可异地加工低辐射节能均质玻璃制造技术

本实用新型专利技术属于低辐射玻璃技术领域，尤其涉及一种可异地加工低辐射节能均质玻璃，其包括玻璃基板和低辐射膜，低辐射膜包括依序叠层设置的第一介质层、第一阻挡层、银层、第二阻挡层、第二介质层和保护层，第一介质层覆盖于玻璃基板的表面并与玻璃基板连接。本实用新型专利技术实施例提供的可异地加工低辐射节能均质玻璃，通过优化低辐射膜的膜层设计，减少银层设置的同时，并在第二介质层上设置保护层，使低辐射膜的强度得以增加，可长途运输，保存期可达3～12个月，钢化后可进行均质处理，实现可异地钢化并均质，加工过程中的划伤报废能大幅度降低，且均质后的膜层不易脱落，大大地降低了玻璃自爆的风险，减少了后期的跟换费用，有效提高产品的品质。

【技术实现步骤摘要】
可异地加工低辐射节能均质玻璃
本技术属于低辐射玻璃
，尤其涉及一种可异地加工低辐射节能均质玻璃。
技术介绍
现有的低辐射玻璃不能够长途运输，不能够长时间存储，加工流速要快，钢化后的玻璃存在3‰的自爆风险，均质工序可以大大降低自爆率。但由于均质时间过长(≥15小时以上)，会导致镀膜膜层较软弱，存放在非密封环境下易造成低辐射玻璃的涂层脱落。为了避免玻璃安装后自爆，减少更换成本，越来越多的客户对可异地加工的低辐射镀膜节能均质玻璃要求越来越高。目前各大型深加工厂的生产流程是先钢化、均质，再镀膜，无法实现异地加工。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种可异地加工低辐射节能均质玻璃，旨在解决现有技术中的低辐射节能均质玻璃无法实现异地加工的技术问题。为实现上述目的，本技术实施例提供的一种可异地加工低辐射节能均质玻璃，包括：玻璃基板；低辐射膜，所述低辐射膜包括依序叠层设置的第一介质层、第一阻挡层、银层、第二阻挡层、第二介质层和保护层，所述第一介质层覆盖于所述玻璃基板的表面并与所述玻璃基板连接。可选地，所述银层的厚度为8nm～15nm。可选地，所述保护层为石墨层。可选地，所述保护层的厚度为2nm～5nm。可选地，所述第一介质层和第二介质层为硅的氮化物层。可选地，所述第一介质层的厚度为2nm～5nm。可选地，所述第二介质层的厚度为40nm～70nm。可选地，所述第一阻挡层和所述第二阻挡层均为镍铬层。可选地，所述第一阻挡层的厚度为2nm～5nm。可选地，所述第二阻挡层的厚度为3nm～5nm。本技术实施例提供的可异地加工低辐射节能均质玻璃中的上述一个或多个技术方案至少具有如下技术效果之一：本技术实施例提供的可异地加工低辐射节能均质玻璃，通过优化低辐射膜的膜层设计，减少银层设置的同时，并在第二介质层上设置保护层，使低辐射膜的强度得以增加，可长途运输，保存期可达3～12个月，钢化后可进行均质处理，实现可异地钢化并均质，加工过程中的划伤报废能大幅度降低，且均质后的膜层不易脱落，大大地降低了玻璃自爆的风险，减少了后期的跟换费用，有效提高产品的品质。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术实施例提供的可异地加工低辐射节能均质玻璃的剖切视图。其中，图中各附图标记：10—玻璃基板20—低辐射膜21—第一介质层22—第一阻挡层23—银层24—第二阻挡层25—第二介质层26—保护层。具体实施方式下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本技术的实施例，而不能理解为对本技术的限制。在本技术实施例的描述中，需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术实施例和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术实施例的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。在本技术实施例中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术实施例中的具体含义。在本技术的一个实施例中，如图1所示，提供一种可异地加工低辐射节能均质玻璃，包括玻璃基板10和低辐射膜20。所述低辐射膜20包括依序叠层设置的第一介质层21、第一阻挡层22、银层23、第二阻挡层24、第二介质层25和保护层26，所述第一介质层21覆盖于所述玻璃基板10的表面并与所述玻璃基板10连接。本技术实施例提供的可异地加工低辐射节能均质玻璃，通过优化低辐射膜20的膜层设计，减少银层23设置的同时，并在第二介质层25上设置保护层26，使低辐射膜20的强度得以增加，可长途运输，保存期可达3～12个月，钢化后可进行均质处理，实现可异地钢化并均质，加工过程中的划伤报废能大幅度降低，且均质后的膜层不易脱落，大大地降低了玻璃自爆的风险，减少了后期的跟换费用，有效提高产品的品质。在本技术的另一个实施例中，提供的该可异地加工低辐射节能均质玻璃的所述银层23的厚度为8nm～15nm。本实施例中，可以将银层23的厚度涉及为8nm、9nm、10nm、11nm、12nm、13nm、14nm或者15nm。在该数值范围内的银层23后可以有效减少玻璃进行异地钢化均质后的膜层脱落问题。在本技术的另一个实施例中，提供的该可异地加工低辐射节能均质玻璃的所述保护层26为石墨层。具体地，使用石墨层作为保护层26使用可以使膜层强度增加，实现可异地钢化并均质。在本技术的另一个实施例中，提供的该可异地加工低辐射节能均质玻璃的所述保护层26的厚度为2nm～5nm。具体地，保护层26的厚度可以为2nm、3nm、4nm或者5nm。这样，保护层26的厚度既不会太厚而影响低辐射膜20的质量，也不会因为太薄而影响对后续的异地钢化均质效果。在本技术的另一个实施例中，提供的该可异地加工低辐射节能均质玻璃的所述第一介质层21和第二介质层25为硅的氮化物层。具体地，硅的氮化物层例如是Si3N4，通过该种结构设置，使得第一介质层21和第二介质层25能够减少反射，同时起到连接层与层作用。并且还可以使得低辐射膜20与玻璃基板10粘结性能好，且能够缓解低辐射膜20的内部应力。在本技术的另一个实施例中，提供的该可异地加工低辐射节能均质玻璃的所述第一介质层21的厚度为2nm～5nm。具体地，第一介质层21的厚度可以为2nm、3nm、4nm或者5nm。在本技术的另一个实施例中，提供的该可异地加工低辐射节能均质玻璃的所述第二介质层25的厚度为40nm～70nm。具体地，第二介质层25的厚度可以为40nm、45nm、50nm、55nm、60nm、本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种可异地加工低辐射节能均质玻璃，其特征在于，包括：/n玻璃基板；/n低辐射膜，所述低辐射膜包括依序叠层设置的第一介质层、第一阻挡层、银层、第二阻挡层、第二介质层和保护层，所述第一介质层覆盖于所述玻璃基板的表面并与所述玻璃基板连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种可异地加工低辐射节能均质玻璃，其特征在于，包括：
玻璃基板；
低辐射膜，所述低辐射膜包括依序叠层设置的第一介质层、第一阻挡层、银层、第二阻挡层、第二介质层和保护层，所述第一介质层覆盖于所述玻璃基板的表面并与所述玻璃基板连接。


2.根据权利要求1所述的可异地加工低辐射节能均质玻璃，其特征在于，所述银层的厚度为8nm～15nm。


3.根据权利要求1所述的可异地加工低辐射节能均质玻璃，其特征在于，所述保护层为石墨层。


4.根据权利要求1所述的可异地加工低辐射节能均质玻璃，其特征在于，所述保护层的厚度为2nm～5nm。


5.根据权利要求1～4任一项所述的可异地加工低辐射节能均质玻璃，其特征在于，所述第一介质层和第二...

【专利技术属性】
技术研发人员：董清世，卢业明，李明军，任金辉，贺一波，阳伟，
申请(专利权)人：信义玻璃工程东莞有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44