基板旋转装置、基板旋转方法、光刻装置以及物品制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供基板旋转装置、基板旋转方法、光刻装置以及物品制造方法，抑制基板台大型化且在生产能力方面有利。具备：基板台，该基板台在保持面上保持基板；吸引部，该吸引部吸引基板的上表面，对基板的上表面喷出气体，从而以使基板从基板台浮起的状态支撑基板；以及驱动机构，该驱动机构使由吸引部支撑的基板围绕与保持面正交的轴旋转。

Substrate rotating device, substrate rotating method, photolithography device and article manufacturing method

【技术实现步骤摘要】
基板旋转装置、基板旋转方法、光刻装置以及物品制造方法
本专利技术涉及基板旋转装置、基板旋转方法、光刻装置以及物品制造方法。
技术介绍
在作为制造半导体装置或液晶显示装置等物品的工序之一的光刻工序中，使用经由投影光学系统在基板上的曝光区域转印掩膜的图案的曝光装置。有时针对1个基板转印多种图案。相对于此，在日本特开2013-219068号公报中公开了通过设置在基板台上使基板旋转的机构而在曝光装置内使基板旋转的系统。但是，在基板台上使基板旋转的情况下，需要用于在基板台上使基板旋转的空间，故而会导致基板台大型化。另外，若基板台大型化，则使得基板台的驱动速度降低，从而会导致生产能力降低。
技术实现思路
于是，本专利技术的目的在于提供例如抑制基板台大型化且在生产能力方面有利的基板旋转装置。本专利技术的基板旋转装置，其特征在于，具备：基板台，该基板台在保持面上保持基板；吸引部，该吸引部吸引上述基板的上表面，对上述基板的上表面喷出气体，从而以使上述基板从上述基板台浮起的状态支撑上述基板；以及驱动机构，该驱动机构使由上述吸引部本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板旋转装置，其特征在于，具备：/n基板台，该基板台在保持面上保持基板；/n吸引部，该吸引部吸引上述基板的上表面，对上述基板的上表面喷出气体，从而以使上述基板从上述基板台浮起的状态支撑上述基板；以及/n驱动机构，该驱动机构使由上述吸引部支撑的上述基板围绕与上述保持面正交的轴旋转。/n

【技术特征摘要】
20180620 JP 2018-1166251.一种基板旋转装置，其特征在于，具备：
基板台，该基板台在保持面上保持基板；
吸引部，该吸引部吸引上述基板的上表面，对上述基板的上表面喷出气体，从而以使上述基板从上述基板台浮起的状态支撑上述基板；以及
驱动机构，该驱动机构使由上述吸引部支撑的上述基板围绕与上述保持面正交的轴旋转。


2.如权利要求1所述的基板旋转装置，其特征在于，
上述吸引部以与上述基板的上表面分离的状态进行支撑。


3.如权利要求1所述的基板旋转装置，其特征在于，
上述吸引部包括形成有用于吸引上述基板的微小孔的多孔质垫。


4.如权利要求3所述的基板旋转装置，其特征在于，
上述多孔质垫为与上述基板的大小相同的程度或者比上述基板的大小大。


5.如权利要求1所述的基板旋转装置，其特征在于，
上述基板台具备升降部，该升降部能够沿着与上述保持面正交的方向升降，用以使上述基板移动至可由上述吸引部吸引上述基板的位置。


6.如权利要求5所述的基板旋转装置，其特征在于，
上述升降部在与上述基板接触的面具备对上述基板进行吸附保持的第1吸附部。


7.如权利要求6所述的基板旋转装置，其特征在于，
上述第1吸附部在由上述吸引部对上述基板的吸引开始之后停止吸附。


8.如权利要求1所述的基板旋转装置，其特征在于，
上述驱动机...

【专利技术属性】
技术研发人员：茂木泰弘，小林威宣，三浦孝夫，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP