双束下线缆辐照自屏蔽电子加速装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种双束下线缆辐照自屏蔽电子加速装置，包括电子加速器、屏蔽体、第一屏蔽门、第二屏蔽门，第一束下辊筒组件及第二束下辊筒组件，所述电子加速器的束流引出口穿过所述屏蔽体的第一屏蔽板进入第一屏蔽室，所述第一屏蔽门与所述第二屏蔽门设置于所述屏蔽体的第一屏蔽室的两侧，所述第一束下辊筒组件能够带动所述第一屏蔽门与第一屏蔽室关闭或打开，所述第二束下辊筒组件能够带动所述第二屏蔽门与所述第一屏蔽室关闭或打开。本实用新型专利技术双屏蔽门双束下辊筒，能有效屏蔽射线，并能够实现2种不同规格、不同剂量的线缆辐照。

Self shielding electron acceleration device irradiated by two downline cables

The utility model provides a double beam downline cable irradiation self shielding electron acceleration device, which comprises an electron accelerator, a shield body, a first shield door, a second shield door, a first beam lower roller assembly and a second beam lower roller assembly. The beam leading outlet of the electron accelerator passes through the first shield plate of the shield body to enter the first shield room, and the first shield door and the second shield The door is arranged on both sides of the first shielding chamber of the shielding body, the first lower roller assembly can drive the first shielding door and the first shielding chamber to close or open, and the second lower roller assembly can drive the second shielding door and the first shielding chamber to close or open. The double screen door double beam lower roller of the utility model can effectively shield the ray, and can realize two different specifications and different doses of cable irradiation.

【技术实现步骤摘要】
双束下线缆辐照自屏蔽电子加速装置
本技术有关一种电子加速装置，尤其是有关一种双束下线缆辐照自屏蔽电子加速装置。
技术介绍
电子加速器是一种使用人工方法使电子在真空中受磁场力控制、电场力加速而达到高能量的电磁装置，其被加速粒子是电子。其广泛应用于社会生活中的各个领域。电子加速器在对产品进行辐射加工时，产生的电子束的直接辐射当量是很大的，如果照射到人体身上会严重危害人体健康甚至生命。因此电子加速器的辐射加工必需具备屏蔽辐照过程中产品吸收后残留的射线，也即需要有屏蔽室。传统线缆辐照自屏蔽电子加速器均采用单束下单动力结构，在束下辊筒下方设置有安装机架固定在屏蔽室内部，动力系统设置在屏蔽室内部，存在动力系统受辐射及臭氧影响容易损坏，人员穿线操作困难、电子加速器检修空间小等问题。需要提供一种能够解决现有技术中的上述问题的双束下线缆辐照自屏蔽电子加速装置。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种双束下线缆辐照自屏蔽电子加速装置，解决现有技术中动力系统受辐射及臭氧影响容易损坏的问题。为完成上述技术目的，本技术提供一种双束下线缆辐照自屏蔽电子加速装置，包括电子加速器、屏蔽体、第一屏蔽门、第二屏蔽门，第一束下辊筒组件及第二束下辊筒组件，所述电子加速器的束流引出口穿过所述屏蔽体的第一屏蔽板进入第一屏蔽室，所述第一屏蔽门与所述第二屏蔽门设置于所述屏蔽体的第一屏蔽室的两侧，所述第一束下辊筒组件能够带动所述第一屏蔽门与第一屏蔽室关闭或打开，所述第二束下辊筒组件能够带动所述第二屏蔽门与所述第一屏蔽室关闭或打开。本技术还具有以下特征，所述屏蔽体为两层结构，所述电子加速器安装在第二屏蔽板上，所述电子加速器真空系统设置于第二屏蔽室内。本技术还具有以下特征，所述第一屏蔽室一侧设置有第三屏蔽室及进出线导轮。本技术还具有以下特征，所述第一束下辊筒组件为悬臂式结构，包括主动脚轮及从动脚轮，所述主动脚轮通过动力部分驱动。本技术还具有以下特征，所述主动脚轮与从动脚轮下设置有导轨。本技术还具有以下特征，所述动力部分设置于第一屏蔽门外。本技术还具有以下特征，所述第二束下辊筒组件为悬臂式结构，包括主动脚轮及从动脚轮，所述主动脚轮通过动力部分驱动。本技术还具有以下特征，所述主动脚轮与从动脚轮下设置有导轨。本技术还具有以下特征，所述动力部分设置于第二屏蔽门外。本技术还具有以下特征，所述第一束下辊筒组件及第二束下辊筒组件均采用4辊结构，采用下压穿线结构使用本技术采用双屏蔽门双束下辊筒，能有效屏蔽射线，并能够实现2种不同规格、不同剂量的线缆辐照。附图说明下面将参考附图对本技术的示例性实施例进行详细说明，应当理解，下面描述的实施例仅用于解释本技术，而不对本技术的范围作出限制，所附附图其中：图1是本技术的双束下线缆辐照自屏蔽电子加速装置一个实施例的主视图。图2是如图1所示双束下线缆辐照自屏蔽电子加速装置的一个实施例的俯视图。图3是本技术的双束下线缆辐照自屏蔽电子加速装置的一个实施例的穿线方式的示意图。具体实施方式在不同的附图中，相同或相似的部件用相同的附图标记表示。应当理解，附图仅用于对本技术进行说明，其中部件的尺寸、比例关系以及部件的数目均不作为对本技术的限制。请参阅图1及图2所示，一种双束下线缆辐照自屏蔽电子加速装置，包括电子加速器1、屏蔽体5、第一屏蔽门6、第二屏蔽门14，第一束下辊筒组件7及第二束下辊筒组件15。所述屏蔽体5包括两层结构，下层为第一屏蔽室52，上层为第二屏蔽室54，该第一屏蔽室52与第二屏蔽室54之间使用第一屏蔽板51隔开。所述第二屏蔽室54顶面为第二屏蔽板53。在所述第一屏蔽室52一侧设置有第三屏蔽室16及进出线导轮17。所述第一屏蔽门6与所述第二屏蔽门14设置于所述屏蔽体5的第一屏蔽室52的两侧，第一屏蔽门6与第二屏蔽门14结合于第一屏蔽室52后该第一屏蔽室52封闭。所述电子加速器1本体安装在第二屏蔽板53上，所述电子加速器真空系统3设置于第二屏蔽室54内。所述电子加速器1的束流引出口4穿过所述屏蔽体5的第一屏蔽板51进入第一屏蔽室52，并具有将第一屏蔽室52与第二屏蔽室54隔开的作用。在屏蔽体5的下方设置有屏蔽门槛13。所述第一束下辊筒组件7为悬臂式结构，包括主动脚轮10及从动脚轮11，所述主动脚轮10通过动力部分8驱动，能够带动所述第一屏蔽门6与第一屏蔽室52关闭或打开。第二束下辊筒组件15具有类似结构，为悬臂式结构，包括主动脚轮10及从动脚轮11，所述主动脚轮10通过动力部分8驱动，能够带动所述第二屏蔽门14与第一屏蔽室52关闭或打开。在上述主动脚轮10与从动脚轮11下设置有导轨9，所述主动脚轮10及从动脚轮11均可以在导轨9上运动。动力部分8均设置有第一、第二屏蔽门6、14外，方便安装及维护。且所述第一束下辊筒组件7及第二束下辊筒组件15均采用4辊结构，采用下压穿线结构设置线缆18，请配合参阅图3所示。请继续参阅图1及图2所示，在第二屏蔽板53上还设置了便于电子加速器1检修的检修平台2，在第一、第二屏蔽门6/14的里外两侧设置有束下辊筒组件的回转轴承座，动力部分设置在屏蔽门外侧，保证动力部分不会受射线及运行时产生的臭氧影响而降低寿命；所述的第一束下辊筒组件7和第二束下辊筒组件15均采用四辊平行布置，采用四辊同直径高低错位布置或外侧辊筒大于内侧二辊不等径同一高度布置，采用下压式穿线方式能够有效降低屏蔽体的高度，降低用材，从而降低成本。屏蔽门的工作位置和最大开启位置设置有行程开关，用于限定屏蔽门开启的极限位置；所述的屏蔽体5前端设置有进出线孔，进出线孔需采用上下高度错位的2道进出线孔来防止射线泄漏出来，因此设置了第三屏蔽室16，在所述的第三屏蔽室16的内外进出线口的位置均安装有进出线导轮17，便于线缆18经过多次转弯进入到屏蔽体5内部，缠绕到第一、第二束下辊筒组件7、15上，进行辐照加工过程。综上所述，本技术提供的一种双束下线缆辐照自屏蔽电子加速装置，采用自屏蔽结构，双屏蔽门双束下辊筒，能有效屏蔽射线，并能够实现2种不同规格、不同剂量的线缆辐照。需要强调的是：以上仅是本技术的较佳实施例而已，并非对本技术作任何形式上的限制，凡是依据本技术的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本技术技术方案的范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种双束下线缆辐照自屏蔽电子加速装置，其特征在于，包括电子加速器、屏蔽体、第一屏蔽门、第二屏蔽门，第一束下辊筒组件及第二束下辊筒组件，所述电子加速器的束流引出口穿过所述屏蔽体的第一屏蔽板进入第一屏蔽室，所述第一屏蔽门与所述第二屏蔽门设置于所述屏蔽体的第一屏蔽室的两侧，所述第一束下辊筒组件能够带动所述第一屏蔽门与第一屏蔽室关闭或打开，所述第二束下辊筒组件能够带动所述第二屏蔽门与所述第一屏蔽室关闭或打开。/n

【技术特征摘要】
1.一种双束下线缆辐照自屏蔽电子加速装置，其特征在于，包括电子加速器、屏蔽体、第一屏蔽门、第二屏蔽门，第一束下辊筒组件及第二束下辊筒组件，所述电子加速器的束流引出口穿过所述屏蔽体的第一屏蔽板进入第一屏蔽室，所述第一屏蔽门与所述第二屏蔽门设置于所述屏蔽体的第一屏蔽室的两侧，所述第一束下辊筒组件能够带动所述第一屏蔽门与第一屏蔽室关闭或打开，所述第二束下辊筒组件能够带动所述第二屏蔽门与所述第一屏蔽室关闭或打开。


2.如权利要求1所述的双束下线缆辐照自屏蔽电子加速装置，其特征在于，所述屏蔽体为两层结构，所述电子加速器安装在第二屏蔽板上，所述电子加速器真空系统设置于第二屏蔽室内。


3.如权利要求1所述的双束下线缆辐照自屏蔽电子加速装置，其特征在于，所述第一屏蔽室一侧设置有第三屏蔽室及进出线导轮。


4.如权利要求1所述的双束下线缆辐照自屏蔽电子加速装置，其特征在于，所述第一束下辊筒组件为悬臂式结构，包括主动脚轮及从动脚...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱焕铮，李健辉，陈川红，朱晓，丁绍春，叶梦超，詹诗鹏，
申请(专利权)人：中广核达胜加速器技术有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32