一种用于3英寸大片光刻提拉法的烘胶治具制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于3英寸大片光刻提拉法的烘胶治具，包括呈矩形状的底板，分别安装于所述底板四角下方的四个支脚，多个沿着所述底板的长度方向间隔设置于所述底板两侧边缘的第一V形定位块和第二V形定位块以及一个沿着所述底板的长度方向固定安装于所述底板中部上方的直角靠板，其中，所述第一V形定位块、第二V形定位块和直角靠板固定有3英寸大片，且所述第一V形定位块、第二V形定位块和所述3英寸大片与所述直角靠板的接触点间形成等腰三角形。本实用新型专利技术能够有效防止粘胶现象和降低破片率。

A glue baking tool for 3-inch wafer photolithography

The utility model discloses a glue baking jig for 3-inch large-scale photolithography lifting method, which comprises a rectangular bottom plate, four legs respectively installed under the four corners of the bottom plate, a plurality of first V-shaped positioning blocks and second V-shaped positioning blocks spaced at the two sides of the bottom plate along the length direction of the bottom plate, and a fixed installation along the length direction of the bottom plate A right angle backup plate above the middle of the bottom plate, wherein the first V-shaped positioning block, the second V-shaped positioning block and the right angle backup plate are fixed with 3-inch large plates, and an isosceles triangle is formed between the first V-shaped positioning block, the second V-shaped positioning block and the contact point between the 3-inch large plate and the right angle backup plate. The utility model can effectively prevent glue phenomenon and reduce fragment rate.

【技术实现步骤摘要】
一种用于3英寸大片光刻提拉法的烘胶治具
本技术属于烘胶治具
，尤其是涉及一种用于3英寸大片光刻提拉法的烘胶治具。
技术介绍
提拉法又称丘克拉斯基法，是丘克拉斯基技术的从熔体中提拉生长高质量单晶的方法。随着科技的进步，提拉法进一步发展为一种更为先进的定型晶体生长方法—熔体导模法，它是控制晶体形状的提拉法，即直接从熔体中拉制出具有各种截面形状晶体的生长技术，这不仅免除了工业生产中对人造晶体所带来的繁重的机械加工，还有效的节约了原料和降低了生产成本，因此得到了广泛的应用。在提拉法的使用过程中经常需要对晶体进行烘胶处理，烘胶的作用是使生胶硬度减小、结晶熔化，以便于进行切割和塑炼加工，同时烘胶还能去除其中的水分等。其中，烘胶温度不宜过高，否则会影响胶块的物理机械性能。烘胶必须达到胶块内外温度均匀，否则会影响塑炼质量和效率。目前，烘胶治具对大片采用的固定方式往往使得大片之间相互粘连，并且不容易脱离烘胶治具，从而导致较高的破片率。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种用于3英寸大片光刻提拉法的烘胶治具，旨在有效防止粘胶现象和降低破片率。本技术实施例提供了一种用于3英寸大片光刻提拉法的烘胶治具，包括呈矩形状的底板，分别安装于所述底板四角下方的四个支脚，多个沿着所述底板的长度方向间隔设置于所述底板两侧边缘的第一V形定位块和第二V形定位块以及一个沿着所述底板的长度方向固定安装于所述底板中部上方的直角靠板，其中，所述第一V形定位块、第二V形定位块和直角靠板固定有3英寸大片，且所述第一V形定位块、第二V形定位块和所述3英寸大片与所述直角靠板的接触点间形成等腰三角形。进一步地，所述直角靠板还包括沿着所述直角靠板的长度方向且靠近所述底板一侧开设的多个方形通孔。进一步地，所述直角靠板还包括沿着所述直角靠板的长度方向且远离所述底板一侧开设的多个第一圆形通孔，其中，所述第一圆形通孔的直径小于所述方形通孔的长度。进一步地，所述底板在所述直角靠板的两侧开设有多个第二圆形通孔，所述多个第二圆形通孔沿着所述底板的长度方向间隔设置。进一步地，所述第一V形定位块和第二V形定位块的V形夹角分别在45-60度之间。进一步地，所述四个支脚分别通过第一内六角螺栓固定安装于所述底板的四角下方。进一步地，所述多个第一V形定位块和第二V形定位块分别通过第二内六角螺栓固定安装于所述底板上。进一步地，所述底板由聚四氟乙烯和镀铝不锈钢材料制成而成。进一步地，所述3英寸大片包括晶体片、非晶体片、陶瓷片或金属片。综上所述，本技术将多个第一V形定位块和第二V形定位块沿着所述底板的长度方向间隔设置于所述底板的两侧边缘以及将一个直角靠板沿着所述底板的长度方向固定安装于所述底板的中部上方。其中，所述第一V形定位块、第二V形定位块和直角靠板固定有3英寸大片，且所述第一V形定位块、第二V形定位块和所述3英寸大片与所述直角靠板的接触点间形成等腰三角形。由于第一V形定位块和第二V形定位块能够减少所述3英寸大片与烘胶治具的接触面积，从而能够有效防止粘胶现象和降低破片率。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本技术的某些实施例，因此不应该看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。图1是本技术实施例提供的一种用于3英寸大片光刻提拉法的烘胶治具的结构示意图。图2是本技术实施例提供的一种应用于图1中的直角靠板的放大结构示意图。图3是本技术实施例提供的一种应用于图1中的第一V形定位块和第二V形定位块的结构示意图。图标：底板100；支脚200；第一V形定位块300；第二V形定位块400；直角靠板500；3英寸大片600；方形通孔101；第一圆形通孔102；第二圆形通孔103；第一内六角螺栓104；第二内六角螺栓105。具体实施方式为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。同时，在本技术的描述中，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。如图1-图3所示，本技术实施例提供的一种用于3英寸大片光刻提拉法的烘胶治具可以包括底板100、支脚200、第一V形定位块300、第二V形定位块400和直角靠板500。所述3英寸大片主要包括晶体片、非晶体片、陶瓷片或金属片。其中，所述底板100呈矩形状。所述支脚200的数量为四个，且分别安装于所述底板100的四角下方。所述第一V形定位块300的数量为多个，且多个所述第一V形定位块300沿着所述底板100的长度方向间隔设置于所述底板100的两侧边缘。所述第二V形定位块400的数量为多个，且多个所述第二V形定位块400沿着所述底板100的长度方向间隔设置于所述底板100的两侧边缘。相邻设置的所述第一V形定位块300和第二V形定位块400能构成一个定位块组合。所述直角靠板500的数量为一个，且沿着所述底板100的长度方向固定安装于所述底板100的中部上方。优选地，所述四个支脚200分别通过第一内六角螺栓104固定安装于所述底板100的四角下方。以及所述多个第一V形定位块300和第二V形定位块400分别通过第二内六角螺栓105固定安装于所述底板100上。因此，所述烘胶治具的结构简单，具备易拆卸以及加工难度小等优点。另外，所述底板100由聚四氟乙烯和镀铝不锈钢材料制成而成，从而具备硬度高和耐高温等优点。本实施例中，所述第一V形定位块300、第二V形定位块400和直角靠板500固定有3英寸大片600。所述第一V形定位块300、第二V形定位块400和所述3英寸大片600与所述直角靠板500的接触点间形成等腰三角形。由于所述第一V形定位块300和第二V形定位块400能够减少所述3英寸大片600与烘胶治具的接触面积，从而能够有效防止粘胶现象和降低破片率。为了提高所述第一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于3英寸大片光刻提拉法的烘胶治具，其特征在于，包括呈矩形状的底板，分别安装于所述底板四角下方的四个支脚，多个沿着所述底板的长度方向间隔设置于所述底板两侧边缘的第一V形定位块和第二V形定位块以及一个沿着所述底板的长度方向固定安装于所述底板中部上方的直角靠板，其中，所述第一V形定位块、第二V形定位块和直角靠板固定有3英寸大片，且所述第一V形定位块、第二V形定位块和所述3英寸大片与所述直角靠板的接触点间形成等腰三角形。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于3英寸大片光刻提拉法的烘胶治具，其特征在于，包括呈矩形状的底板，分别安装于所述底板四角下方的四个支脚，多个沿着所述底板的长度方向间隔设置于所述底板两侧边缘的第一V形定位块和第二V形定位块以及一个沿着所述底板的长度方向固定安装于所述底板中部上方的直角靠板，其中，所述第一V形定位块、第二V形定位块和直角靠板固定有3英寸大片，且所述第一V形定位块、第二V形定位块和所述3英寸大片与所述直角靠板的接触点间形成等腰三角形。


2.根据权利要求1所述的用于3英寸大片光刻提拉法的烘胶治具，其特征在于，所述直角靠板还包括沿着所述直角靠板的长度方向且靠近所述底板一侧开设的多个方形通孔。


3.根据权利要求2所述的用于3英寸大片光刻提拉法的烘胶治具，其特征在于，所述直角靠板还包括沿着所述直角靠板的长度方向且远离所述底板一侧开设的多个第一圆形通孔，其中，所述第一圆形通孔的直径小于所述方形通孔的长度。


4.根据权利要求1所述的用于3英寸大片光刻提拉法的烘...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶嘉豪，陆旺，李辉，
申请(专利权)人：成都泰美克晶体技术有限公司，
类型：新型
国别省市：四川;51