一种基板清洁装置制造方法及图纸

本发明专利技术的基板清洁装置包括传送基板、清洁系统及集尘系统，所述清洁系统包括位于所述传送带上方的清洁机架及位于清洁机架内的清洁喷头，该清洁喷头为旋转式喷头，使用时，该清洁喷头喷出高速的旋转静电气流，有效将基板表面的粉尘微粒扬起，然后集尘系统通过负压作用把带有粉尘微粒的气体排出清洁系统之外，整个清洁过程在封闭的清洁系统内进行，可以有效防止粉尘微粒漫散，对于通过静电强力吸附在基板表面的粉尘微粒也可以有效吹除而实现清洁效果，采用该基板清洁装置在任何操作工序前对基板进行清洁，可有效避免因微粒污染所导致的生产质量隐患，节省大量人力物力，并提高生产的质量和效率。

A base plate cleaning device

【技术实现步骤摘要】
一种基板清洁装置
本专利技术涉显示屏制造领域，尤其涉及一种基板清洁装置。
技术介绍
在显示
，液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)与有机发光二极管显示器(OrganicLightEmittingDiode，OLED)等平板显示器已经逐步取代CRT显示器，广泛的应用于液晶电视、手机、个人数字助理、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。显示面板是LCD、OLED显示装置的重要组成部分。不论是LCD的显示面板，还是OLED的显示面板，通常都具有上下两片玻璃基板。以LCD显示面板为例，其主要是由一TFT阵列基板、一彩色滤光片基板(ColorFilter，CF)、以及配置于两基板间的液晶层(LiquidCrystalLayer)所构成，其工作原理是通过在TFT阵列基板与CF基板上施加驱动电压来控制液晶层中液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。例如在TFT基板的生产过程中，从化学气相沉积(CVD)、微影(Photo)、蚀刻(Etch)至溅镀(Sputter)等制程多次重复循环，每一道制程步骤都存本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板清洁装置，其特征在于，包括用于传送基板(9)的传送带(1)、用于基板(9)进行清洁的清洁系统(2)以及用于对从基板(9)上清除下来的微粒进行收集的集尘系统(3)；/n所述清洁系统(2)包括位于所述传送带(1)上方的清洁机架(21)以及在所述传送带(1)上方位于所述清洁机架(21)内的清洁喷头(22)；/n所述集尘系统(3)包括在所述清洁机架(21)内罩设于清洁喷头(22)上方的集尘罩(31)、位于所述清洁机架(21)外侧的集尘站(32)以及将所述集尘罩(31)与集尘站(32)连通的吸尘管道(33)；/n所述清洁机架(21)在传送带(1)上方限定出清洁空间；/n所述清洁喷头(22)为...

【技术特征摘要】
1.一种基板清洁装置，其特征在于，包括用于传送基板(9)的传送带(1)、用于基板(9)进行清洁的清洁系统(2)以及用于对从基板(9)上清除下来的微粒进行收集的集尘系统(3)；
所述清洁系统(2)包括位于所述传送带(1)上方的清洁机架(21)以及在所述传送带(1)上方位于所述清洁机架(21)内的清洁喷头(22)；
所述集尘系统(3)包括在所述清洁机架(21)内罩设于清洁喷头(22)上方的集尘罩(31)、位于所述清洁机架(21)外侧的集尘站(32)以及将所述集尘罩(31)与集尘站(32)连通的吸尘管道(33)；
所述清洁机架(21)在传送带(1)上方限定出清洁空间；
所述清洁喷头(22)为旋转式喷头，该清洁喷头(22)喷出旋转的静电气流，用于将基板(9)表面的微粒吹起。


2.如权利要求1所述的基板清洁装置，其特征在于，使用时，所述清洁喷头(22)喷出脉冲性的旋转静电气流。


3.如权利要求1所述的基板清洁装置，其特征在于，所述清洁系统(2)还包括在所述清洁机架(21)内位于集尘罩(31)下方的滚筒刷(23)；
所述滚筒刷(23)与清洁喷头(22)按照基板(9)传送方向依次排列于传送带(1)上方。


4.如权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈建锋，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42