基板保持装置、基板研磨装置、弹性构件以及基板保持装置的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板保持装置、基板研磨装置、弹性构件以及基板保持装置的制造方法。基板保持装置具备：顶环主体；弹性膜，具有第一面和第二面，在第一面与顶环主体之间形成有多个区域，第二面位于与第一面相反的一侧且能保持基板；第一线路，与多个区域中的第一区域连通，能对第一区域进行加压；第二线路，与第一区域连通，能从第一区域排气；测定器，其测定值基于第一区域的流量而变化；第三线路，与第二区域连通且能对第二区域进行减压，第二区域是多个区域中的与第一区域不同的区域；弹性构件，在第一线路与第二线路之间被设置成，在弹性膜的第二面未保持基板时与弹性膜的第一面分离，在弹性膜的第二面保持有基板时与弹性膜的第一面接触。

Manufacturing method of base plate holding device, base plate grinding device, elastic member and base plate holding device

The invention provides a substrate holding device, a substrate grinding device, an elastic member and a manufacturing method of a substrate holding device. The base plate holding device comprises: a top ring main body; an elastic film, having a first side and a second side, forming a plurality of areas between the first side and the top ring main body, the second side being on the side opposite to the first side and being able to keep the base plate; a first line, being connected with the first area of the plurality of areas, being able to pressurize the first area; a second line, being connected with the first area, being able to move from the first area The third circuit is connected with the second region and can depressurize the second region. The second region is different from the first region in a plurality of regions. The elastic member is arranged between the first circuit and the second circuit, and is separated from the first surface of the elastic membrane when the second surface of the elastic membrane does not maintain the substrate When the second surface of the elastic film is kept with a substrate, the first surface of the elastic film is contacted.

【技术实现步骤摘要】
基板保持装置、基板研磨装置、弹性构件以及基板保持装置的制造方法相关申请的相互参照本申请基于2018年5月21日提交的日本特许申请JP2018-97314主张优先权，该日本特许申请的全部内容通过参照编入本说明书中。
本专利技术涉及一种基板保持装置、基板研磨装置、弹性构件以及基板保持装置的制造方法。
技术介绍
在基板研磨装置(例如，日本特许第3705670号)中，从基板输送装置向顶环(基板保持装置)交接基板，在顶环保持有基板的状态下进行基板的研磨。顶环成为如下构造：在顶环主体(底座)的下方设置有膜片，膜片的下表面吸附基板。在日本特许第3705670号公开有一种判定基板是否吸附到膜片的基板吸附判定方法。在该方法中，在膜片设置有朝上的凸部。并且，利用了如下手段：在基板未被吸附时，在顶环主体的下表面与膜片的凸部之间存在间隙，当基板被吸附时，基板将膜片向上方按压，从而膜片的凸部与顶环主体的下表面接触而间隙消失。然而，膜片的表面有时由于研磨浆液、顶环清洗而润湿。另外，基板自身也有时由于研磨处理而润湿。如此，在膜片、基板本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板保持装置，其特征在于，具备：/n顶环主体；/n弹性膜，该弹性膜具有第一面和第二面，在该第一面与所述顶环主体之间形成有多个区域，该第二面位于与所述第一面相反的一侧且能够保持基板；/n第一线路，该第一线路与所述多个区域中的第一区域连通，能够对所述第一区域进行加压；/n第二线路，该第二线路与所述第一区域连通，能够从所述第一区域排气；/n测定器，该测定器的测定值基于所述第一区域的流量而变化；/n第三线路，该第三线路与第二区域连通，且能够对所述第二区域进行减压，所述第二区域是所述多个区域中的与所述第一区域不同的区域；以及/n弹性构件，该弹性构件在所述第一线路与所述第二线路之间被设置成，在所述...

【技术特征摘要】
20180521 JP 2018-0973141.一种基板保持装置，其特征在于，具备：
顶环主体；
弹性膜，该弹性膜具有第一面和第二面，在该第一面与所述顶环主体之间形成有多个区域，该第二面位于与所述第一面相反的一侧且能够保持基板；
第一线路，该第一线路与所述多个区域中的第一区域连通，能够对所述第一区域进行加压；
第二线路，该第二线路与所述第一区域连通，能够从所述第一区域排气；
测定器，该测定器的测定值基于所述第一区域的流量而变化；
第三线路，该第三线路与第二区域连通，且能够对所述第二区域进行减压，所述第二区域是所述多个区域中的与所述第一区域不同的区域；以及
弹性构件，该弹性构件在所述第一线路与所述第二线路之间被设置成，在所述弹性膜的第二面未保持基板的情况下，该弹性构件与所述弹性膜的第一面分离，在所述弹性膜的第二面保持有基板的情况下，该弹性构件与所述弹性膜的第一面接触。


2.根据权利要求1所述的基板保持装置，其特征在于，
在所述弹性膜的第一面上，在与所述弹性构件相对的位置设置有凸部。


3.根据权利要求1所述的基板保持装置，其特征在于，
在所述弹性构件形成有所述第一线路侧开口的狭缝。


4.根据权利要求1所述的基板保持装置，其特征在于，
所述弹性构件具有：
第三面，该第三面与所述弹性膜大致平行，在所述弹性膜的第二面保持有基板的情况下，该第三面与所述弹性膜的第一面接触；
第四面，该第四面与所述弹性膜大致平行，与所述第一面分离而位于所述弹性膜的相反侧；以及
第五面，该第五面将所述第三面的所述第二线路侧和所述第四面的所述第二线路侧连接。


5.根据权利要求1所述的基板保持装置，其特征在于，
所述弹性构件是空心的。


6.根据权利要求1所述的基板保持装置，其特征在于，
所述弹性构件具有：
第三面，该第三面与所述弹性膜大致平行，在所述弹性膜的第二面保持有基板的情况下，该第三面与所述弹性膜的第一面的所述凸部接触；
第...

【专利技术属性】
技术研发人员：锅谷治，
申请(专利权)人：株式会社荏原制作所，
类型：发明
国别省市：日本;JP