由所述环形箍可转动地连接于所述基体，所述盖体具有第一转动位置和第二转动位置；所述盖体位于所述第一转动位置时，所述真空通孔同所述真空吸孔连通；所述盖体位于所述第二转动位置时，所述盖体将所述真空吸孔封闭。
2.根据权利要求1所述的新型真空吸盘，其特征在于，所述环形箍包括呈半环状的第一箍体和第二箍体；所述第一箍体的端部具有第一耳部，所述第一耳部开设有螺孔；所述第二箍体的端部具有第二耳部，所述第二耳部开设有用于同所述螺孔相配合的配合通孔。
3.根据权利要求2所述的新型真空吸盘，其特征在于，所述盖体的环形外壁具有沿其周向延伸的第一环形槽，所述基体的环形外壁具有沿其周向延伸的第二环形槽；所述第一箍体和所述第二箍体二者均具有用于同所述第一环形槽相配合的第一凸棱、以及用于同所述第二环形槽相配合的第二凸棱；其中，所述第一环形槽和所述第二环形槽二者的槽腔的横截面均呈半圆状，所述第一凸棱和所述第二凸棱二者的横截面也均呈半圆状。
4.根据权利要求1所述的新型真空吸盘，其特征在于，所述盖体的靠近所述基体的一侧具有呈圆锥状的凸起部，所述凸起部同所述盖体同轴设置；所述基体开设有用于同所述凸起部相配合的凹陷部，所述凹陷部也呈圆锥状，所述凹陷部略大于所述凸起部，所述凹...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈兴建，顾元元，
申请(专利权)人：成都贝瑞光电科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：四川;51
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