一种溅射靶材基座制造技术

本实用新型专利技术公开了一种溅射靶材基座，包括底座，还包括可滑动地支撑在底座上的滑动组件以及沿着所述滑动组件的滑动方向支撑在滑动组件的上表面上的第一安装座和第二安装座，所述第一安装座和第二安装座用以对镀膜时需要的靶材进行固定，通过所述滑动组件能够使第一安装座上的靶材和第二安装座上的靶材交替地从镀膜工位移入和移出。该靶材基座具有两个安装座，在使用其中一个靶材基座上的靶材进行镀膜室，能够对另一个安装座上的靶材进行更换，提高了生产效率。

A sputtering target base

The utility model discloses a sputtering target base, which includes a base, a sliding component which can be slidably supported on the base, a first mounting base and a second mounting base which are supported on the upper surface of the sliding component along the sliding direction of the sliding component. The first mounting base and the second mounting base are used to fix the target required for coating, and the sliding component is used to fix the target The device enables the target on the first mounting base and the target on the second mounting base to move in and out of the coating station alternately. The target base has two mounting bases, in which the target on one of the target bases is used for coating chamber, the target on the other mounting base can be replaced, and the production efficiency is improved.

【技术实现步骤摘要】
一种溅射靶材基座
本技术涉及真空镀膜领域，具体涉及一种溅射靶材基座。
技术介绍
在金属或金属工件的制备过程中，往往需要镀膜的工序，镀膜在日常生活中使用范围极广，目前，镀膜技术广泛应用于半导体工业及精密机械上，由于利用镀膜制程技术所生产的产品具有很高附加价值，使镀膜制程技术与薄膜材料被广泛应用于研究和实际，同时带来镀膜技术的迅速发展，通常，镀膜方法主要包括离子镀膜法、射频磁控溅镀、真空蒸发法、化学气相沉积法等，但在镀膜过程中，靶材慢慢的消耗变薄，当靶材消耗到一定程度时，便要手动操作将旧靶材换下，然后再将新靶材安装在靶座上，然而从将旧靶材移出工位并卸下到将新靶材安装并移入工位需要一定的时间，并且该时间较长，影响镀膜效率。
技术实现思路
针对现有技术的不足，本技术提供一种溅射靶材基座，该基座具有两个用以安装靶材的安装座，当其中一个安装座上的靶材在进行镀膜时，可以对另外一个安装座上的靶材进行拆卸与安装以实现靶材的更换，能够减小由于靶材更换对加工效率的影响。为达到上述目的，本技术提供如下技术方案：一种溅射靶材基座，包括底座，其特征在于，还包括可滑动地支撑在底座上的滑动组件以及沿着所述滑动组件的滑动方向支撑在滑动组件的上表面上的第一安装座和第二安装座，所述第一安装座和第二安装座用以对镀膜时需要的靶材进行固定，通过所述滑动组件能够使第一安装座上的靶材和第二安装座上的靶材交替地从镀膜工位移入和移出。优选地，在所述底座上且对应镀膜工位的位置处设置有倒U型支架，所述倒U型支架的两侧壁分别固定在底座的沿垂直于所述滑动方向的方向的两侧，在所述倒U型支架的顶部设置有圆柱形的镀膜室，所述第一安装座上的靶材和所述第二安装座上的靶材能够交替地移动到镀膜室的下方。优选地，所述滑动组件包括可滑动地支撑在底座上的箱体，所述第一安装座和第二安装座沿着所述滑动方向支撑在箱体的上表面，在箱体内的底部上和顶部上分别设置有第一齿条和第二齿条以及扇形齿轮，所述第一齿条和第二齿条沿着所述滑动方向延伸，所述扇形齿轮在旋转时能够依次与第一齿条和第二齿条啮合。优选地，所述扇形齿轮的齿在其旋转方向的覆盖范围的弧长等于第一安装座和第二安装座之间的距离，且所述覆盖范围不超过180°。优选地，第一齿条和第二齿条均为两条，第一齿条和第二齿条在上下方向上一一对齐，所述扇形齿轮也具有两个，并且第一齿条和第二齿条分别设置在沿着垂直于滑动方向的方向靠近箱体的两侧，两扇形齿轮分别与对应的第一齿条和第二齿条啮合。优选地，在所述倒U型支架的一侧壁上设置有驱动电机，两所述扇形齿轮均设置在驱动电机的输出轴上。优选地，第一安装座和第二安装座的结构相同，均包括设置在箱体的上表面上的基板、设置在基板的上表面上的安装板以及设置在安装板上的靶座，所述靶材安装在靶座上。优选地，所述基板可上下移动地安装在箱体的上表面上，在基板的四个角设置有导向孔，在箱体上对应每个导向孔的位置处设置有导向杆，所述导向杆穿过所述导向孔，所述导向杆穿过安装板，所述安装板跟随基板一起做上下移动。优选地，所述靶座固定在所述安装板上，所述靶座呈圆柱形结构，当靶座处在镀膜工位上时，所述靶座与镀膜室同轴，在靶座的上端设置有圆柱形的凹槽，所述凹槽与靶座同轴，所述靶材放置在凹槽内。优选地，所述凹槽在其侧壁上设置有与外界连通的开口，所述开口在圆周方向上的弧度至少为180°，在靶座的对应凹槽底部的位置处设置有环槽，所述环槽的直径大于凹槽的直径并且环槽与凹槽连通。与现有技术相比，本技术具有以下有益效果：1)该靶材基座具有两个用以放置靶材的安装座，当其中一个镀膜时，可以对另一个进行靶材的更换，能够有效地提高镀膜的效率；2)通过电机的单向转动能够控制滑动组件的往复运动，简化了控制，也避免齿轮的正反转而影响使用寿命；3)靶材的拆卸与安装采用从侧面开口插入的方式，不需要对相应的结构进行拆卸，非常方便，不管是采用人工还是自动进行靶材的更换都能够实现快速更换，特别是采用自动更换，便于实现整个镀膜过程的自动化。附图说明此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。在附图中：图1为本技术的立体图；图2为本技术的俯视图；图3为图2中沿A-A处的剖视图；图4为本实用滑动组件立体图；图5为安装座的爆炸图；图6为B处的放大图；图7为C处的放大图。具体实施方式以下将以图式揭露本技术的多个实施方式，为明确说明起见，许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，应了解到，这些实务上的细节不应用以限制本技术。也就是说，在本技术的部分实施方式中，这些实务上的细节是非必要的。此外，为简化图式起见，一些习知惯用的结构与组件在图式中将以简单的示意的方式绘示之。参照图1至图7所示的一种溅射靶材基座，包括底座1、可滑动地支撑在底座1上的滑动组件2以及沿着滑动方向支撑在滑动组件2的上表面上的第一安装座3和第二安装座4，所述第一安装座3和第二安装座4用以对镀膜时需要的靶材100进行固定，通过滑动组件2的滑动能够带动第一安装座3和第二安装座4上的靶材移入或者移出镀膜工位进而实现靶材的更换。在所述底座1上且对应镀膜工位的位置处设置有倒U型支架5，所述倒U型支架5的两侧壁分别固定在底座1的沿垂直于所述滑动方向的方向的两侧，在所述倒U型支架5的顶部设置有圆柱形的镀膜室19，所述第一安装座3和第二安装座4上的靶材从镀膜室19的下方伸入到镀膜室19中，靶材构成了溅射的阴极，阳极从镀膜室19的上端伸入。整个溅射的原理，包括阴极以及阳极的工作原理均采用现有技术。所述滑动组件2包括可滑动地支撑在底座1上的箱体6，所述第一安装座3和第二安装座4沿着所述滑动方向支撑在箱体6的上表面。进一步，所述滑动组件2还包括分别设置在箱体6内的底部上和顶部上的第一齿条12和第二齿条13以及扇形齿轮14，所述第一齿条12和第二齿条13沿着所述滑动方向延伸，所述扇形齿轮14在旋转时能够依次与第一齿条12和第二齿条13啮合，当扇形齿轮14与第一齿条12啮合时，扇形齿轮14能够带动箱体6向着第一滑动方向滑动，当扇形齿轮14与第二齿条13啮合时，扇形齿轮14能够带动箱体6向着与第一滑动方向相反的第二滑动方向滑动，而扇形齿轮14的旋转方向不变。所述扇形齿轮14设置成能够保证在与其中一个齿条啮合时不与另一齿条啮合，并且扇形齿轮14从与其中一个齿条啮合到与该一个齿条脱离啮合能够带动两安装座中的一个移出镀膜工位，另一个移入镀膜工位。具体地，扇形齿轮14的齿在圆周方向上的覆盖范围不能超过180°，以避免扇形齿轮14上的齿同时与第一齿条12和第二齿条13啮合，并且扇形齿轮14上的齿在圆周方向上的覆盖范围的弧长等于两安装座之间的距离，这样能够保证当扇形齿轮14与其中一个齿条从啮合到脱离啮合能够使两安装本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种溅射靶材基座，包括底座，其特征在于，还包括可滑动地支撑在底座上的滑动组件以及沿着所述滑动组件的滑动方向支撑在滑动组件的上表面上的第一安装座和第二安装座，所述第一安装座和第二安装座用以对镀膜时需要的靶材进行固定，通过所述滑动组件能够使第一安装座上的靶材和第二安装座上的靶材交替地从镀膜工位移入和移出。/n

【技术特征摘要】
1.一种溅射靶材基座，包括底座，其特征在于，还包括可滑动地支撑在底座上的滑动组件以及沿着所述滑动组件的滑动方向支撑在滑动组件的上表面上的第一安装座和第二安装座，所述第一安装座和第二安装座用以对镀膜时需要的靶材进行固定，通过所述滑动组件能够使第一安装座上的靶材和第二安装座上的靶材交替地从镀膜工位移入和移出。


2.根据权利要求1所述的一种溅射靶材基座，其特征在于，在所述底座上且对应镀膜工位的位置处设置有倒U型支架，所述倒U型支架的两侧壁分别固定在底座的沿垂直于所述滑动方向的方向的两侧，在所述倒U型支架的顶部设置有圆柱形的镀膜室，所述第一安装座上的靶材和所述第二安装座上的靶材能够交替地移动到镀膜室的下方。


3.根据权利要求2所述的一种溅射靶材基座，其特征在于，所述滑动组件包括可滑动地支撑在底座上的箱体，所述第一安装座和第二安装座沿着所述滑动方向支撑在箱体的上表面，在箱体内的底部上和顶部上分别设置有第一齿条和第二齿条以及扇形齿轮，所述第一齿条和第二齿条沿着所述滑动方向延伸，所述扇形齿轮在旋转时能够依次与第一齿条和第二齿条啮合。


4.根据权利要求3所述的一种溅射靶材基座，其特征在于，所述扇形齿轮的齿在其旋转方向的覆盖范围的弧长等于第一安装座和第二安装座之间的距离，且所述覆盖范围不超过180°。


5.根据权利要求3所述的一种溅射靶材基座，其特征在于，第一齿条和第二齿条均为两条，第一齿条和第二齿条在上下方向上一一...

【专利技术属性】
技术研发人员：付秋平，聂盛强，刘渊，罗军，严伟，
申请(专利权)人：贵阳学院，
类型：新型
国别省市：贵州;52